【課題】層数を低減し、製造コストを抑え、かつ点灯異常を抑制して製造歩留まりの向上を図ることのできる液晶表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】画素部（ａ）と周辺部（ｃ）とを有する基板を用いた液晶表示装置の製造方法において、ゲート絶縁膜３上に半導体層４と画素電極５を形成した後、基板上に導電膜を平面ベタに形成し、ホトレジストパターンをマスクとして、画素部（ａ）の半導体層４と画素電極５とを電気的に接続するドレイン電極を形成すると共に、画素部（ａ）と周辺部（ｃ）における半導体層４を露出させ、周辺部の半導体層４をエッチング量の指標として用いて画素領域（ａ）の半導体層４をエッチングする。 （もっと読む）

【課題】 信頼性及び色再現性の高い電子装置を提供する。
【解決手段】 単結晶半導体基板１１上にスイッチング用ＦＥＴ２０１及び電流制御用ＦＥＴ２０２を形成し、電流制御用ＦＥＴ２０２にＥＬ素子２０３が電気的に接続された画素構造とする。電流制御用ＦＥＴ２０２は画素間での特性ばらつきが極めて小さく、色再現性の高い画像を得ることができる。電流制御用ＦＥＴ２０２にホットキャリア対策を施すことで信頼性の高い電子装置が得られる。 （もっと読む）

【課題】低コストで高い画像品質を実現する。
【解決手段】液晶パネル２には、赤ＣＦＲ、緑ＣＦＧ、青ＣＦＢの色レジスト層と遮光層（ブラックマトリクス）５０とが積層されている。各サブピクセル４Ｓは、遮光層５０で区画されており、このサブピクセル４Ｓは、３行２列で１画素４Ｐｉｘを形成している。赤ＣＦＲ、緑ＣＦＧ、青ＣＦＢの各色レジストは、サブピクセル４Ｓの行毎に塗り分けられており、個々の色レジストは、Ｘ軸方向にストライプ状の形状となっている。各サブピクセル４Ｓの列に設けられる３本のデータ線Ｄ１、Ｄ２、Ｄ３は、１本が遮光層５０の下に配置され、それ以外の２本は遮光層５０の開口部を斜めに分断するように等間隔に配置されている。 （もっと読む）

【課題】管理コストを低減し、さらに、製造工程を削減して製造原価のコストダウンを図ることの可能な半導体デバイス及び薄膜トランジスタ、並びに、それらの製造方法の提案を目的とする。
【解決手段】所定の材料からなり、活性層４１となる半導体と、所定の材料と同じ組成の材料からなり、ソース電極５１、ドレイン電極５３及び画素電極５５の少なくとも一つとなる導電体とを備えた薄膜トランジスタ２の製造方法であって、非晶質の所定の材料からなる被処理体及び導電体（ソース電極５１、ソース配線５２、ドレイン電極５３、ドレイン配線５４及び画素電極５５）を一括成膜し、さらに一括形成する工程と、形成された被処理体を結晶化させて活性層４１とする工程とを有する方法としてある。 （もっと読む）

【課題】低いエネルギー付与でπ電子共役化合物を得る製造方法、及びこの技術を利用し、難溶性π電子共役系化合物の連続した薄膜の効率的な製造方法を提供する。更に該薄膜の有機電子デバイスへ応用する。
【解決手段】π電子共役系化合物前駆体（Ｉ）を含む溶媒の塗工液を基材に塗布して形成された塗工膜より、式（II）で示される脱離性置換基を脱離させ（Ｉａ）で示されるπ電子共役系化合物を含有する膜状体を生成することを特徴とする膜状体の製造方法。


［式（Ｉ）、（Ｉａ）、（II）中、ＸおよびＹは水素原子もしくは脱離性置換基を表す。Ｑ_２乃至Ｑ_５はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子または、１価の有機基であり、Ｑ_１とＱ_６は水素原子、ハロゲン原子または、前記脱離性置換基以外の一価の有機基である。Ｑ_１乃至Ｑ_６は隣り合った基同士でそれぞれ結合して環を形成していてもよい。］ （もっと読む）

【課題】 絶縁性基板上の接続端子に駆動ＩＣを直接実装する表示装置において、生産コストアップを生じることなく、金属配線の露出による絶縁性低下、腐食を発生させることもなく、高い接続信頼性を得る。
【解決手段】 絶縁性基板１上に形成された金属配線と、金属配線上に形成された無機絶縁膜１２と、無機絶縁膜上に形成された有機樹脂膜１３と、金属配線上の無機絶縁膜１２および有機樹脂膜１３を除去した部分に形成された透明導電膜１０と、絶縁性基板１上の表示領域外の駆動ＩＣ４実装領域に形成された接続端子７と、表示領域に信号を供給するために、異方性導電膜５によって接続端子７と接続される駆動ＩＣ４のバンプ９とを備えた表示装置であって、駆動ＩＣ４実装領域において、金属配線上以外の領域の無機絶縁膜１２と有機樹脂膜１３とを除去したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】画像保持性、画像品質、低コスト、安全性、フレキシブル性を備えた外部駆動型の書換え可能な記録媒体などの提供。
【解決手段】基材と、前記基材に内包された画像記録層とを有し、前記画像記録層が、電気泳動粒子及び磁気泳動粒子の少なくともいずれかと、分散媒と、熱可逆性ゲル化剤とを含有し、前記分散媒が、前記基材と接しており、画像の記録及び消去が、外部の画像記録装置により繰返し可能である書換え可能な記録媒体である。 （もっと読む）

【課題】大掛かりな製造装置を必要とすることなく、簡素、簡易な方法にて薄膜素子能動部を製造することができる薄膜素子の製造方法を提供する。
【解決手段】薄膜素子の製造方法は、支持基板２０上に樹脂材料から成る第１基材２１を塗布法にて形成した後、第１基材２１上に、熱によって又はエネルギー線の照射によって硬化する樹脂から成る第２基材２２を形成し、次いで、第２基材上に薄膜素子能動部３０を形成し、その後、支持基板２０を第１基材２１から剥離する各工程を備えており、第１基材２１を構成する樹脂材料のガラス転移温度は１８０゜Ｃ以上である。 （もっと読む）

【課題】光取り出し効率の向上と低透湿性の両立を可能とする発光装置、これを備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】素子基板２３Ａ上に形成された有機発光層１２を含む複数の画素と、複数の画素を覆う封止膜１７と、封止膜１７を介して画素を覆うマイクロレンズ１８と、複数のマイクロレンズ１８を覆う平坦化層２０と、平坦化層２０上において画素ごとに形成されたカラーフィルター層２２とを少なくとも備え、マイクロレンズ１８の屈折率が、平坦化層２０の屈折率よりも大きいことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低コストかつ簡易なプロセスで製造することが可能な表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】表示装置１Ａは、基板１１上にゲート電極１２ａを形成した後、積層膜２４の形成工程において、ゲート電極１２ａ上にゲート絶縁膜１３を介して、半導体層１４、第１保護膜１５、第２保護膜１６、平坦化膜１７、ソース・ドレイン電極層１８および画素分離膜１９を、フォトリソグラフィ技術を用いて形成する。この後、有機ＥＬ層を含む機能層２０と共通電極２１とをこの順に形成する。積層膜２４のうちの少なくとも一部において２層以上を一括してパターニングすることにより、各層毎にパターニングする場合に比べ、使用するフォトマスクの枚数が減る。フォトレジストなどの使用材料が少なくなり、工程数も削減される。 （もっと読む）

【課題】小型で２Ｄあるいは３Ｄの表示が可能な有機ＥＬ装置、およびこれを備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】有機ＥＬ装置１００Ａは、素子基板１０上に規則的に配置され、素子基板１０側から順に積層された第１電極としての画素電極２１と、発光機能層２５と、透明導電性を有する第２電極としての陰極２７とを備えた有機ＥＬ素子３０と、有機ＥＬ素子３０を封止するガスバリア層とを有し、ガスバリア層の上層に設けられ、有機ＥＬ素子３０の発光面に対する法線方向からの平面視で互いに対向する一対の傾斜面と、一対の傾斜面のそれぞれに設けられ、有機ＥＬ素子３０からの出射光を、第１の方向と、第１の方向と異なる第２の方向とに反射する反射層５１と、を有する。 （もっと読む）

【課題】処理室内に溜まった処理液の泡を、簡単な設備を用いて効果的に除去する。
【解決手段】吸引口３０ｆ及び排出口３０ｇと、圧縮空気導入口３０ｈとを有し、圧縮空気を圧縮空気導入口３０ｈから排出口３０ｇへ流し、吸引口３０ｆと排出口３０ｇとの間に生じた圧力差により吸引口３０ｆから吸引した物を、圧縮空気と共に排出口３０ｇから排出するエジェクタ３０を用い、処理室２０内に溜まった処理液の泡を、第１の配管３１を介して吸引口３０ｆから吸引し、吸引した処理液の泡を圧縮空気の圧力でつぶして液化し、液化した処理液を圧縮空気と共に排出口３０ｇから第２の配管３２を介して処理室２０内へ吐出する。 （もっと読む）

【課題】安価な表示装置およびそれを用いた電気器具を提供する。
【解決手段】同一の絶縁体上に画素部および駆動回路を含む表示装置において、駆動回路
は、並列に接続されたｐチャネル型ＴＦＴ１０４〜１０６および直列に接続されたｐチャ
ネル型ＴＦＴ１０７〜１０９を含む複数のＮＡＮＤ回路を有したデコーダ１００と、三つ
のｐチャネル型ＴＦＴ１１４〜１１６を含む複数のバッファを有したバッファ部１０１と
を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガスリーク（ｌｅａｋ）の発生が少なく、また抵抗上昇が抑制され、且つ表面クラック又は損傷の発生が少ないアドレス電極を提供する。
【解決手段】アルミニウム含有層及び銀含有層が積層された二重層を含む、アドレス電極。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置の作製工程においてマスク枚数を追加することなく、反射電極の散
乱構造を作製する。
【解決手段】層間膜に感光性樹脂膜を用いる。フォトマスク１００の第１の透光部１０１
を通して露光してパターニングしてコンタクトホール１０３〜１０６を得る。フォトマス
ク１００の第２の透光部１０２を通して露光すると、感光性樹脂膜が解像不能となり、感
光性樹脂膜の表面に凹凸ができる。これにより一枚のフォトマスクでコンタクトホール形
成と層間膜表面に凹凸を有する散乱構造とができる。 （もっと読む）

【課題】トランジスタのしきい値電圧の変動を抑制し、表示パネルに実装するドライバＩ
Ｃの接点数を削減し、表示装置の低消費電力化を達成し、表示装置の大型化又は高精細化
を達成することを目的とする。
【解決手段】劣化しやすいトランジスタのゲート電極を、第１のスイッチングトランジス
タを介して高電位が供給される配線、及び第２のスイッチングトランジスタを介して低電
位が供給される配線に接続し、第１のスイッチングトランジスタのゲート電極にクロック
信号を入力し、第２のスイッチングトランジスタのゲート電極に反転クロック信号を入力
することで、劣化しやすいトランジスタのゲート電極に高電位、又は低電位を交互に供給
する。 （もっと読む）

【課題】複数のマイクロカプセルを含むデータ表示層に外部から力が加えられた場合でも、マイクロカプセルが移動したり、変形したり又は破壊されたりすることを防止できるようにした電気光学装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】塗工基板１０と、塗工基板１０と向かい合うように配置されたアレイ基板３０と、塗工基板１０とアレイ基板３０との間に配置された複数のマイクロカプセル２０と、アレイ基板３０の一方の面３０ａ側に固定された複数の球状スペーサー４０と、を備え、複数の球状スペーサー４０の各々の直径は、複数のマイクロカプセル２０の平均粒径と同じ大きさとなっている。複数の球状スペーサー４０の存在により、塗工基板１０とアレイ基板３０との間の間隔（スペース）ｄを複数のマイクロカプセル２０の平均粒径と同じ大きさに保持することができる。 （もっと読む）

【課題】 製造コストが低減し、製造工程が単純化するディスプレイパネル及びこれを含むディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】 本発明に係る液晶層を含むディスプレイパネルは、相対向して配置される第１基板及び第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間のいずれか一面上に形成され、入射する光の第１偏光成分が、互いに異なるカラーの光として出射されるように、互いに異なるピッチで配列されている第１金属線形格子を含むカラーフィルタ偏光層と、前記第１基板及び前記第２基板との間の他面上に形成されている第２金属線形格子を含む偏光層と、を含み、前記第１金属線形格子に含まれている金属と前記第２金属線形格子に含まれている金属の特性は、互いに異なる。 （もっと読む）

【課題】精細かつ高スループットの導電性素子を提供する。
【解決手段】導電性素子は、第１の波面と第２の波面とを有する基体と、第１の波面上に形成された、２層以上の層が積層された積層膜とを備える。積層膜が、導電パターン部を形成する。第１の波面および第２の波面が、０≦（Ａｍ１／λｍ１）＜（Ａｍ２／λｍ２）≦１．８（但し、Ａｍ１：第１の波面の振動の平均幅、Ａｍ２：第２の波面の振動の平均幅、λｍ１：第１の波面の平均波長、λｍ２：第２の波面の平均波長）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】接触不良を低減し、コンタクト抵抗の増大を抑制し、開口率が高い液晶表示装置
を得ることを課題とする。
【解決手段】基板と、前記基板上に設けられ、ゲート配線と、ゲート絶縁膜と、島状半導
体膜と、ソース領域と、ドレイン領域を有する薄膜トランジスタと、前記基板上に設けら
れ、前記ソース領域に接続されたソース配線と、前記基板上に設けられ、前記ドレイン領
域に接続されたドレイン電極と、前記基板上に設けられた補助容量と、前記ドレイン電極
に接続された画素電極と、前記薄膜トランジスタ及び前記ソース配線上に形成された保護
膜を有し、前記保護膜は、前記ゲート配線および前記ソース配線とで囲まれた開口部を有
し、前記薄膜トランジスタ及び前記ソース配線は保護膜に覆われ、前記補助容量は保護膜
に覆われていない液晶表示装置に関する。 （もっと読む）