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Fターム[5C094BA03]の内容

要素組合せによる可変情報用表示装置 (81,180) | 表示素子 (16,797) | 画素回路を有する表示素子 (4,890) | 画素毎にアクティブ素子を有するもの (4,834) | 画素毎に3端子型素子(FET、TFT) (4,665)

Fターム[5C094BA03]に分類される特許

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【課題】隣接する画素間のリーク電流を低減することの可能な表示パネル、表示装置および電子機器を提供する。
【解決手段】表示パネルは、表示領域に複数の画素を備えている。各画素は、有機EL素子と、有機EL素子を駆動する画素回路とを有している。有機EL素子は、アノード電極と、カソード電極と、アノード電極とカソード電極との間に設けられた有機層とを有している。アノード電極の側面は、当該アノード電極のカソード電極側の断面積が当該アノード電極のカソード電極とは反対側の断面積よりも大きくなるような構造となっている。 (もっと読む)


【課題】OLED130における特性がばらつきに起因する表示ムラを抑える。
【解決手段】画素回路110は、ゲート・ソース間の電圧に応じた電流を供給するトランジスター121と、トランジスター121のゲート・ソース間の電圧を保持する保持容量143と、供給された電流に応じた輝度で発光するOLED130と、トランジスター121とOLED130との間に電気的に介挿されたトランジスター126と、走査線12に供給された走査信号に応じて、データ線14に供給されたデータ信号に応じた電位をトランジスター121のゲートノードgに供給するトランジスター122とを含む。OLED130を発光させるとき、トランジスター126のゲートを、走査信号の論理レベルにおけるHレベルとLレベルとの中間電位とする。 (もっと読む)


【課題】工程数が少なく、且つ、材料の利用効率が向上した駆動用回路基板およびその製造方法並びに表示装置および電子機器を提供する。
【解決手段】本開示の表示装置は、一対のソース・ドレイン電極と、チャネル領域を形成すると共に、ソース・ドレイン電極に接して設けられた有機半導体層と、ソース・ドレイン電極まで貫通する貫通孔を有すると共に、有機半導体層およびソース・ドレイン電極上に設けられた少なくとも1層からなる絶縁層と、チャネル領域に対応する位置に設けられたゲート電極と、貫通孔を介して前記ソース・ドレイン電極に電気的に接続されると共に、ゲート電極と同一材料、且つ、同一膜厚で絶縁層上に設けられた画素用電極とを備える。 (もっと読む)


【課題】液晶装置等の電気光学装置において、保持容量を十分に確保することができ、高品質な画像を表示可能とする。
【解決手段】ゲート電極30gと電気的に接続された走査線3aと、データ線側ソースドレイン領域30sと電気的に接続されたデータ線6aと、画素電極側ソースドレイン領域30dと電気的に接続された画素電極27と、容量線3bに電気的に接続された第1容量電極16aと、第1容量電極16aと対向して設けられた第2容量電極16cと、第1容量電極16aと第2容量電極16cとに挟持された誘電体層16bと、を有する容量素子16と、を備え、層間絶縁膜11eに設けられた複数の第1コンタクトホールCNT4を介して第1容量電極16aと容量線3bとは電気的に接続される。 (もっと読む)


【課題】開口率の高い表示装置又は素子の面積の大きい半導体装置を提供することを課題
とする。
【解決手段】隣接する画素電極(又は素子の電極)の間に設けられた配線との下方にマル
チゲート構造のTFTのチャネル形成領域を設ける。そして、複数のチャネル形成領域の
チャネル幅の方向を前記画素電極の形状における長尺方向と平行な方向とする。また、チ
ャネル幅の長さをチャネル長の長さよりも長くすることでチャネル形成領域の面積を大き
くする。 (もっと読む)


【課題】互いに電気的に接続された薄膜トランジスタの第2電極と配線層との間の電食の発生を防止して、安定した電気特性を得ることできる表示装置およびその製造方法、並びに電子機器を提供する。
【解決手段】薄膜トランジスタおよび配線層を備え、前記薄膜トランジスタは、制御電極
と、前記制御電極と対向する半導体層と、前記半導体層に電気的に接続され、光透過性材
料からなる第1電極と、前記光透過性材料よりも低抵抗の金属膜を含むと共に、前記半導
体層および前記配線層にそれぞれ電気的に接続された第2電極とを備え、前記金属膜の構
成材料と前記配線層の少なくとも一部を構成する導電材料とのイオン化傾向の差は、前記
光透過性材料と前記導電材料とのイオン化傾向の差よりも小さい表示装置。 (もっと読む)


【課題】有機電子デバイスにおいて、仕事関数を制御することにより、電極から有機半導体への電荷注入障壁をより小さくすることが可能となる銀ナノ粒子を適用した電極及びそれを用いた有機電子デバイスを提供する。
【解決手段】平均粒径が30nm以下であり、沸点が100〜250℃の範囲内にある中短鎖アルキルアミンと沸点が100〜250℃の範囲内にある中短鎖アルキルジアミンを主成分とする保護分子により覆われた銀ナノ粒子を有機電子デバイス用電極として用いる。 (もっと読む)


【課題】本発明では、信頼性の高い表示装置を低いコストで歩留まり良く製造するこ
とができる技術を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、画素電極層上にスペーサを形成し、電界発光層形成時のマス
クから画素電極層を保護する。また、透水性を有する有機材料を含む層を表示装置の中に
シール材で封止し、かつシール材と有機材料を含む層が接しないため、発光素子の水等の
汚染物質による劣化を防ぐ事ができる。シール材は表示装置の駆動回路領域の一部に形成
されるため表示装置の狭額縁化も達成できる。 (もっと読む)


【課題】反射表示において明るさが低下せず、表示品質が優れた画像表示装置及びそれを使用した携帯端末を提供する。
【解決手段】第1視点用の画像を表示する画素51及び第2視点用の画像を表示する画素52を含む表示素子13が複数配列され、前記画素51,52は光を透過する透過表示領域511,521と、外光を反射する反射表示領域512、522を有し、前記画素51,52から出射した光を相互に異なる方向に振り分ける光学手段3を備えた表示装置において、前記表示単位内の反射表示領域は画像振分方向と垂直な軸に対して非対称に配置されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】額縁領域を大きさを抑えつつ、製造時に発生する静電気による静電破壊を防ぐダミー画素を有する表示装置を提供する。
【解決手段】表示装置は、薄膜トランジスタを含む画素を複数有し、画像を表示するための領域である表示領域(260)と、表示領域の外側に形成され、ダミー画素を複数有するダミー画素領域(270)と、を備え、ダミー画素(310)は、薄膜トランジスタのゲート信号線と平行なダミーゲート信号線(311)と、ダミーゲート線と絶縁層を介して交差する半導体層(313)と、を有し、半導体層には、一の導体層(312)のみが接続される。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体膜の被形成面近傍に含まれる不純物の濃度を低減する。また、酸化物半導体膜の結晶性を向上させる。該酸化物半導体膜を用いることにより、安定した電気特性を有する半導体装置を提供する。
【解決手段】ゲート電極と、ゲート電極を覆い、シリコンを含む酸化物を含むゲート絶縁膜と、ゲート絶縁膜と接し、少なくとも前記ゲート電極と重畳する領域に設けられた酸化物半導体膜と、酸化物半導体膜と接続するソース電極およびドレイン電極と、を有し、酸化物半導体膜における、ゲート絶縁膜との界面からの厚さが5nm以下の第1の領域において、シリコンの濃度が1.0原子%以下であり、酸化物半導体膜の第1の領域以外の領域に含まれるシリコンの濃度は、第1の領域に含まれるシリコンの濃度より小さく、少なくとも第1の領域内に、結晶部を含む半導体装置である。 (もっと読む)


【課題】輝度むらを低減することが可能な表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板に、酸化物半導体層を有する薄膜トランジスタを形成する工程と、前記薄膜トランジスタの上層に複数の表示素子よりなる表示領域を形成する工程とを含み、前記酸化物半導体層を形成する工程を、複数の分割部を平面状に継ぎ合わせた酸化物半導体よりなるターゲットと前記基板とを対面させて、スパッタリング法により行い、前記ターゲットの互いに平行な二本の継ぎ目の間隔を、前記継ぎ目に直交する方向において前記表示領域に生じる輝度分布の幅以下とする表示装置の製造方法。 (もっと読む)


【課題】開口部をシンプルにしてシュリンクの問題を解決する。
【解決手段】駆動トランジスタと、スイッチングトランジスタと、消去用トランジスタと、を画素内に有する3トランジスタ型の発光装置の場合において、スイッチング用TFT5505と消去用TFT5506の2つのTFTを、第1のゲート信号線5502と第2のゲート信号線5503の間に配置する。このように配置することで開口率を上げ、開口部もシンプルな形状にすることが出来る。 (もっと読む)


【課題】2層構造の走査線を、絶縁膜を介して映像信号線が乗り越える際の、映像信号線の断線を防止する。
【解決手段】映像信号線が絶縁膜を介して走査線を乗り越える構成となっている。走査線10はAlCu合金を下層11とし、MoCr合金を上層12とする2層構造である。上層/下層の膜厚比を、0.4以上、1.0以下とすることによって、走査線10の断面において、電池作用によって上層12のエッチング速度が遅くなって、上層12の庇部が形成されることを防止する。これによって、走査線10に生じた庇部に起因して、映像信号線が走査線10との交差部において断線することを防止する。 (もっと読む)


【課題】表示品質を向上させることが可能な電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器を提供する。
【解決手段】液晶装置100は、TFT30と、TFT30に電気的に接続された容量素子16とを備え、容量素子16は、TFT30と第2層間絶縁層11cを介して形成された第1容量電極16aと、第1容量電極16aに第1誘電体層16bを介して対向配置され、TFT30の半導体層30aに第2層間絶縁層11cに形成されたコンタクトホールCNT53を介して電気的に接続された第2容量電極16cとを有し、第2容量電極16cは、第1導電層16c1と第1導電層16c1上に積層された第2導電層16c2を有し、第1導電層16c1は、コンタクトホールCNT53と重なる領域が除去されてなり、第2導電層16c2と半導体層30aとがコンタクトホールCNT53を介して電気的に接続される。 (もっと読む)


【課題】データ配線が銀や銀合金により形成されており、またデータ配線に、ゲート絶縁層によって被覆されておらずむき出しとなっている部分があった場合でも、当該むき出しとなっている部分でマイグレーション現象が生じることがないトップゲート型アクティブマトリックスを提供する。
【解決手段】基材と、前記基材上に直接または間接的に形成された、ソース電極、ドレイン電極、半導体層、ゲート絶縁層、ゲート電極、層間絶縁層、画素電極、および前記ソース電極と接続したデータ配線と、を有するトップゲート型アクティブマトリックス基板において、前記ソース電極と前記データ配線をともに銀または銀合金で形成し、前記ゲート電極を銀または銀合金以外で形成し、前記データ配線においてむき出しとなっている部分をゲート電極と同じ材質からなる被覆層によって被覆する。 (もっと読む)


【課題】実質的な開口率をより一層向上できるMVAモードの液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置は、画素毎にTFT214と該TFT214に電気的に接続された画素電極215とを有している。TFT214は、ゲートバスライン211及びデータバスライン212に接続されている。1つの画素は4つの領域に分割されており、画素電極215には各領域毎に異なる方向に延びる微細電極部215bが設けられている。また、微細電極部215bの基端側の微細電極部間の領域の形状が、微細電極部間の領域の中心線に対し線対称となる形状となっている。 (もっと読む)


【課題】高開口率を有し、容量の大きな保持容量を有する表示装置を提供する。
【解決手段】第1導電膜によるゲート電極と、第1導電膜上の第1絶縁層によるゲート絶縁膜と、第1絶縁層上にゲート電極と重なる第1半導体層と、第1半導体層上かつゲート電極に重なる第2絶縁層によるチャネル保護膜と、第1半導体層と重なりソース領域及びドレイン領域に分離された導電性の第2半導体層と、第2半導体層上の第2導電膜によるソース電極及びドレイン電極とを含む薄膜トランジスタと、第2導電膜上に形成された第3絶縁層と、第3絶縁層上の第3導電膜により形成され、ソース電極またはドレイン電極の一方と接続する画素電極と、第1絶縁層上の容量配線と、容量配線上の第3絶縁層を挟んで、画素電極の重畳領域に形成される保持容量とを有する表示装置及びその作製方法。 (もっと読む)


【課題】極性反転駆動を行う際、極性反転に伴って、画素電極に導通する保持容量を切り換えることのできる電気光学装置、および電子機器を提供する。
【解決手段】電気光学装置において、画素電極9aの電位が共通電極21の電位より高い第1期間では、第1保持容量80aが画素電極9aに導通状態となるので、第1電極81、第1誘電体層86(第1絶縁材料/シリコン酸化膜/SiO2)、第2誘電体層87(第2絶縁材料/シリコン窒化膜/SiN)、および第2電極82に向けて電流が流れ、電荷が蓄積される。これに対して、画素電極9aの電位が共通電極21の電位より低い第2期間では、第2保持容量80bが画素電極9aに導通状態となるので、第4電極84、第4誘電体層89(第1絶縁材料/シリコン酸化膜/SiO2)、第3誘電体層88(第2絶縁材料/シリコン窒化膜/SiN)、および第3電極83に向けて電流が流れ、電荷が蓄積される。 (もっと読む)


【課題】データ線の配線構造に起因する寄生容量によって生ずるスジ状の系列的な表示ムラが改善された電気光学装置、この電気光学装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置としての液晶装置100は、画像信号が供給される画像信号線111と、データ線6aと、データ線6aと画像信号線111との間に電気的に接続され、画像信号をデータ線6aに供給する第1および第2トランジスターとしてのサンプリングトランジスター(S−TFT)71と、を備え、S−TFT71のゲート電極とデータ線6aとが絶縁膜を介して重なるオーバーラップ量が異なる少なくとも2種のS−TFT71を備えた。これにより、ゲート電極とデータ線6aとの間に寄生容量が生じ、オーバーラップ量を異ならせることで、それぞれのデータ線6aが構造的に有する寄生容量を調整することができ、スジ状の系列的な表示ムラを改善できる。 (もっと読む)


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