【課題】構造及び製造工程を簡素化しながら、開口率を向上させた、ディスプレイ装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の実施形態に係るディスプレイ装置１０１は、基板１１１、前記基板１１１上に形成された前記第１透明導電膜１３０１及び前記第１透明導電膜１３０１上に形成された第１金属膜１３０２を含む多重膜構造と前記第１透明導電膜１３０１で形成された単一膜構造とを含むゲート配線、前記ゲート配線の一部の領域上に形成された半導体層１５３、そして前記半導体層上に形成された第２透明導電膜１７０１及び前記第２透明導電膜１７０１上に形成された第２金属膜１７０２を含む多重膜構造と前記第２透明導電膜１７０１で形成された単一膜構造とを含むデータ配線を含む。 （もっと読む）

【課題】薄膜トランジスタ基板、反射膜、反射アノード電極、タッチパネルセンサーなどの製造工程において、塩化ナトリウム溶液の浸漬下におけるＡｌ合金表面の腐食やピンホール腐食（黒点）などの腐食を有効に防止できて耐食性に優れており、しかもヒロックの生成も防止できて耐熱性にも優れたＡｌ合金膜を提供する。
【解決手段】本発明のＡｌ合金薄膜は、基板上に配線膜または反射膜に用いられるＡｌ合金膜であって、Ｔａおよび／またはＴｉ：０．０１〜０．５原子％と、希土類元素：０．０５〜２．０原子％と、を含有するものである。 （もっと読む）

【課題】有機発光ディスプレイ装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に配置され、屈折率の異なる複数の絶縁膜を含み、前記複数の絶縁膜のうち少なくとも一つは同一面上で異なる厚さで形成されたバッファ層と、前記バッファ層の厚い領域に形成された薄膜トランジスタの活性層と、前記バッファ層の薄い領域に形成された画素電極と、ゲート絶縁膜を介して前記活性層上に形成された前記薄膜トランジスタのゲート電極と、前記活性層に接続された前記薄膜トランジスタのソース及びドレイン電極と、前記画素電極上に形成された発光層と、前記発光層を介して、前記画素電極に対向配置される対向電極と、を備える有機発光ディスプレイ装置。 （もっと読む）

【課題】半導体層の損傷を防止しつつ製造工程を単純化できる構造を有する表示装置を提供する。
【解決手段】基板１１１と、基板上に形成されたゲート電極１３３及び第１キャパシタ電極１３８を含むゲート配線と、ゲート配線上に形成されたゲート絶縁膜１４０と、ゲート絶縁膜上に形成され、ゲート電極と少なくとも一部が重なるアクティブ領域１５３と、第１キャパシタ電極と少なくとも一部が重なるキャパシタ領域１５８とを含む半導体層パターンと、半導体層パターンのアクティブ領域の一部上に形成されたエッチング防止膜１６５と、エッチング防止膜の上から半導体層のアクティブ領域の上にわたって形成され、エッチング防止膜を介在して互いに離隔したソース電極１７５及びドレイン電極１７７と、半導体層のキャパシタ領域の上に形成された第２キャパシタ電極１７８とを含むデータ配線と、を含む。 （もっと読む）

【課題】電気泳動表示装置の製造方法において、画素電極と隔壁との位置ずれの発生を防止する。
【解決手段】電気泳動表示装置の製造方法は、透光性の基板（２８）上に複数の画素電極（２１）を非透光性の材料から形成する工程と、基板上に複数の画素電極を覆うようにネガ型レジストからなるレジスト膜（５００）を形成する工程と、基板の複数の画素電極が形成された表面（Ｓ１）とは反対の裏面（Ｓ２）側から基板を介してレジスト膜を露光する工程と、露光されたレジスト膜を現像することにより、複数の画素電極のうち互いに隣り合う画素電極間を隔てる隔壁（８８）を形成する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】ジャギーを低減し、高精細な画像を表示または撮像することができる映像装置を提供する。
【解決手段】二次元状に配置された複数の画素１を備える映像装置であって、複数の画素１のそれぞれは、当該画素１の一部に受光または発光を行う有効領域２を含み、有効領域２は、当該有効領域２を含む画素１内での予め定められた複数の位置のいずれかにランダムに配置され、有効領域２を含む画素１の面積に対する当該有効領域２の面積の比率である開口率は、４０〜７０％である。 （もっと読む）

【課題】多大な手間をかけて集光レンズとシール材とをアライメントしなくても、シール材を効率よく硬化させることのできる液晶装置、投射型表示装置、および液晶装置の製造方法を提供すること。
【課題手段】本形態の液晶装置１００においては、対向基板２０の側には、画素電極９ａと重なる第１集光レンズ８１が形成され、シール材１０７と重なる領域に第２集光レンズ８２が形成されている。このため、シール材１０７を硬化させる際、対向基板２０から光を照射すれば、かかる光は、第２集光レンズ８２によってシール材１０７に集光される。第１集光レンズ８１と第２集光レンズ８２とは、集光する対象や集光する光の波長に合わせて、形状、サイズ、およびレンズ面の曲率等が相違している。 （もっと読む）

【課題】薄く、軽量であり且つ破壊が生じにくい発光表示装置を、作製工程を大幅に削減して低コストで作製する方法を提供する。
【解決手段】剥離層を介して基板上に素子領域を形成する際に、半導体層のエッチングと、画素電極とドレイン電極を接続するためのコンタクトホールの形成を、同一のフォトリソグラフィ工程及びエッチング工程で行う。更に素子領域を基板から剥離して、じん性の高い第１の支持体に設け、第１の支持体及びじん性の高い第２の支持体で液晶素子を挟持することで、薄く、軽量であり且つ破壊が生じにくい発光表示装置を、作製工程を大幅に削減して低コストで作製できる。 （もっと読む）

【課題】画素電極上に金属膜を形成して積層構造とする際に、１つのレジストマスクを用
いて、画素電極及び金属膜を形成することを課題とする。
【解決手段】画素電極となる導電膜と金属膜を積層させる。金属膜上に半透部を有する露
光マスクを用いて、膜厚の厚い領域と該領域よりも膜厚が薄い領域とを有するレジストパ
ターンを形成する。レジストパターンを用いて画素電極と、画素電極上の一部に接する金
属膜を形成する。以上により、１つのレジストマスクを用いて、画素電極及び金属膜を形
成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】画素行毎に２本のゲート線が配置され、２つの画素列に１本のドレイン線が配置される液晶表示装置における縦すじの発生を防止する技術を提供する。
【解決手段】第１の方向に沿って画素行、第２の方向に沿って画素列を構成し、画素行がずれて配置され、１つの画素行に対して第１ゲート線及び第２ゲート線が配置され、２つの画素列に１本のドレイン線が配置される液晶表示装置であって、画素行は、第１ゲート線に接続される第１薄膜トランジスタを有する第１画素と、第２ゲート線に接続される第２薄膜トランジスタを有する第２画素とを備え、ドレイン線は、第２の方向に延在する第２方向ドレイン線と、第１の方向に伸延され、第２ゲート線と交差した後に第２薄膜トランジスタに接続される第１方向ドレイン線とからなり、第２方向ドレイン線は、第１の方向又は第２の方向に伸延され、第１ゲート線と交差する追加延在部と、を有する。 （もっと読む）

【課題】従来のブラックマトリックス層等を用いないことで、残渣の問題を解消して、コントラストの低下をなくすことができる情報表示用パネルおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】情報表示画面領域が透明な観察側とする絶縁性基板と背面側とする絶縁性基板とを、基板間ギャップ確保用隔壁を介して対向させて形成した、基板間の情報表示画面領域内の空間に配置された表示媒体を、情報表示画面領域が透明な観察側とする絶縁性基板の内側面および背面側とする絶縁性基板の内側面にそれぞれ形成されている電極を用いて形成した電界で駆動させて情報を表示する情報表示用パネルであって、情報表示画面領域内に配置される基板間ギャプ確保用隔壁４は透明であり、情報表示画面領域内に配置される基板間ギャップ確保用隔壁と絶縁性基板とを接合する接着材９は透明であり、背面側とする絶縁性基板の内側面の少なくとも透明な基板間ギャップ確保用隔壁との間には絶縁性の有色層３１が形成されている。 （もっと読む）

【課題】封止が確実にでき、また、基板スペースを有効活用することができる有機ＥＬ素子およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】制御基板２の上面側に陰極３が設けられ、陰極３上に発光部５が設けられ、発光部５の上側には陽極７が設けられ、また、制御基板２の下面側には、発光部５の発光を制御する制御素子８と、有機ＥＬ素子１の外部から電力を受け取る二次コイル９と、二次コイル９からの電流を整流する整流回路２０と、陰極３にスルーホール１１により接続されるランド１０と、陽極端子１５にスルーホール１６を介して接続されるランド１４と、制御素子８と各ランド１０とを接続する配線１２と、制御素子８と二次コイル９とを接続する配線１３等が設けられて素子本体３０が形成されている。素子本体３０は、第一封止層１７及び第二封止層１８により完全に封止されている。 （もっと読む）

【課題】対向配置された２つの電極間の電位差によって第１の情報と第２の情報とを基材の同一面側にて表示する場合に、第１の情報を表示する領域が電極とこれに接続された配線とが絶縁層を介して接続され、第２の情報を表示する領域が電極とこれに接続された配線とが絶縁層を介さずに基材の同一面上に形成されていても、これら２つの領域間に段差を生じさせない。
【解決手段】二次元コード領域２０には、複数のセル電極２１に接続された配線２２をベース基板１１上に形成し、セル電極２１のそれぞれを、ベース基板１１の配線２２が形成された面上に積層された絶縁層１２上に、絶縁層１２に形成されたスルーホール１３を介して配線２２と接続して形成する一方、バーコード領域３０には、ベース基板１１上に絶縁層１２を積層し、この絶縁層１２上に帯状電極３１及び配線３２を形成する。 （もっと読む）

【課題】多層配線構造を有する配線基板において、上層配線の断線等による歩留まりの低下を抑制し、信頼性を向上させることのできる配線基板の製造方法、発光装置及び電子機器を提供する。
【解決手段】配線基板の製造方法は、基板１００上に形成されたＡｌ−Ｎｉ合金膜１０２上に保護膜としてＭｏ合金膜１０４を形成する工程と、Ｍｏ合金膜１０４上にレジスト１０５を形成する工程と、Ａｌ−Ｎｉ合金膜１０２をエッチングして、基板１００側の幅がその反対側の幅よりも大きい順テーパ形状を有する信号線Ｌｄを形成する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】マスク利用回数が低減してコストダウンができ、かつ製造の容易な有機発光ディスプレイ装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ゲート電極と、ゲート電極と絶縁されたソース電極及びドレイン電極と、ゲート電極と絶縁されてソース電極及びドレイン電極にそれぞれ接する半導体層と、を備える薄膜トランジスタ；ソース電極及びドレイン電極のうちいずれか一つに電気的に連結された画素電極を備え、ゲート電極は、第１導電層と第１導電層上の第２導電層とを備え、画素電極は、第１導電層と同一物質で同一層に形成されたことを特徴とする有機発光ディスプレイ装置及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】表面にマスク層を設けた場合であっても全体を大型化することなくバーコードを正確に読み取る。
【解決手段】情報表示層の配線や接続端子に対向する領域における状態の変化による色が視認されてしまうことを回避するためにその表面に施されたマスク印刷３３を、表示される複数のバー５の並び方向最も外側となる２つのバーから、複数のバー５のうちその幅が最も狭いナローバーの幅の１０〜２９倍だけ複数のバー５の並び方向外側に離れて設け、（明度Ｌ＊）＋（色度ａ＊）＋（色度ｂ＊）の値が７４以下となる色から構成する。 （もっと読む）

【課題】キャパシタの面積が大きい発光装置及び電子機器を提供する。
【解決手段】発光装置１００は、発光素子１１と、発光素子１１に接続されるとともに、発光素子１１に重なる位置に形成されたキャパシタ１８と、発光素子１１の一辺側に配置された第１駆動トランジスタ１６と、発光素子１１の他辺側に配置された第２駆動トランジスタ１７と、を備える。そして、第１駆動トランジスタ１６のゲート電極１６ｇと第２駆動トランジスタ１７のゲート電極１７ｇとは、キャパシタ１８の電極１８ａを介して電気的に接続されている。 （もっと読む）

【課題】薄型固体封止をしてもレーザリペア時のダメージを抑制でき、ＥＬ発光特性が低下することなく長期間にわたり維持することが可能な有機ＥＬ素子及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】基材上に、少なくとも、第一電極層、有機発光媒体層、第二電極層、パッシベーション層をこの順に積層して有機ＥＬ素子を形成する工程と、前記有機ＥＬ素子中の異物を検査する工程と、前記異物又は前記異物の接する範囲の前記第一電極層若しくは前記第二電極層に焦点を持つマイクロレンズを前記パッシベーション層上に形成する工程と、前記マイクロレンズを介してレーザを照射する工程と前記マイクロレンズを備えたパッシベーション層上に封止層を積層し、有機ＥＬ素子を形成する工程と、を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法としたもの。 （もっと読む）

【課題】画素部に形成される画素電極やゲート配線及びソース配線の配置を適したものと
して、かつ、マスク数及び工程数を増加させることなく高い開口率を実現した画素構造を
有するアクティブマトリクス型表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】絶縁表面上のゲート電極及びソース配線と、前記ゲート電極及びソース配線
上の第１の絶縁層と、前記第１の絶縁膜上の半導体層と、前記半導体膜上の第２の絶縁層
と、前記第２の絶縁層上の前記ゲート電極と接続するゲート配線と、前記ソース電極と前
記半導体層とを接続する接続電極と、前記半導体層と接続する画素電極とを有することを
特徴としている。 （もっと読む）

【課題】透明導電膜にピンホール等の欠陥が生じたとしても金属導電膜の腐食を抑制し、透明導電膜と金属導電膜との間の導通を確実にとることが可能な薄膜トランジスタ基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】金属導電膜としてのゲート端子１２１、ドレイン端子１２２上にＯＣ−ＳｉＮ膜１０９を形成し、ゲート端子１２１及びドレイン端子１２２が露出するようにコンタクトホールを形成し、コンタクトホールを介してゲート端子１２１及びドレイン端子１２２に接触するようにＩＴＯ膜を成膜してパターニングし、ＩＴＯ膜に対して酸化膜形成処理を行う。これにより、ＩＴＯ膜にピンホール等の欠陥が発生していた場合には、欠陥を介してＩＴＯ膜下のゲート端子１２１ドレイン端子１２２の一部が酸化されて酸化膜が形成される。 （もっと読む）