【課題】入射する光を効率よく利用可能な電気光学装置、およびこれを備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】本適用例の電気光学装置としての液晶装置は、一対の基板と、一対の基板のうち素子基板１０に設けられた画素電極１５と、画素電極１５に対応して設けられた薄膜トランジスター（ＴＦＴ）３０と、一対の基板のうち対向基板２０に設けられた対向電極としての共通電極２３と、画素電極１５、共通電極２３、画素電極１５と共通電極２３との間に挟持された液晶層５０およびＴＦＴ３０を含む画素と、入射した光を画素に向けて集光させる集光素子としてのマイクロレンズ２６と、液晶層５０に対してマイクロレンズ２６と反対側に設けられると共に、ＴＦＴ３０と平面的に重なって配置され、液晶層５０を透過した光の一部を射出側に反射させる光反射部としてのプリズム１１０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルター層に対する保護膜として無機保護膜を用いた場合でも、無機保護膜の剥離を防止することのできるカラーフィルター基板、電気光学装置、電子機器、および電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】液晶装置の素子基板１０には、複数列の無機遮光層７ａとカラーフィルター層１５とが設けられ、かかる無機遮光層７ａおよびカラーフィルター層１５は無機保護膜４５で覆われている。ここで、カラーフィルター層１５は、無機遮光層７ａの表面７ｅに重ならずに設けられている。このため、カラーフィルター層１５の両側では、無機遮光層７ａと無機保護膜４５とが接し、かつ、無機遮光層７ａと無機保護膜４５との接触面積が広い。 （もっと読む）

【課題】安定な液体移送と迅速な書き換えが可能な表示装置を提供する。
【解決手段】下層に複数の液体供給路３５，３６，３７等があり、上層に側壁６に囲まれた画素２２が画成されている。そして、スイッチ部を介して下層流路から上層の画素２２へインク注入を行うことで表示が可能となる。インク注入動作はスイッチ部の濡れ性を電圧調整して行う。そのため、走査電極４３とスイッチ電極５６が設けられている。スイッチ部は、画素２２の部分を含む上層流路に設けられた撥液体柱８から構成される。 （もっと読む）

【課題】電子ペーパーに用いた際に、配線電極の断線が発生し難く、かつ表示ムラを生じにくく、良好な情報表示特性を得ることが可能な電子ペーパー用背面電極基材、およびこれを用いた電子ペーパーを提供する。
【解決手段】表示電極用絶縁層１α、および表示電極用絶縁層１α上に形成された表示電極１βを備え、表示情報に応じたパターン形状を有する表示電極層１と、表示電極層１の表示電極１β上に配置された配線電極用絶縁層２α、および配線電極用絶縁層２α上に形成された配線電極２βを備え、表示電極１βに電荷を付与することが可能なパターン形状を有する配線電極層２と、配線電極層２の配線電極２β上に形成された保護フィルム３とを有し、表示電極層１の表示電極１βと表示電極１β直上に配置された配線電極層２の配線電極２βとが、導電性ペーストを含む導電接続層４を用いて接続されている電子ペーパー用背面電極部材。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子を用いた表示装置において有機化合物層よりも高い屈折率の透明層を伝播する伝播光を効率的に外部に取り出しながらも、表示装置にとって問題となる表示像のにじみを低減する。
【解決手段】画素４内に互いに異なる発光色を発光する複数の副画素１，２，３を有し、各副画素１，２，３が有機ＥＬ素子を備えた表示装置において、有機ＥＬ素子の光出射側に、有機ＥＬ素子の有機化合物層よりも屈折率の高い高屈折率透明層を有し、さらに、該高屈折率透明層の光出射側に光取り出し構造物７を有し、該光取り出し構造物７は、副画素１，２，３上に配置され、画素間領域６には該光取り出し構造物７が配置されていない。 （もっと読む）

【課題】ソース電極およびドレイン電極からのオーミックコンタクト膜の延在部分の表面を介したリーク電流、およびオーミックコンタクト膜と半導体能動膜との接合側面部での欠陥を介したリーク電流を増大させないことが可能な薄膜トランジスタを提供することにある。
【解決手段】オーソミックコンタクト層８の一方は、電極９，１０の一方に接触して覆われた接触部分８１と、接触部分８１よりも厚さ方向Ｄ２において薄く、厚さ方向Ｄ２から見て電極９，１０の一方からはみ出して電極９，１０の他方へと延在して半導体能動膜７の少なくとも一部７１を避けて覆う延在部分８２とを有する。 （もっと読む）

【課題】層数を低減し、製造コストを抑え、かつ点灯異常を抑制して製造歩留まりの向上を図ることのできる液晶表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】画素部（ａ）と周辺部（ｃ）とを有する基板を用いた液晶表示装置の製造方法において、ゲート絶縁膜３上に半導体層４と画素電極５を形成した後、基板上に導電膜を平面ベタに形成し、ホトレジストパターンをマスクとして、画素部（ａ）の半導体層４と画素電極５とを電気的に接続するドレイン電極を形成すると共に、画素部（ａ）と周辺部（ｃ）における半導体層４を露出させ、周辺部の半導体層４をエッチング量の指標として用いて画素領域（ａ）の半導体層４をエッチングする。 （もっと読む）

【課題】画像の立体感、奥行き感を高める画像処理方法と、上記画像処理方法を利用した表示装置とを提供する。
【解決手段】画像の画像データから複数の対象物の画像データと、背景の画像データとを分離する。そして、各対象物の画像データから特徴量を取得し、対象物の識別を行う。次いで、画像中における対象物の大きさと、データベース中に登録されている対象物の大きさとから、観察者の視点と各対象物との相対的な距離を定める。次いで、上記相対的な距離が短い対象物ほど大きくなるように、個々の対象物の画像データに画像処理を施す。次いで、画像処理を施した対象物の画像データと、背景の画像データとを合成することで、画像の奥行き感、或いは立体感を高める。 （もっと読む）

【課題】低コストで高い画像品質を実現する。
【解決手段】液晶パネル２には、赤ＣＦＲ、緑ＣＦＧ、青ＣＦＢの色レジスト層と遮光層（ブラックマトリクス）５０とが積層されている。各サブピクセル４Ｓは、遮光層５０で区画されており、このサブピクセル４Ｓは、３行２列で１画素４Ｐｉｘを形成している。赤ＣＦＲ、緑ＣＦＧ、青ＣＦＢの各色レジストは、サブピクセル４Ｓの行毎に塗り分けられており、個々の色レジストは、Ｘ軸方向にストライプ状の形状となっている。各サブピクセル４Ｓの列に設けられる３本のデータ線Ｄ１、Ｄ２、Ｄ３は、１本が遮光層５０の下に配置され、それ以外の２本は遮光層５０の開口部を斜めに分断するように等間隔に配置されている。 （もっと読む）

【課題】電気泳動表示装置における表示体内部の水分量をより高い精度で調整可能とすること。
【解決手段】第１の基板の一方の面および第２の基板の一方の面の少なくとも一方に、電気泳動粒子および分散媒を含む分散液を収容する第１の収容部を有する第１の層を形成する第１の層形成工程と、第１の基板の一方の面および第２の基板の一方の面の少なくとも一方に、第１の収容部内の分散液よりも水分の多い液体を収容する複数の第２の収容部を有する第２の層を形成する第２の層形成工程と、第１の基板と第２の基板とを、第１の基板の一方の面と第２の基板の一方の面とが対向するように貼り合わせる封止工程と、複数の第２の収容部の少なくとも１つを破損させる破損工程と、を含むことを特徴とする電気泳動表示装置の製造方法とした。 （もっと読む）

【課題】管理コストを低減し、さらに、製造工程を削減して製造原価のコストダウンを図ることの可能な半導体デバイス及び薄膜トランジスタ、並びに、それらの製造方法の提案を目的とする。
【解決手段】所定の材料からなり、活性層４１となる半導体と、所定の材料と同じ組成の材料からなり、ソース電極５１、ドレイン電極５３及び画素電極５５の少なくとも一つとなる導電体とを備えた薄膜トランジスタ２の製造方法であって、非晶質の所定の材料からなる被処理体及び導電体（ソース電極５１、ソース配線５２、ドレイン電極５３、ドレイン配線５４及び画素電極５５）を一括成膜し、さらに一括形成する工程と、形成された被処理体を結晶化させて活性層４１とする工程とを有する方法としてある。 （もっと読む）

【課題】高効率、高寿命かつ高精細な有機ＥＬ表示装置を得るための製造方法を提供する。
【解決手段】一対の電極間に配置され、少なくとも発光層を含む有機化合物層が２次元に配列されてなる発光領域を備える有機ＥＬ表示装置の製造方法において、前記発光領域全体に水に不溶である有機化合物層を形成する工程と、前記有機化合物層上に、水溶性材料を含む保護層を所定のパターン形状にて形成する工程と、前記保護層に覆われていない領域に形成されている有機化合物層を除去する工程と、前記保護層を除去する工程と、前記有機化合物層を乾燥する工程と、前記有機化合物層上に、少なくとも発光領域を含む領域に共通層を形成する工程と、を含み、前記有機化合物層を乾燥する工程から前記共通層を成膜する工程までの工程を真空中で行うことを特徴とする、有機ＥＬ表示素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】全体に占める有効表示領域の割合の拡大に適した構造の表示装置を提供する。
【解決手段】この表示装置は、少なくとも一方が光透過性を有すると共に互いの対向面に第１および第２の電極がそれぞれ設けられた第１および第２の基板と、第１の基板と第２の基板との間に設けられた表示素子とを備える。第１の基板および第１の電極は、第２の基板の端面の少なくとも一部を覆うように折り曲げられた外縁部を有する。 （もっと読む）

【課題】所望の保持容量を有すると共に、画素電極の表面における凹凸に起因する表示ムラが低減された電気光学装置、これを備えた電子機器、電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本適用例の電気光学装置としての液晶装置は、素子基板１０上に、トランジスターと、トランジスターに対応して設けられた画素電極１５と、素子基板１０と画素電極１５との間に、画素電極１５と一部が対向するように設けられ、画素電極１５と誘電体層１４を介して保持容量を構成する容量配線３ｂと、を備え、容量配線３ｂは、素子基板１０と画素電極１５との間に設けられた絶縁膜１３に埋め込まれるように形成されており、絶縁膜１３と共に画素電極１５側の面が平坦化されてなる。 （もっと読む）

【課題】蓄積容量の形成領域を広げても、表示光の出射光量の低下や画素電極の端部付近での電位分布の乱れが発生しにくい電気光学装置、投射型表示装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００において各画素では、透光の誘電体層４０に対して基板本体１０ｗが位置する側に第１電極層７が設けられ、誘電体層４０に対して画素電極９ａが位置する側に透光性の第２電極層８ａが設けられている。このため、透光性の第１電極層７、透光性の誘電体層４０、および透光性の第２電極層８ａによって蓄積容量５５が構成されている。また、蓄積容量５５と画素電極９ａとの間に透光性の層間絶縁膜４４が設けられている。このため、画素電極９ａを研磨により平坦化した平坦面上に形成することができるとともに、共通電位が印加された第１電極層７と画素電極９ａの端部との間に余計な電界が発生しない。 （もっと読む）

【課題】開口率を向上させると共に有機層および第２電極の断線を抑制することができる有機発光素子およびこの有機発光素子を備えた表示装置を提供することにある。
【解決手段】第１電極および第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間の、発光層を含む有機層と、前記第１電極の周縁を表面から側面にかけて覆うと共に前記有機層に接する内壁面を有し、前記内壁面に、稜線が前記第１電極の表面に平行な少なくとも一つの角部を有する絶縁膜とを備えた有機発光素子。 （もっと読む）

【課題】 高コントラストなエレクトロクロミック素子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のエレクトロクロミック素子１０は、第１の電極１３と、第２の電極１４と、電解質層１６と、エレクトロクロミック組成物層１５とを含み、第１の電極１３の上に、エレクトロクロミック組成物層１５が積層され、エレクトロクロミック組成物層１５の上に、電解質層１６が積層され、第２の電極１４が、電解質層１６およびエレクトロクロミック組成物層１５の少なくとも一方の側面に配置され、第１の電極１３と第２の電極１４との間で、電解質層１６およびエレクトロクロミック組成物層１５に電圧を印加可能であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】コンタクトホールに起因する画素電極の凹凸を緩和することができる電気光学装置、投射型表示装置、電子機器および電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】液晶装置の素子基板において、第２電極層７ａと画素電極９ａとを導通させるにあたって、コンタクトホール４５ａの底部４５ａ1を避けて、コンタクトホール４５ａの側壁４５ａ2およびコンタクトホール４５ａの外部に第２絶縁膜４７を設ける。このため、コンタクトホール４５ａは、コンタクトホール４５ａの側壁４５ａ2に設けられている第２絶縁膜４７の厚さ分は、平面サイズが小さくなっている。かかる構造は、コンタクトホール４５ａを形成した後、第２絶縁膜４７を形成し、第２絶縁膜４７に対して異方性エッチングを行うことにより実現できる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、開口率を大きくする必要がなく、印刷に適し、複数画素を用いずに面積階調できる薄膜トランジスタアレイ、表示装置、および薄膜トランジスタアレイの製造方法を提供する。
【解決手段】画素の有効領域の幅をＡ、画素の有効領域のネガパターンの幅をＢとしたとき、幅Ｂが幅Ａよりも大きな薄膜トランジスタとする。あるいは、対向電極と画素電極の距離をＣとしたとき、距離Ｃが幅Ｂの４分の１以上Ｂ以下である表示装置とする。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタによる画素回路への電気的影響を緩和して表示画質の劣化を抑制することが可能な表示装置を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ表示装置１は、駆動基板１０側にカラーフィルタ１５を有する構造において、表示機能層（有機ＥＬ層１９）へ駆動電流を供給するための第１電極１７および第２電極２０に加え、第３電極１４を設けた構造となっている。画素回路において、カラーフィルタ１５に起因して誘電正接が生じた場合であっても、第１電極１７と第３電極１３との電気的遮蔽効果によって、画素回路における保持電位の変動を抑制できる。 （もっと読む）