【課題】高い反射率および低い接触抵抗を有しており、しかも、ヒロックなどの欠陥を生じることのない耐熱性にも優れた反射電極を提供する。
【解決手段】基板１上に形成される表示デバイス用の反射電極２であって、前記反射電極は、０．０５〜２原子％のＮｉ及び／又はＣｏ、並びに０．１〜２原子％のＮｄを含有する第１のＡｌ−（Ｎｉ／Ｃｏ）−Ｎｄ合金層２ａとＡｌとＯ（酸素）を含有する第２のＡｌ酸化物層２ｂと、を有している。上記Ａｌ酸化物層は透明画素電極３と直接接続しており、前記Ａｌ酸化物層中のＯ原子数とＡｌ原子数との比である［Ｏ］／［Ａｌ］が、０．３０以下であり、前記Ａｌ酸化物層の最も薄い部分の厚みが、１０ｎｍ以下である。上記反射電極は、前記Ａｌ酸化物層と前記透明画素電極とが直接接続する領域において、前記透明画素電極と前記基板との間に形成されている。 （もっと読む）

【課題】薄さとフレキシブル性と耐水性と放熱性とを備え信頼性の高い電気光学装置を提供すること。
【解決手段】有機ＥＬ装置１は、素子基板２０と封止基板３０との間に挟持された有機発光層２６と、有機発光層２６から光が射出される側の表示面３０ａと、表示面３０ａとは反対側の背面２０ａとを有する有機ＥＬパネル２と、有機ＥＬパネル２の表示面３０ａと背面２０ａと側面とを覆うように設けられた樹脂層５０，５３と、樹脂層５０を介して表示面３０ａに対向配置された光透過性を有する光学フィルム６０と、樹脂層５３を介して背面２０ａに対向配置された光学フィルム６３とを備え、樹脂層５０は支持層５１と支持層５１を挟持する一対の接着層５２ａ，５２ｂとで構成され、樹脂層５３は支持層５４と支持層５４を挟持する一対の接着層５５ａ，５５ｂと、で構成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】安定した電気特性を有する薄膜トランジスタを有する、信頼性のよい半導体装置を提供することを課題の一とする。また、高信頼性の半導体装置を低コストで生産性よく作製することを課題の一とする。
【解決手段】チャネル形成領域を含む半導体層、ソース領域及びドレイン領域を酸化物半導体層とする薄膜トランジスタを有する半導体装置の作製方法において、酸化物半導体層の純度を高め、不純物である水分などを低減する加熱処理（脱水化または脱水素化のための加熱処理）を行う。 （もっと読む）

【課題】電気泳動表示装置の残像を軽減する。
【解決手段】共通電極と画素電極との間に、電気泳動粒子を含む分散系を有する電気泳動素子を備えた複数の画素を含む表示部と、共通電極および画素電極に印加する電圧を制御することにより、電気泳動粒子を移動させて画像を形成する制御部を備え、制御部は、表示部に表示される画像を第１の画像から第２の画像へ変更する切り替え期間において、第１の画像を表示している間の表示が第１の階調（白）であった領域の画素電極と共通電極の間には電位差を与えず、表示部が第２の階調（黒）であった領域の画素電極と共通電極の間にのみ電位差を与えることにより、表示部全体を第１の階調にする第１の期間を設ける。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体層を用いた薄膜トランジスタにおいて、酸化物半導体層とソース電極層又はドレイン電極層との間のコンタクト抵抗を低減し、電気特性を安定させた薄膜トランジスタを提供する。また、該薄膜トランジスタの作製方法を提供する。
【解決手段】酸化物半導体層を用いた薄膜トランジスタにおいて、酸化物半導体層の上に、酸化物半導体層より導電率の高いバッファ層を形成し、該バッファ層の上にソース電極層及びドレイン電極層を形成し、酸化物半導体層とソース電極層又はドレイン電極層とがバッファ層を介して電気的に接続されるように薄膜トランジスタを形成する。また、バッファ層に逆スパッタ処理及び窒素雰囲気下での熱処理を行うことにより、酸化物半導体層より導電率の高いバッファ層を形成する。 （もっと読む）

【課題】半導体層をゲート電極によって遮光したボトムゲート型薄膜トランジスタのオフ電流を低減する。
【解決手段】ゲート電極層と、第１の半導体層と、前記第１の半導体層上に接して設けられた前記第１の半導体層よりもキャリア移動度が低い第２の半導体層と、前記ゲート電極層と前記第１の半導体層との間に接して設けられたゲート絶縁層と、前記第２の半導体層に接して設けられた不純物半導体層と、前記不純物半導体層及び前記第１及び第２の半導体層に一部が接して設けられたソース電極及びドレイン電極層と、を有し、前記第１の半導体層のゲート電極層側は全面が前記ゲート電極層によって覆われており、前記第１の半導体層と前記ソース電極及びドレイン電極層が接する部分のポテンシャル障壁は０．５ｅＶ以上である薄膜トランジスタを提供する。 （もっと読む）

【課題】アクティブマトリクス型の表示装置においては、回路を構成する薄膜トランジスタの電気特性が重要であり、この電気特性が表示装置の性能を左右する。従って、逆スタガ型の薄膜トランジスタに水素を徹底的に排除した酸化物半導体膜を用い、電気特性のバラツキを低減する。
【解決手段】課題を解決するため、大気に触れることなくゲート絶縁膜と、酸化物半導体層と、チャネル保護膜との三層をスパッタ法により連続成膜を行う。また、酸化物半導体層の成膜は、酸素が流量比で５０％以上１００％以下含まれる雰囲気中で行う。また、酸化物半導体層のチャネル形成領域の上層及び下層が、窒素含有量が３原子％以上３０原子％以下の酸化窒化珪素膜であることを特徴的な構造とする。 （もっと読む）

【課題】開口率の向上を図った液晶表示装置の提供。
【解決手段】いわゆるＴＦＴ基板側に隣接する色の異なるカラーフィルタが形成され、一方のカラーフィルタである第１カラーフィルタは、平面的に観て、前記ドレイン信号線あるいは前記ゲート信号線の形成領域からはみ出すことなく他方のカラーフィルタである第２カラーフィルタに重ねて配置され、
前記第１カラーフィルタの前記第２カラーフィルタと重なる部分に第１テーパ部を、前記第２カラーフィルタの前記第１カラーフィルタに重ねられた部分に第２テーパ部が形成され、
前記第１テーパ部のテーパ角と前記第２テーパ部のテーパ角が、それぞれ、前記第１テーパ部と前記第２テーパ部の下層の信号線の表面を基準にして４５°以上９０°以下に設定され、前記信号線の幅は１μｍ以上４μ以下に設定されている。 （もっと読む）

【課題】６００℃〜７００℃の高温であっても高い耐酸化性と低抵抗を両立し、かつ低コストで形成可能な配線材料を提供する。
【解決手段】基板上に形成される銅配線と、銅配線上に５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の膜厚で形成される５０重量％以上のアルミニウムを含有する銅合金薄膜と、を具備する配線部材を用いる。上記銅配線の膜厚は、１μｍ以上５０μｍ以下である。基板と銅配線の間には下地層が配置されている。配線部材の電気抵抗率は、４×１０^-6Ωcm以下である。 （もっと読む）

【課題】特性の高い複数の有機ＥＬ素子を印刷法で作製することができる有機ＥＬ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】一対の電極と、該電極間に配置される発光層と、該発光層に隣接して前記電極間に配置される隣接層とをそれぞれが備える複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を、基板上に作製する有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法であって、一対の電極のうちの一方の電極が設けられた基板を用意する基板用意工程と、隣接層形成工程と、発光層となる材料を含むインキを用いて、印刷法によって発光層を形成する発光層形成工程と、一対の電極のうちの他方の電極を形成する工程とを含み、隣接層形成工程の開始から発光層形成工程の終了までの前記基板雰囲気中の酸素濃度および水分濃度を、体積比でそれぞれ大気濃度未満に保つことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】長期にわたって電気泳動粒子が円滑に移動し得るマイクロカプセル、かかるマイクロカプセルを備え、長期にわたって良好な表示性能を維持し得る電気泳動表示シート、電気泳動表示装置および電子機器を提供すること。
【解決手段】図３に示すマイクロカプセル４０は、電気泳動粒子５を含有する電気泳動分散液１０と、この電気泳動分散液１０を封入するカプセル本体５０とを有している。このカプセル本体５０は、少なくとも内壁面付近が実質的に極性を有しない非極性基５１を側鎖に有する樹脂材料を含むポリマーで構成されている。この非極性基５１は、アルキル基、および／または、アルキル基の水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置換されたフッ素化アルキル基であるのが好ましい。また、非極性基５１の炭素数は、４〜２０であるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】湾曲した表示面を有する発光表示装置を容易かつ歩留まりよく製造可能な発光表示装置を提供する。
【解決手段】発光表示装置は、湾曲した光透過性の基材１と、平板状の発光表示パネル２と、を備え、基材１の湾曲面１ｂ上に発光表示パネル２を配設固定してなる。また、発光表示パネル２が湾曲面１ｂ上に複数並べて配置されてなる。また、発光表示パネル２の表示面側外周部が接着部材３を介して湾曲面１ｂに貼り付けられてなる。また、接着部材３は遮光性である。 （もっと読む）

【課題】厳格な封止の必要性が軽減され、電極の破損の恐れのない、しかも応答速度の速いエレクトロクロミック装置を提供する。
【解決手段】第一の電極１０、エレクトロクロミック層３０および第二の電極２０をこの順で有し、前記第一および第二の電極のうちの少なくとも一つが導電性微粒子およびバインダーを含有する導電層１２，２２を有し、かつ前記エレクトロクロミック層が高分子ポリマー、可塑剤、エレクトロクロミック化合物および有機電荷輸送剤を含有するエレクトロクロミック装置。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板を均一にエッチングすることが可能な電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】この製造方法によれば、複数のノズル５１からエッチング溶液が大判パネル２０の表裏面に噴射される。また、並行して、大判パネル２０が略鉛直に立った状態で回転する。これにより、エッチング溶液は、大判パネル２０の表面（裏面）において回転にともない重力方向に流れることになる。換言すれば、大判パネル２０の表面（裏面）におけるエッチング度合が均一化される。よって、ガラス基板を均一にエッチングすることが可能な電気光学装置の製造方法を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明の構成を有さない場合に比べ、耐光性に優れた表示媒体、書込装置、及び表示装置を提供する。
【解決手段】表示媒体１２においては、第２の光吸収層３４が、第２の電極２２の光導電層２０とは反対側に設けられている。すなわち、第２の光吸収層３４は、表示媒体１２の光導電層２０より書込光の照射方向上流側に設けられている。この第２の光吸収層３４は、書込光を透過し、且つ３００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の全波長領域について吸光度１以上の遮光性能を示す。このため、蛍光灯の光のように、書込に利用されない波長の光が非表示面側から光導電層２０へ到ることが抑制され、光導電層２０の外光による光劣化が抑制される。従って、耐光性に優れた表示媒体１２が提供される。 （もっと読む）

【課題】実質的にＰｂＯを含有せず、かつＰ_２Ｏ_５系ガラスの問題点である耐湿性を向上させ、さらに高温で処理した場合でも結晶化せず安定な無鉛低融点ガラスが求められている。
【解決手段】実質的にＰｂＯを含有せず、モル％で表して、Ｐ_２Ｏ_５が４０〜８０、Ｆｅ_２Ｏ_３が３〜５０、Ａｌ_２Ｏ_３が０〜１５、ＴｉＯ_２が０〜２０、ＺｒＯ_２が０〜１０、Ｒ_２Ｏ（Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏから選択される１種以上）が０〜４０、ＭｇＯが０〜６０、ＣａＯが０〜６０、ＳｒＯが０〜６０、ＢａＯが０〜６０、ＺｎＯが０〜６０であり、原子モル比で、（Ｆｅ＋Ａｌ＋Ｔｉ＋Ｚｒ＋Ｌｉ＋Ｎａ＋Ｋ＋Ｍｇ＋Ｃａ＋Ｓｒ＋Ｂａ＋Ｚｎ）／Ｐが１．０未満であることを特徴とする封着用無鉛着色ガラスである。３０から３００℃の線膨張係数が（５０〜２００）×１０^−７／℃、軟化点が４００℃以上７５０℃未満である特徴を有す。 （もっと読む）

【課題】逆テーパー形状を有する黒色樹脂隔壁の側面と基板とがなす角度が容易に制御される黒色樹脂隔壁付基板の製造方法、黒色樹脂隔壁付基板及び反射型表示装置を提供する。
【解決手段】基板１１と、該基板１１上に形成された逆テーパー形状を有する黒色樹脂隔壁１４とを有する黒色樹脂隔壁付基板を製造する方法であって、黒色感光性樹脂組成物を基板１１上に塗布することによって、黒色感光性樹脂組成物からなるＯＤ値が０．３〜３．５である黒色感光性樹脂層を基板１１上に形成する塗布工程と、黒色感光性樹脂層を活性光で露光する露光工程と、最小現像時間の１．１〜１０倍の現像時間で黒色感光性樹脂層の未硬化部分を現像除去する現像工程とを含む黒色樹脂隔壁付基板の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】工程を増加させることなく、多結晶シリコンＴＦＴにおけるリーク電流を低減すること。
【解決手段】携帯電話機の液晶表示パネル１５のガラス基板２１上に形成されて回路領域Ｃと画素領域Ｐのそれぞれに搭載される薄膜トランジスタ２０の活性層２２のソース／ドレイン領域は、ボロンの不純物濃度が２．５×１０^１８／ｃｍ^３から５．５×１０^１８／ｃｍ^３までの範囲内で、該不純物の活性化率が１％から７％までの範囲内に形成されている。 （もっと読む）

【課題】光路長調整層を有する発光表示装置の製造プロセスを簡易化する発光表示装置の製造方法等を提供する。
【解決手段】発光表示装置の製造方法は、赤、緑、青に対応する複数の画素領域のうち、少なくとも一の画素領域に反射金属２及び半透明金属８を配設可能な基板１上に、光透過性樹脂材料３，５を成膜する光透過性樹脂材料成膜工程と、前記成膜された光透過性樹脂材料３，５のうち、前記一の画素領域を含む領域を硬化反応させ、光透過性樹脂層３，５を形成する光透過性樹脂層形成工程と、前記反応後の光透過性樹脂層３，５を現像し、光路長調整層３，５を形成する光路長調整層形成工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】アルミを主成分とした散乱形状を有する反射層の反射率を簡便に高めることが可能な製造方法を提供すること。
【解決手段】浸漬工程において、アルミを主成分とした金属からなる反射層７を２０〜６０ｗｔ％の範囲内の燐酸を含むエッチング溶液中に浸漬することにより、微細な凹凸を有する反射層７の表面を溶かして滑らかにすることができる。また、燐酸の濃度が２０〜６０ｗｔ％の範囲内であるため、浸漬条件を出し易く、表面の凹凸面のみを安定的に滑らかにすることができる。従って、アルミを主成分とした金属からなる反射層の反射率を簡便に高めることが可能な反射層の製造方法を提供することができる。 （もっと読む）