【課題】磁気記録媒体の表面を損傷させることなくサーボ信号を迅速、且つ、確実に記録できる磁気記録媒体の着磁装置及び磁気記録媒体の着磁方法を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体の着磁装置１０は、ディスク状の磁気記録媒体１２の両側の表面１４に接触し磁気記録媒体１２を挟むように配置されるバーニッシュ用部材１６とバーニッシュ用部材１６を介して磁気記録媒体１２を挟むように配置される一対の磁石部１８とを有し、バーニッシュ用部材１６で磁気記録媒体１２の表面１４をバーニッシュ加工しつつ表面１４に対して垂直な方向の直流磁界を一対の磁石部１８の間に形成して直流磁界を磁気記録媒体１２に印加可能である。 （もっと読む）

【課題】エッチングを利用してパターン形成を行う場合に、形成すべき微細パターンの狭ピッチ化が進展しても、当該パターン形成を高精度に行えるようにする。
【解決手段】基板２上にハードマスク層３を有するマスクブランクス１において、前記ハードマスク層１は、前記基板２の側から第一層５と第二層６とが配される積層構造を有する。前記第一層５は、前記基板２に対してエッチングを行う際にマスクとなる層である。前記第二層６は、前記第一層５に対してエッチングを行う際にマスクとなるとともに、前記ハードマスク層３上に形成されるレジストパターン４をマスクにしてエッチングが行われる層である。そして、前記第一層５に対するエッチングの間は前記第二層６が当該第一層５のマスクとして機能するエッチング選択比を有した材料によって、当該第二層６を形成する。 （もっと読む）

【課題】ハードディスクパターン等の微細パターンの描画が、簡易な制御により基板全面で所定形状に高精度かつ短時間に描画可能とする。
【解決手段】レジストが塗布された基板１０を一方向に回転させつつ、電子ビームＥＢを描画オン・オフ制御により基板の回転に依存して描画するについて、半径方向にｎ分割したエレメントの第１区画を描画した後、電子ビームを基板回転方向および半径方向に偏向させて第２区画の描画開始位置へ移動させて描画するのを当該エレメントに対し１回転にｍ回（ｍ≧２）行った後、次のエレメントの描画に移行し順次描画する。 （もっと読む）

【課題】磁気特性ダメージの横方向への広がりによる分離部に対する磁性部の割合（デューティ）の悪化を起こすことなく、また、簡便な方法で製造でき、生産性に優れた磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】インプリントにより凹凸パターンが形成されたマスク層を介して、イオン注入または活性化ハロゲン含有反応性ガスを暴露することにより、マスク層の凹部に対応する位置の磁気記録層の磁気特性を変質させて磁気記録層のマスク層の凸部に対応する位置の磁性部を磁気的に分離する分離部を形成する分離部形成工程を備え、マスク層を構成するレジスト材料が、インプリント工程の後に凹凸パターンの形状が変化する材料であって、分離部形成工程を開始する際のマスク層の凹凸パターンの段差部のテーパ角度が、６６°以上８８°以下である。 （もっと読む）

【課題】サーボ情報を別途書き込む必要のない磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】データを記録するデータ領域と、上記データ領域に隣接し、磁気ヘッドの制御情報が記録されたサーボ情報とを備え、上記データ領域には、溝又は非磁性体により画成されたドットからなるパターンが形成されており、上記サーボ領域には、上記ドットからなるパターンは形成されておらず、平坦な領域に磁気情報が書き込まれている。 （もっと読む）

【課題】アルゴンガスと酸素ガスでのドライエッチング速度の選択性が高く、高いスループットで微細パターンを形成することができるナノインプリント法に好適な転写材料用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】アミノ基が芳香環に直接結合された芳香族アミン化合物と分子内にエポキシ基と（メタ）アクリロイル基を有する化合物を反応させて得られる芳香族アミン型（メタ）アクリレート化合物を含有することを特徴とする転写材料用硬化性組成物である。 （もっと読む）

第１のインプリント層を第１のポリマー層の頂面上に提供するステップと、構造をインプリントして中間スタンプを得るステップとを備える中間ポリマースタンプから金属スタンプを得るための方法及びプロセス。インプリントされたポリマーが非導電性である場合には、シード層を得るために電性層が構造の頂面に提供され、金属スタンプを得るために中間ポリマースタンプの頂面に金属をメッキし、次いで中間スタンプを金属スタンプから分離する。
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【課題】凹凸パターンで形成された記録層を有し記録密度が高く磁気信号の記録の信頼性が高い磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体１０は、基板と、基板の上に所定の凹凸パターンで形成され該凹凸パターンの凸部が記録要素１４を構成する記録層１６と、を有し、記録要素１４の側壁部１４Ａの核形成磁界Ｈns、記録要素１４の中央部１４Ｂの核形成磁界Ｈnc、側壁部１４Ａの保磁力Ｈcs及び中央部１４Ｂの保磁力Ｈccが次の式(I)及び式(II)
Ｈnc＜Ｈns (I)
Ｈnc／Ｈcc＜Ｈns／Ｈcs (II)
の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】凹凸パターンで形成された記録層を有し記録密度が高く磁気信号の記録の信頼性が高い磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体１０は、基板１２と、基板１２の上に所定の凹凸パターンで形成され該凹凸パターンの凸部が記録要素１４を構成する記録層１６と、を有し、記録層１６の材料はＣｏ、Ｃｒ及びＰｔを含む磁性粒子と、Ｃｒを含み磁性粒子の間に存在する非磁性材料と、を含む材料であり、記録要素１４を構成するＣｏ、Ｃｒ及びＰｔの原子数の合計値に対する記録要素１４を構成するＣｒの原子数の比率が記録要素１４の側壁部１４Ａにおいて記録要素１４の中央部１４Ｂにおけるよりも低くなるように記録要素１４中にＣｒが偏って分布している。 （もっと読む）

【課題】 磁性パターン間の磁気的干渉を分断してノイズを低減でき、しかも腐食の原因物質を含まない磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 Ｃｏを含有する強磁性記録層からなる磁性パターンと、前記磁性パターン間を分断する非磁性層とを具備し、前記非磁性層は前記磁性パターンと同じ構成元素からなり、前記非磁性層のＣｏ濃度は前記磁性パターンのＣｏ濃度の６０％以下であり、前記非磁性層のＣｏ濃度は表面側よりも下地側で高い磁気記録媒体。 （もっと読む）

【課題】パターンドメディアの作製工程で記録層表面の凹凸が大きくなるためヘッドとメディア間のスペーシングが大きくなり、その結果として記録性能と耐食性が劣化する。
【解決手段】パターンドメディアにおいて、記録層を、１層あるいは複数層の結晶質磁性膜１０２と、結晶質磁性膜１０２の最表面上に位置する非晶質構造の磁性膜１０５で構成し、非晶質構造の磁性膜１０５の構成元素とその直下に位置する結晶質磁性膜１０２の構成元素を同じにする。また、その製造方法において、結晶質磁性膜１０２の表面を非晶質化して非結晶質構造の磁性膜１０５を形成する。 （もっと読む）

【課題】良好なパターン転写が可能なパターン転写用スタンパを得る。
【解決手段】表面張力は３１ないし３９ｍＮ／ｍの紫外線硬化型樹脂と、臨界表面張力が２６ないし３１ｍＮ／ｍであり、離形剤が添加されて射出成形により成形されたスタンパとを組み合わせて使用し、パターン転写を行う。 （もっと読む）

【課題】加工工程におけるレジストの縮小による記録層のＤｕｔｙ比の低下を防止する。
【解決手段】 ＢＰＭ（Ｂｉｔ Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｍｅｄｉａ）、ＤＴＭ（Ｄｉｓｃｒｅｔｅ Ｔｒａｃｋ Ｍｅｄｉａ）等のパターン記録媒体の製造工程において、記録層を含む被加工体に形成されたレジストパターン上にレジスト保護膜を堆積する堆積工程と、パターン底部に残る前記レジスト保護膜を除去することで、前記マスクに成形するレジスト保護膜加工工程と、前記レジストパターンと前記レジスト保護膜をマスクとして、ドライエッチングにより記録層をパターン形状に加工する記録層加工工程と、を経る。 （もっと読む）

【課題】優れた電磁変換特性が得られる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板１の少なくとも一方の面上に磁性層２を形成する工程と、磁性層２の面上を覆うマスク層３を形成する工程と、マスク層３の上にレジスト層４を形成する工程と、レジスト層４の表面を磁気記録パターンに対応した形状にパターニングする工程と、パターニングされたレジスト層４を用いてマスク層３をパターニングする工程と、パターニングされたマスク層３を用いて磁性層２を部分的に除去する工程と、マスク層３をレジスト層４と共に磁性層２上から除去する工程とを含み、マスク層３及びレジスト層４をドライエッチングにより除去する際に、実質的に酸素、窒素、ハロゲンを含まない還元性のガスを用いる。 （もっと読む）

【課題】レジスト層の下に導電化層を形成してレジスト層にパターンを描画する際の電子線の散乱を低減することにより、パターンの高さ不良やパターン幅のばらつきを低減し、以ってより微細なパターン形状を精度よく形成可能なスタンパの製造方法を提供する。
【解決手段】シリコンへのドーパントのドープ又はポリシリコンの成膜により基板上に導電化層を形成する導電化層形成工程と、前記導電化層上にレジスト層を形成して電子線により描画し、前記導電化層の表面が凹部に露出するレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、前記導電化層を電流シード層として電鋳により前記レジストパターン上に金属めっき層を形成する電鋳工程とを備え、前記基板、導電化層及びレジストパターンを除去して前記金属めっき層をスタンパとする。 （もっと読む）

【課題】鮮明な磁気記録パターンを有する磁性層の平滑化プロセスを高速で行うことを可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、非磁性基板１の上に磁性層２を形成する工程と、前記磁性層２の上にカーボンマスク層２０を形成する工程と、前記カーボンマスク層２０の上にレジスト剥離層２１を形成する工程と、前記レジスト剥離層２１の上に、前記磁気記録パターンに対応した形状にパターニングされたレジスト層３を形成する工程と、前記レジスト層３をマスクにして前記レジスト剥離層２１、前記カーボンマスク層２０、前記磁性層２を部分的に除去する工程と、前記磁性層２が除去された面上を覆い、少なくとも前記レジスト剥離層２１の一部を埋設する非磁性層４を形成する工程と、前記磁性層２が露出するまで前記非磁性層４に研磨加工を施す工程と、を具備してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】鮮明な磁気記録パターンを有する磁性層の平滑化プロセスを高速で行うことを可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、非磁性基板の上に磁性層を形成する工程と、前記磁性層を部分的に除去し、その面上にＳｉＯ_２からなる非磁性層を形成する工程と、前記磁性層が表出するまで前記非磁性層に研磨加工を施す工程と、を含み、前記研磨加工は、前記非磁性基板を回転させながら、前記非磁性層の表面にセリアスラリーを供給し、走行する研磨テープを前記非磁性層の表面に押し付けることにより行い、前記セリアスラリーは、一次粒子の平均一次粒子径が０．０１μｍ〜１μｍの範囲内であり、平均二次粒子径が０．０５μｍ〜５μｍの範囲内である酸化セリウム粒子を含み、かつ、分散液として水系分散剤または水を用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明はサーボエリアを設定し、サーボエリア、データエリアのうち少なくとデータエリアの欠陥を検出できるパターンドメディア用ハードディスク検査装置及び検査方法を提供することにある。
【解決手段】本発明はサーボエリア及びデータエリアにパターンが形成されたハードディスク表面に２次元的に走査して照射し、前記ハードディスク表面からの散乱光を受光して前記ハードディスク表面の欠陥を検出する際に、前記散乱光のうちサーボエリアから第１散乱光に基づいてサーボエリアを設定し、前記設定結果から前記散乱光のうちデータエリアからの第２散乱光を抽出し、前記データエリアの欠陥を検出することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ディスクリートトラックが形成された磁気記録層に保護層形成および潤滑剤塗布後にテープバーニッシュを行っても、耐腐食性を低下させることなく、平滑な表面を有し、かつ、信号特性や信頼性に優れたパターンドメディア型磁気記録媒体の製造方法を提供すること。
【解決手段】非磁性基板上に金属下地層を介して積層され、凹部状のディスクリートトラックにより分割して形成された磁気記録層１４の表面に、真空紫外領域の紫外線を照射し、該基板表面の帯電電圧を５０Ｖ以内に制御する工程Ｐ１１、前記磁気記録層の凹部に非磁性体を埋め込む工程Ｐ１２、表面平坦化工程Ｐ１４、保護層形成工程Ｐ１７、Ｐ１８、Ｐ１９および潤滑剤塗布工程をこの順に実施した後、テープバーニッシュ工程を施すパターンドメディア型磁気記録媒体の製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】ＤＬＣ膜の諸性質を、それぞれの用途における要求特性などに応じて、二次的に改質することを目的とするものである。
【解決手段】基材の表面に、膜厚３μｍ超の厚膜ＤＬＣを被覆してなる部材において、この厚膜ＤＬＣは、水素が１３〜３０原子％、残部が炭素である微粒子の堆積層からなるものであって、残留応力が１．０ＧＰａ以上、硬さ（Ｈｖ）が７００〜２８００の熱処理ＤＬＣの膜であることを特徴とする厚膜ＤＬＣ被覆部材。 （もっと読む）