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Fターム[5D112AA19]の内容

磁気記録媒体の製造 (17,949) | 磁気記録媒体の構造、形状、物性 (7,034) | 積層以外の構造 (1,156) | 凸部、突起、粒子等が層を貫通している構造 (388)

Fターム[5D112AA19]に分類される特許

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【課題】製造工程中にある基板表面の劣化を防ぎ、加工形状のばらつきおよび放電が安定するまでのロス時間を抑制し、加工したパターン形状が安定し信頼性にすぐれたパターンドメディア型磁気記録媒体の製造方法を提供すること。
【解決手段】非磁性基板10上に少なくとも金属下地層11、12、13、磁気記録層14、カーボン層15をこの順に積層した後、連続型の真空装置に搬入し、複数のプロセス処理用真空チャンバーでプロセス処理する際に、前記複数のプロセス処理用真空チャンバーを、それぞれ圧力調整用チャンバーを介して相互に連結させ、それぞれの圧力調整チャンバーに不活性ガスを導入するとともに、前記各圧力調整チャンバーの圧力を隣接する前記各プロセス処理用真空チャンバーの圧力に対して±25%以内の圧力とする。 (もっと読む)


【課題】強磁性層からなる記録領域等の間に非磁性層からなる分離領域が設けられ、強磁性層間の面内距離が異なっても優れた磁気ヘッド浮上性を有する記録領域分離型の磁気記録媒体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基体上に直接あるいは少なくとも中間層を介して磁気記録層が形成してある磁気記録媒体及びその製造方法において、磁気記録層は、記録領域と、記録領域を隔てる分離領域102とを有するパターンドメディアであり、Tiを含む非磁性合金層103−2を分離領域102に形成する。 (もっと読む)


【課題】電鋳による複製時にパターン形成不良を生じ難い電鋳用原盤を提供する。
【解決手段】凹凸パターンは、少なくとも一方の主面に導電性領域をもつ基板と、一方の主面の導電性領域上に形成された、微結晶、多結晶、アモルファスまたはその酸化物からなる凸パターン層とを有する。 (もっと読む)


【課題】電鋳による複製時にパターン形成不良を生じ難い電鋳用原盤を得る。
【解決手段】Si基板の凹凸パターン表面に不純物イオンがドープされ、Si基板の膜厚方向の不純物イオン濃度の分布は、凹凸パターン表面から膜厚方向の深さ40nmまでの間にピークを有し、ピークの不純物濃度は1×1020個/cmないし2×1021個/cmである電鋳用原盤。 (もっと読む)


【課題】
一台の検査装置で従来の連続記録磁性媒体の磁気ディスクの表面欠陥の検査とディスクリートトラック方式、パターンドメディア方式の磁気ディスクの表面欠陥の検査を行うことを可能にする。
【解決手段】
連続記録磁性媒体の磁気ディスクの表面欠陥を検査するときには連続記録磁性媒体検査用のしきい値と比較して欠陥を検出し、ディスクリートトラック方式又はパターンドメディア方式の磁気ディスクの表面欠陥の検査するときにはディスク表面からの反射光を検出した信号のレベルに基いてデータ領域とサーボ領域とを識別し、それぞれの領域からの反射光検出信号を領域に応じたしきい値処理をして欠陥を検出するようにした。 (もっと読む)


【課題】ディスクリートトラック媒体の磁気特性分布を検査する際に好適に用いることができ、磁気記録媒体の磁気特性分布を精度よく検査できる精度よく検査できる磁気記録媒体の検査方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板上に、磁気的に分離された磁気記録パターン41aが備えられた磁気記録媒体の検査方法であって、磁気記録パターン41a上の複数の測定位置5に、書き込みヘッドにより、トラック幅よりも幅の狭い第1信号6を書き込む第1信号書込工程と、読み込みヘッドに第1信号6を読み込ませて、測定位置5に対応する複数の第1読込信号を得る第1信号読込工程と、前記第1信号読込工程において得られた複数の第1読込信号を用いて、磁気記録パターン41aの磁気特性を解析する解析工程とを含む磁気記録媒体の検査方法とする。 (もっと読む)


【課題】磁気記録媒体の製造方法において良好なパターン転写が可能な紫外線硬化性樹脂材料を得る。
【解決手段】イソボルニルアクリレート、フルオレン骨格を有するアクリレート、多官能アクリレート、及び重合開始剤を含有するパターン転写用紫外線硬化性樹脂材料を含む塗布層を介して貼り合わせ、該未硬化の紫外線硬化性樹脂材料の塗布層に紫外線を照射することにより、硬化せしめ、該樹脂スタンパを剥離して、前記磁気記録層の片面上に凹凸パターンが転写され、硬化された紫外線硬化性樹脂材料層を形成し、硬化された紫外線硬化性樹脂材料層をマスクとしてドライエッチングを行い、磁気記録層表面に、凹凸パターンを形成する。 (もっと読む)


【課題】 基板へのダメージを抑制しつつ、基板の表面に対して超音波による洗浄処理を施すことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】 基板処理装置1は、基板Wを水平に保持して回転させるスピンチャック10と、スピンチャック10に保持された基板Wの上面に第1処理液(HFE)、第2処理液(気体溶存水)をそれぞれ供給する第1処理液供給ノズル20、第2処理液供給ノズル17を備えている。スピンチャック10に保持された基板Wの上面にHFEおよび気体溶存水が供給され、基板Wの上面にHFEの液膜が形成され、さらにその上層に気体溶存水の液膜が形成される。この状態で気体溶存水とHFEの液膜に超音波振動が付与される。これにより、気体溶存水の液膜でのみ発生したキャビテーションによる衝撃エネルギーがHFEの液膜で緩和されつつ、基板Wの洗浄処理が施される。 (もっと読む)


【課題】本発明は、高記録密度ハードディスクドライブに用いられるディスクリートトラックメディア等のパターンドメディアを製造する方法において、レジストマスク層を除去する際に、除去されずに残存するレジストマスクによる表面平坦度の悪化をなくすことを課題としている。
【解決手段】基板上に、記録領域と非記録領域とが、基板の面内方向において規則的に配列された磁気記録層を備えるパターンドメディアの製造方法であって、SOGからなるレジストマスク層をアルカリ溶剤を用いて除去する工程では、イオン照射によってアルカリ系溶剤に対する溶解度が凸部よりも悪くなったレジストマスク層の凹部の膜厚に基づいて、レジストマスク層除去の終点を判定することを特徴とする、パターンドメディアの製造方法。 (もっと読む)


【課題】トラック間の磁気的な相互干渉を低減し、かつ記録密度を向上させるために、複合磁気記録層に設けた凹凸形状における凸部を、連続膜で設計した垂直磁気記録層と同等の膜厚で同等の垂直磁気記録特性を示すように高品質に形成されるディスクリートトラックメディア型垂直磁気記録媒体の製造方法を提供すること。
【解決手段】非磁性基体1上に少なくとも磁気記録層5と犠牲層とカーボン保護層6とをこの順に積層する第1工程と、記録トラックとなる凸部を形成するように同心円状に形成したレジスト膜パターンをマスクとして開口部の前記レジスト膜と前記カーボン保護層6を除去して凹部を形成する第2工程と、該凹部に露出する前記犠牲層と磁気記録層5とを非磁性化する第3工程と、前記凹部に挟まれる前記凸部の前記レジスト膜と前記カーボン保護層6と前記犠牲層を除去する第4工程と、前記凹部と前記凸部の上にカーボン保護層6と潤滑層7をこの順に被着する第5工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】基板を均一に処理することができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】基板処理装置は、基板Wを非回転状態で保持する基板保持手段と、ノズル4と、処理液供給手段と、制御手段とを含む。ノズル4は、基板保持手段に保持された基板Wの主面の中央部に向けて流体を吐出する中央吐出口11、主面の中央部を取り囲む環状の中間領域T1に向けて外向きに流体を吐出する中間吐出口12、および中間領域T1を取り囲む環状の周縁領域T2に向けて外向きに流体を吐出する周縁吐出口13を有する。処理液供給手段は、中央吐出口11、中間吐出口12、および周縁吐出口13に個別に処理液を供給する。制御手段は、処理液供給手段を制御して、中央吐出口11、中間吐出口12、周縁吐出口13の順番で処理液を吐出させる。 (もっと読む)


【課題】
スキャトロメトリを用いることにより、基板上に形成された線幅数100nm以下のパターンの断面形状を、例えばディスク全面を数マイクロメータ程度の領域毎に検査・測定することも可能となる。しかし、ディスク全面を数マイクロメータ程度の領域毎に検査・測定したパターンの幅や高さ等を全て表示することは困難であり、また全て表示することが必ずしも有効であるとはいえない。
【解決手段】
本発明では、パターンの幅や高さ、特にデバイスの性能に直接影響を及ぼすパターン断面の磁性体部分の断面積(単位長さあたりの体積)等の分布を独立に、又は組み合わせて表示する。また、結果の特徴を強調して表示する。さらに、リードライトテスト結果との相関を予め評価しておくことにより、パターン断面形状の検査・測定時に最終的な不良箇所の特定を可能とし、不良の発生を事前に防止することができる。 (もっと読む)


【課題】良好なパターン転写が可能な紫外線硬化性樹脂材料を用いて磁気記録媒体を得る。
【解決手段】2−メチルー2ーアダマンチルアクリレート、2-エチルー2-アダマンチルアクリレート、及び1,3−アダマンタンジメタノールジアクリレートのうち少なくとも1種、イソボルニルアクリレート、多官能アクリレート、及び重合開始剤を含有するか、または上記アクリレートの少なくとも1つ、重合開始剤、及びフッ素系アルコールを含有するパターン転写用紫外線硬化性樹脂材料を用いた磁気記録媒体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】プロセスダメージを除去して磁気特性の劣化を防止できる磁気記録媒体(パターンド媒体)の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に磁気記録層、エッチング保護層、および密着層を形成し、前記密着層上にレジストを塗付し、インプリントにより前記レジストに凹凸パターンを転写してレジストパターンを形成し、前記レジストパターンをマスクとして前記密着層をパターニングし、前記レジストパターンをマスクとしてエッチング保護層をパターニングし、前記密着層およびエッチング保護層のパターンをマスクとして磁気記録層をエッチングして磁気記録層の凹凸パターンを形成するとともに前記密着層のパターンを剥離し、前記エッチング保護層のパターンを剥離し、前記磁気記録層の凹凸パターンを非イオン化還元性ガスに曝すことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】良好なパターン転写が可能な紫外線硬化性樹脂材料を用いて半導体装置を得る。
【解決手段】2−メチルー2ーアダマンチルアクリレート、2-エチルー2-アダマンチルアクリレート、及び1,3−アダマンタンジメタノールジアクリレートのうち少なくとも1種、イソボルニルアクリレート、多官能アクリレート、及び重合開始剤を含有するか、または上記アクリレートの少なくとも1つ、重合開始剤、及びフッ素系アルコールを含有するパターン転写用紫外線硬化性樹脂材料を用いて半導体装置を製造する。 (もっと読む)


【課題】パターンサイズの異なる各種凹凸パターンをそれぞれのパターンの描画位置精度を確保して正確に描画可能とする。
【解決手段】DTMまたはBPMの記録メディアに形成する微細パターンを、レジスト11が塗布されたモールドの原盤10に、電子ビーム描画装置により電子ビームEBを走査して描画する際に、前記微細パターンにおける、メディア用サーボパターン12およびデータトラック間のグルーブパターン15による第1の凹凸パターン、円周に沿って環状にパターン形成された円環状位置決めマーク17およびトレサビリティー用製品識別マーク19による第2の凹凸パターン、転写時のポイント状位置決めマーク18による第3の凹凸パターンのうち少なくとも2種を、同一真空チャンバー43内で1枚の原盤に連続して電子ビーム描画する。 (もっと読む)


【課題】より小径かつ小ピッチのナノパターンを形成することができるナノ金型の製造方法の提供。
【解決手段】ナノインプリント法に用いられるナノ金型の製造方法であって、Al基板20上に非晶質炭素材料のDLCから成る被エッチング層21を形成する第1の工程と、集束イオンビーム援用化学気相成長により、被エッチング層21上に薄膜パターン22を形成する第2の工程と、薄膜パターン22をマスクとして、酸素ガスを用いたドライエッチングにより被エッチング層21をエッチングし、複数のナノ凸パターン200が形成された成型転写面を形成する第3の工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】高価なモールドもしくはテンプレートを容易に複製することができ、その複製物をレプリカモールドとして安価で量産性に優れた光ナノインプリントに適用することが可能な光硬化性転写シートを提供する。
【解決手段】官能基当量が300〜10000g/molの熱硬化性の官能基を分子内に2つ以上有する変性ポリジメチルシロキサン(A)、光重合性化合物(B)及び熱硬化剤(C)を含有する光硬化性樹脂組成物が熱硬化された層を有することを特徴とする光硬化性転写シート。光硬化性樹脂組成物層は熱硬化性の官能基が水酸基の場合には分子内に2つ以上のイソシアネート基を有するイソシアネート化合物(C1)を含有し、熱硬化性の官能基がエポキシ基の場合には酸無水物(C2)を含有し、好ましくは、更に熱硬化反応促進剤(D)及び/または光重合開始剤(E)を含む。 (もっと読む)


【課題】記録層の凹部や凸部の幅が比較的大きい領域と記録層の凹部や凸部の幅が比較的小さい領域とが混在する場合でも、表面の粗さの差を充分に抑制できることができる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】記録層32を第1マスク層22に基づいてエッチングして凹凸パターンに加工する工程と記録層32及び第1マスク層22の上に充填材36を成膜して凹凸パターンの凹部を充填する工程との間に、第1マスク層22に対するエッチングレートが記録層32に対するエッチングレートよりも高いドライエッチング法により記録要素32A(記録層32の凸部)の上に第1マスク層22が残存するように記録要素32Aの上の第1マスク層22の一部を除去する工程を設けた。 (もっと読む)


【課題】磁性パターンの側壁へのダメージを防止し、プロセスダストや非磁性体の膜厚分布の発生を抑制できる磁気記録媒体。
【解決手段】基板上に形成された凸状をなす磁性パターンと、前記磁性パターン間の凹部に埋め込まれ、酸素原子濃度が基板側よりも表面側で高くなっている非磁性体とを有する磁気記録媒体。前記磁性パターン間の凹部に、酸素原子濃度が基板側よりも表面側で高くなっている非磁性体が複数層埋め込まれている磁気記録媒体。 (もっと読む)


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