【課題】レジストパターンの形成において、残膜をエッチングする工程後のレジストパターンの凸部の幅が、残膜をエッチングする工程前におけるレジストパターンの凸部の幅以上の所望の幅となることを可能とする。
【解決手段】凹凸パターンが転写されたレジスト膜２の残膜エッチング工程が、エッチングの際に堆積物４を生成する堆積性ガスを含有する第１のエッチングガスを用いて、レジストパターンにおける凸部の側壁に堆積物４が堆積しかつ残膜がエッチングされる条件でレジスト膜２をエッチングする第１のエッチング工程を含み、堆積物４を含めた上記凸部の幅が残膜エッチング工程前における上記凸部の幅以上の所望の幅となるように第１のエッチング工程以後の工程によってレジスト膜２をエッチングする。 （もっと読む）

【課題】サーボ情報を正確に読出しできるサーボパターンを形成可能な露光パターンを描画する。
【解決手段】両位相サーボ部のパターンＰＳ５ａ，ＰＳ５ｂの描画時に、これらを構成する露光領域Ａ１および非露光領域Ａ２のうちの回転方向で並ぶ一組の領域Ａ１，Ａ２の各半径位置毎の回転方向に沿った合計長をそれぞれ第１の長さとしたときに、両パターンＰＳ５ａ，ＰＳ５ｂの一方の領域Ａ１における回転方向と交差する辺の半径方向に対する交差角度と、他方の交差角度との同一の半径位置における角度差が最大となる半径位置を含む領域内において、１つのサーボトラックＳＴにおける第１の長さの範囲内への描画用ビームの総照射量を第１の長さで除した第１の値が、同一の半径位置において、両パターンＰＳ５ａ，ＰＳ５ｂのうちのトラックＳＴ内の交差角度が小さい一方よりも、交差角度が大きい一方の方が大きくなるようにビームを照射する。 （もっと読む）

【課題】所定の微細な凹凸パターンを表面に有するモールドを用いたナノインプリントにおいて、基板上の硬化性樹脂にモールドを押し付け、その後これらを剥離する際に、硬化性樹脂パターンのそれぞれの凸部の端部が倒れることを抑制する。
【解決手段】ライン状の複数の凸部１４および複数の凹部１５から構成される微細な凹凸パターン１３を表面に有するナノインプリント用のモールド１において、凹凸パターン１３が、所定形状の端部１５ａを有する凹部１５を少なくとも１つ含むものであり、所定形状が、上記端部１５ａを有する凹部１５における当該端部１５以外の部分であって当該端部１５ａに接続している接続部分１５ｂの断面のアスペクト比よりも小さいアスペクト比の断面を当該端部１５ａが有するような形状であるものとする。 （もっと読む）

【課題】インプリント装置において基板保持面またはモールド保持面に存在する異物を除去するために有利な技術を提供する。
【解決手段】基板に塗布された樹脂とモールドのパターン面とを接触させて該樹脂を硬化させるインプリント装置１００は、前記基板を保持する基板保持部４と、モールド保持面ＭＳで前記モールドを保持するモールド保持部３と、前記モールド保持部３に対して前記基板保持部４を相対的に移動させる駆動機構と、前記基板保持部４により前記基板の代わりにクリーニング部材１２が保持されて前記クリーニング部材１２と前記モールド保持面ＭＳとが接触した状態で前記モールド保持部３に対して前記基板保持部４が相対的に移動するように前記駆動機構を制御し、これにより前記モールド保持面ＭＳをクリーニングする制御部２０とを備える。 （もっと読む）

【課題】高速でパターン転写を行っても良好なパターン形成性を有し、欠陥が少なく、基板加工用途に用いた際にエッチング後のラインエッジラフネスが良好であるインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】重合性単量体（Ａ）を少なくとも１種と、光重合開始剤（Ｂ）とを含有するインプリント用硬化性組成物であって、前記重合性単量体（Ａ）が、水素結合性官能基と含フッ素基を有する重合性単量体（Ａｘ）を含有することを特徴とするインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】磁性部とその凹部内に埋め込まれた非磁性部とを露出させて平坦な研磨面を形成させることができる研磨液を提供すること。
【解決手段】磁性材料を含む磁性部１１と、該磁性部１１に形成された複数の凹部１２０を覆うように埋め込まれた非磁性材料１２５とからなる複合体１５を、磁性部１１と凹部１２０内に埋め込まれた非磁性材料からなる非磁性部１２とが露出して平坦な研磨面１６を形成するまで研磨するために用いられる研磨液である。研磨液は、水とエッチング剤とを含有する。研磨液は、エッチング剤として、アルカノールアミンと、温度２５℃、濃度０．０１ｍｏｌ／Ｌの水溶液のｐＨが１１以上であるアルカリ性化合物（但し、アルカノールアミンを除く）からなるエッチング剤とを含有する。 （もっと読む）

【課題】マスク層の除去を確実に且つ高速で行うことを可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】磁気的に分離された磁気記録パターン２ａを有する磁気記録媒体の製造方法であって、非磁性基板１の上に磁性層２を形成する工程と、磁性層２の上に溶解層３を形成する工程と、溶解層３の上にマスク層４を形成する工程と、溶解層３及びマスク層４を磁気記録パターン２ａに対応した形状にパターニングする工程と、磁性層２のマスク層４及び溶解層３で覆われていない箇所を部分的に改質又は除去する工程と、溶解層３を薬剤により湿式溶解し、その上のマスク層４と共に磁性層２の上から除去する工程とを含み、溶解層３を形成する工程において、有機ケイ素化合物を有機溶媒に溶解した塗液を磁性層２の上に塗布した後、この塗液を固化することによって溶解層３を形成する。 （もっと読む）

【課題】高密度でＳＮＲを高めた熱アシスト記録装置用の磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】熱アシスト記録装置用の磁気記録媒体である。該磁気記録媒体が、非磁性基体、磁気記録層、保護層、および液体潤滑層をこの順に含み、該磁気記録層が、磁性部および該磁性部を取り囲む非磁性部からなるグラニュラー構造を有し、該グラニュラー構造における該非磁性部の割合が１５体積％以上３０体積％以下であり、該非磁性部が炭素系材料を含み、該磁気記録媒体の表面が、算術平均粗さＲａおよび粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍを有し、Ｒａ／ＲＳｍが０．０５以上０．１５以下である。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いアルコール溶媒Ｂと、メチルイソブチルケトンからなる溶媒Ｃとを含む。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、アルコール溶媒Ａと、メチルイソブチルケトンからなる溶媒Ｂとを含む。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高い酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｂとを含む。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いメチルイソブチルケトンからなる溶媒Ｂとを含む。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いアルコール溶媒Ｂと、酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｃとを含む。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層を用いて、所望の解像度を示すレジストパターンを形成する際の必要露光量の低減。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるアルコール溶媒Ａと、酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｂとを含むレジスト現像剤。 （もっと読む）

【課題】ビットパターンを高密度に集積した場合にも，熱安定性と記録性に優れ，ビットパターンのトラック周期よりも広い記録素子及び再生素子の磁気ヘッドを用いることができるようにする。
【解決手段】円錐台状の記録ビットの下層に垂直磁気異方性の大きい熱安定層を，上層に飽和磁束密度の大きい高出力層を備える。外周部は高出力層を除去して熱安定性を向上した熱安定性領域２２とし，中心部は再生領域２１とする。また，外周部と中心部の間に垂直磁気異方性と飽和磁束密度を小さくした反転制御領域２３を設ける。 （もっと読む）

【課題】１つ以上のブロック共重合体および１つ以上のナノインプリントステップを製造プロセスに組込むことによってナノパターン化するための方法を提供する。
【解決手段】ブロック共重合体は有機もしくは無機成分で構成され得、層状、球状、または円筒状であり得る。その結果、５〜１００ｎｍの特徴ピッチおよび／または少なくとも１Ｔｄｐｓｉのビット密度を有する一次元もしくは二次元のパターンを有するパターンド媒体が形成され得る。 （もっと読む）

【課題】インプリントレジスト特徴寸法の拡大を可能にするパターン化磁気記録ディスクの製作方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、インプリントレジストがＮＩＬによりパターン化された後インプリントレジスト特徴部の寸法を拡大する。インプリントレジスト材料の層は、ブランクディスク上に堆積される。インプリントレジスト層はＮＩＬによりパターン化され、上部から基部まで傾斜した側壁を有する複数の離間されたレジスト柱を生じる。被覆層が、傾斜したレジスト柱側壁の上を含むパターン化されたレジスト層の上に堆積される。被覆層は次に、レジスト柱間の空間部内にブランクディスクを露出する一方で傾斜したレジスト柱側壁上に被覆層を残すためにエッチングされる。レジスト柱は次に、ブランクディスクをエッチングするためのマスクとして使用され、ブランクディスク上に複数の個別のアイランドを残す。 （もっと読む）

【課題】新規な形状のスタンパ及びそのスタンパの新規な配列形態を有する両面インプリント装置を提供する。
【解決手段】昇降機構に支持された上面側スタンパ装置５と、ガイドレール上に乗せられた移動テーブルに固設された下面側スタンパ装置３と被転写体剥離装置とからなり、移動テーブルは移動駆動機構により前記ガイドレール上を往復動することができ、これにより、上面側スタンパ装置の位置を中心として、下面側スタンパ装置と被転写体剥離装置とが、上面側スタンパ装置に対峙する位置に交互に移動することができる両面インプリント装置において、下面側スタンパ装置に配設される下側スタンパ２９が長方形の形状を有し、かつ、上面側スタンパ装置に配設される上側スタンパ３５が長方形の形状を有し、下側スタンパと上側スタンパとが十字形の対峙形態となるように下面側スタンパ装置及び上面側スタンパ装置にそれぞれ配設されている。 （もっと読む）

【課題】信頼性が高い所望のサーボ情報を磁気ディスク等の情報記録媒体の両面に記録できる磁気転写用スタンパを効率良く製造できる方法を提供する。
【解決手段】原盤４０の初期凹凸パターンと凹凸関係が等しい基板１２を有する第１スタンパを作製する第１スタンパ作製工程と、原盤４０の初期凹凸パターンと凹凸関係が逆である基板２２を有する第２スタンパを作製する第２スタンパ作製工程と、を含み、少なくとも一方のスタンパ作製工程は、最終被転写物及び最終被転写物よりも偶数回前の転写で得られる中間被転写物のいずれかを凸部が平面視において縮小するように加工する凸部縮小工程、及び最終被転写物よりも奇数回前の転写で得られる中間被転写物５０、第２中間被転写物５４を凸部が平面視において拡大するように加工する凸部拡大工程のいずれかの凸部修正工程を含む。 （もっと読む）

【課題】 基板ホルダー周りに被エッチング膜の付着することによるエッチングレートの低下を防止する。
【解決手段】 基板ホルダーに搭載された基板に対し各処理を行って磁気記録媒体を製造する装置において、基板を搭載しない状態の前記基板ホルダーに第１の膜を成膜するホルダー成膜室と、前記第１の膜が成膜された前記基板ホルダーに基板を搭載する基板搭載室と、磁性膜層を含む多層膜上に所定パターンのレジスト層が形成された基板に対し、ドライエッチング処理を行い、前記磁性膜層を前記所定パターンに基づく形状に加工する加工室と、を有し、前記第１の膜は、前記ドライエッチング処理により除去される前記多層膜中の膜よりもエッチングされにくい膜であり、前記加工室、ホルダー成膜室及び基板搭載室は、大気より減圧条件下で基板ホルダーを搬送可能に接続されている。 （もっと読む）