【課題】樹脂のパターン形成部に混入する気泡を減少させつつ、パターン形成部の欠陥の発生を抑えることが可能なインプリント装置を提供する。
【解決手段】本発明は、基板５上の未硬化樹脂５２とモールド３とを互いに押し付けて、基板５上に樹脂５２のパターンを形成するインプリント装置１に係る。ここで、モールド３は、基板５に対向する側の中央部に、樹脂５２と接触する凹凸パターン３ｃが形成される平板部３ａと、外周側に壁部３ｂとを有する箱形の形状を有する。このインプリント装置１は、壁部３ｂの垂直面３ｄを引き付けて保持する保持部２４を有するモールド保持装置４を備え、該モールド保持装置４は、平板部３ａの中央部と壁部３ｂとの間の形状を変形させるモールド変形機構５０を備える。 （もっと読む）

【課題】検出器の分解能に起因するエラーの発生を抑制する。
【解決手段】データ部とサーボ部とが基板上に形成され、磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤において、データパターンは以下の条件（１）及び（２）を満たすようにデータ部内に配置されている。（１）各々のトラックのサーボ部からデータ部に向かう方向において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、サーボ部に最も近いデータパターンまでの距離が、検出器における分解能の自然数倍である。（２）各々のトラック内において、データ部内のデータパターンから、該データパターンと隣接して形成された別のデータパターンまでの距離が、検出器における分解能の自然数倍である。 （もっと読む）

【課題】磁性層の表面を酸化またはハロゲン化させることなく、かつ、ダストによって表面が汚染されず、製造工程が複雑にならない磁気的に分離した磁気記録パターンが形成された磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】磁気的に分離した磁気記録パターンを有する磁気記録媒体の製造方法であって、非磁性基板１上に磁性層２を形成する工程と、磁性層２の上に磁気記録パターンを形成するためのカーボンからなるマスク層３を形成する工程と、磁性層２のマスク層３に覆われていない部位７に水素化カーボンイオンを含むイオンビーム１０を照射し、磁性層２に非磁性体である炭化コバルトを形成する工程と、マスク層３を除去する工程と、をこの順で有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 両面インプリント装置において、下面側スタンパ装置の下側スタンパ上に位置決めされて載置された未硬化レジスト塗布ディスクが下面側スタンパ装置の移動の際に位置ズレを起こさないための方法を提供する
【解決手段】 前記方法は、(a)未硬化レジストが両面に塗布されているディスクを、前記下面側スタンパ装置に実装された、微細転写パターンを有する下側スタンパの上面に位置決めして載置するステップと、(b)前記下側スタンパと前記ディスク下面側との界面に存在する前記レジストのうち、前記スタンパの微細転写パターンにかからない部分の少なくとも一部分にＵＶ光を照射するステップと、(c)前記ＵＶ光照射部分のレジストを硬化させて前記ディスクを前記下側スタンパの上面に部分的に仮固着させるステップとからなる。 （もっと読む）

【課題】 磁気記録層が所定のパターンに加工された磁気記録媒体において、良好な記録再生特性を得る。
【解決手段】 磁気記録層が、面内方向に規則的に配列された、コバルト及びプラチナを含む記録部と、記録部間に設けられ、イットリウム、ランタン、及びセリウムからなる群から選択される少なくとも一種の軽希土類金属及びホウ素を含有する非記録部とを含む。 （もっと読む）

【課題】凹凸形状が形成された基板を作製する。
【解決手段】高周波電源２１から、基板１６及び基板ホルダ１２の少なくとも一方に対して高周波電圧を印加する。供給材料膜１５から基板１６へ供給材料を供給し、基板表面の下地材料上に供給材料による凸部を形成する。供給材料膜１５は、基板１６の表面へ供給材料を直接入射させることができない位置に配置されている。基板１６の表面の下地材料の常温における表面エネルギーγ_ｓｕｂと、供給材料の融点における表面エネルギーγ_ｓｐとは、γ_ｓｕｂ−γ_ｓｐ＞０の関係にある。 （もっと読む）

【課題】超臨界状態を実現するために必要な圧力よりも低い圧力環境下で、基板Ｗに設けられたパターンを倒壊させることなく基板Ｗを乾燥できる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】乾燥処理ユニット３０は、主に、乾燥処理チャンバ３１、二酸化炭素供給機構３２、第１窒素供給機構３３、液体窒素供給機構３４、第２窒素供給機構４４、及び排出機構３５を備える。置換液であるＩＰＡ液で覆われた基板Ｗが乾燥処理チャンバ３１内に保持された状態で、液体二酸化炭素が基板Ｗの表面を覆う。乾燥処理チャンバ３１内が、液体窒素供給機構３４により冷却されることで液体二酸化炭素は固体二酸化炭素へと凝固する。そして排出機構３５により、乾燥処理チャンバ３１内を大気圧に戻すとともに、第１窒素供給機構３３が気体窒素を供給することで昇温され、基板Ｗ表面の液体は昇華する。 （もっと読む）

【課題】化学増幅レジストの性能を引き出すことにより、高い解像性能と良好なパターン品質を有するレジストパターンが得られるレジスト付き基体の製造方法、レジストパターン付き基体の製造方法、パターン付き基体の製造方法及びレジスト処理方法を提供する。
【解決手段】基体上に化学増幅レジストを塗布するレジスト塗布工程と、前記レジスト塗布工程後、レジスト塗布基体に対してベークを行うパターン露光前ベーク工程と、を有し、前記パターン露光前ベーク工程後に形成されることになるパターン未露光のレジスト層に対して現像剤による減膜処理を行うとすると前記レジスト層の残膜率が９５％以上となる時間及び温度条件にて、前記パターン露光前ベーク工程を行う。 （もっと読む）

【課題】パターンの形状ラフネスを増加させることなく、パターンを転写することを可能にする。
【解決手段】基板上にハードマスクを形成する工程と、ハードマスク上にマスク補助材を形成する工程と、マスク補助材上に海島構造を有するジブロックコポリマー層を形成する工程と、ジブロックコポリマー層に前記海島構造の島部が凸部となる凹凸状構造のパターンを形成する工程と、ジブロックコポリマー層に形成されたパターンをマスクとしてマスク補助材およびハードマスクをエッチングし、ハードマスクにパターンを転写する工程と、を備え、マスク補助材はエッチング速度が、ハードマスクのエッチング速度より大きく、ジブロックコポリマーの海島構造の海の部分のエッチング速度より小さい材料である。 （もっと読む）

【課題】自己組織化材料を用いて製造されるパターンの高精度化を図ったパターンの形成方法，およびインプリント用モールドの製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態のパターンの形成方法では，基板上に，第１の層，感光層を順に形成し，前記感光層の第１，第２の領域それぞれを第１，第２の露光量で露光し，第１の溶媒によって，第１の領域を溶解し，露出した第１の層をエッチングし，第２の溶媒によって，感光層の未露光の第３の領域を溶解し，自己組織化材料を第３の開口内に形成する。 （もっと読む）

【課題】 優れたパターンを有した磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】 磁気記録層上に凹凸パターンを有するマスクを形成し、前記マスクの凹部に対応する前記磁気記録層の領域の磁性を失活することを含むパターンド媒体の製造方法であって、前記磁気記録層の上部に設けた注入深度調節層を介したイオンビームの照射によって、前記磁気記録層の磁性を失活することを含み、磁性の失活の進行に伴って、前記注入深度調節層の膜厚が減少し、イオンビーム侵入深さが深くなるパターンド媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】充分な離型性を有し、元型モールド上のパターンへの被転写物の充填を良好に行い、精度良くパターンを転写させる。
【解決手段】インプリントにより所定の凹凸パターンを被転写物に転写するためのモールドに設けられる離型層において、前記モールドにおける前記凹凸パターンの凹部に前記離型層越しで前記被転写物を充填するため、エネルギーによる処理によって前記離型層の表面自由エネルギーを変動させることによる表面自由エネルギーの最適化がなされている。但し、前記エネルギーによる処理とは、熱エネルギー及び／又は光エネルギーによる処理のことである。 （もっと読む）

【課題】パターンマスクの除去効率を損なうことなく処理時間の短縮を図ることができる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る磁気記録媒体の製造方法は、磁性層１２を磁気分離するためのイオン注入工程に際して基板１１をレジストパターン１３の除去反応温度域にまで昇温させ、イオン注入後はその基板温度を利用してレジストパターン１３のアッシング処理を実施する。これにより、レジストパターンの除去効率を損なうことなく、レジストパターン除去のための処理時間を短縮することができる。 （もっと読む）

【課題】剥離性、耐久性に優れたスタンパーを提供する。
【解決手段】基板、触媒活性をもつ導電性下地層、及び触媒活性をもたない凸状パターンが順に形成され、かつ触媒活性を有する導電性下地層が露出した領域を有する原盤を用い、凸部パターン間及び導電性下地層が露出した領域に無電解めっきにより非晶質導電層を堆積させてスタンパー凸部を形成し、非晶質導電層及び導電性下地層を電極として凸状パターン及び非晶質導電層からなるスタンパー凸部上に電気めっきを行い、結晶性金属からなるスタンパー本体を形成し、及び原盤からスタンパー凸部及びスタンパー本体からなるスタンパーを剥離するスタンパーの形成方法。 （もっと読む）

【課題】電子線描画法を用い、頂角を有する多角形状凹部を高精細度で形成することができるレジスト原盤の製造方法の提供。
【解決手段】（１）円形基板上にフォトレジスト層を形成する工程と、（２）基板を一方向に回転させながら電子線を照射してフォトレジスト層に複数のパターンを描画する工程と、（３）描画を行ったフォトレジスト層を現像液を用いて処理して、複数のパターンを複数の多角形状凹部に変換する工程とを含み、工程（２）において描画されるパターンのそれぞれは、少なくとも１つの多角形部と、複数の点状部または線状部との組み合わせであり、工程（３）における多角形状凹部と非相似の形状を有することを特徴とするレジスト原盤の製造方法。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク記録媒体の磁気情報の記録および再生の精度が低下しないスタンパまたは磁気転写マスターの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】（ａ）表面にレジスト膜を有する円環状基板を提供する工程と、（ｂ）電子線リソグラフィー法を用いて前記レジスト膜中にダミーパターンを有する凹凸パターンを形成する工程と、（ｃ）前記レジスト膜を現像して、前記描画パターンとダミーパターンを有するレジスト原盤を形成する工程と、（ｄ）前記レジスト原盤に電鋳を行い、ダミーパターンを有する電鋳マスターを形成する工程と、（ｅ）前記電鋳マスターからダミーパターンを除去して、円環状磁気ディスク記録媒体製造用のインプリントスタンパを形成する工程を含むことを特徴とするインプリントスタンパの製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、非磁性部を構成する樹脂の選択の幅を広げることが可能であり、かつ磁気記録媒体の表面を平滑な面にすることのできる磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録再生装置を提供することを課題とする。
【解決手段】非磁性基板の表面に磁性層を形成し、次いで、磁性層のうち、非磁性部の形成領域に対応する部分をエッチングすることで、非磁性部が形成される溝と、磁性層よりなる磁気記録部とを形成し、次いで、磁気記録部の表面に、溝を埋め込むように活性エネルギー線硬化性官能基を有した樹脂を塗布し、次いで、板材の平滑な面が樹脂の表面と接触するように、板材を樹脂に押圧して、樹脂の表面を平滑な面にし、次いで、板材を樹脂から除去し、その後、平滑な表面を有した樹脂のうち、磁気記録部の表面よりも上方に位置する部分をエッチングにより除去することで、溝に非磁性部を形成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、正確なドットパターンを有したインプリントモールドの製造方法、およびそれを利用した、正確なドットパターンを有した磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に、第１の壁面および第２の壁面を有するガイドであって、少なくとも一方の前記壁面と前記基板の露出した表面とによって規定される角度が１３１°以下であるガイドを複数形成し、前記第１の壁面、前記第２の壁面および前記基板表面によって規定されるガイド溝領域に、スフェアを形成して相分離する自己組織化材料を塗布し、前記自己組織化材料を自己組織化させてドットパターンを形成し、前記ドットパターンをマスクとして、前記基板をエッチングして前記ドットパターンを転写し、前記ドットパターンが転写された前記基板を型としてインプリントモールドを形成することを特徴とするインプリントモールドの製造方法。 （もっと読む）

【課題】インプリント耐性を十分に備えながらも、精度良くパターンを転写させる。
【解決手段】インプリントにより所定のパターンを被転写物に転写するための元型モールド３０に離型層が設けられる離型層付きモールドにおいて、前記離型層に含まれる化合物の分子鎖における主鎖にはフルオロカーボンが含まれ、前記化合物の分子鎖は、元型モールドに対して吸着している吸着官能基を少なくとも２個以上有し、前記吸着官能基において、前記吸着官能基と元型モールドとの吸着の元となる結合エネルギーが、前記化合物の分子鎖における吸着官能基同士の結合エネルギーよりも大きい。 （もっと読む）

【課題】アライメントマークが形成された台座付き基板を作製するにあたって、アライメントマークと台座の相対的な位置ずれを低減し、パターン精度を向上させる。
【解決手段】本発明は、第１の主面側に凸状の台座が設けられ、かつ、台座の上面にアライメントマークが形成された基板を作製する方法であって、基板１の第１の主面上に光反射率が高いハードマスク層を形成した後、それを台座の外径とアライメントマークの形状にあわせてエッチングしハードマスク２ａを形成する工程と、ハードマスク２ａを覆うように基板１上にネガ型のレジスト層６を形成する工程と、ハードマスク２ａによる光の反射を利用してレジスト層６を露光することにより、ハードマスク２ａの直上に位置するレジスト層６を不溶化する工程と、そのレジスト層６を現像してレジストパターン６ａを形成した後、それをマスクに用いて基板１をエッチングすることで台座を形成する工程とを有する。 （もっと読む）