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Fターム[5D112AA19]の内容

磁気記録媒体の製造 (17,949) | 磁気記録媒体の構造、形状、物性 (7,034) | 積層以外の構造 (1,156) | 凸部、突起、粒子等が層を貫通している構造 (388)

Fターム[5D112AA19]に分類される特許

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【課題】鮮明な磁気記録パターンを有する磁性層の平滑化プロセスを高速で行いつつ、記録密度を大幅に増加させ、また磁気記録パターン部間領域の保磁力、残留磁化を極限まで低減できる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板1の少なくとも一方の面上に磁性層2を形成する工程と、磁性層2の上に磁気記録パターンMPに対応した形状にパターニングされたレジスト層3を形成する工程と、レジスト層3を用いて磁性層2を部分的に除去する工程と、磁性層2が除去された面上を覆う非磁性層4を形成する工程と、磁性層2が表出するまで非磁性層4に研磨加工を施す工程と、磁性層2の表面を水素プラズマに曝す工程と、磁性層2の上に保護層5を形成する工程と、保護層5の上に潤滑膜6を形成する工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】磁気記録媒体の表面に凹凸パターンを形成してパターンドメディア型磁気記録媒体を製造する際に、加工前の磁気記録媒体の初期磁気特性を低下させずに維持するパターンドメディア型磁気記録媒体の製造方法を提供すること。
【解決手段】基板10表面に、軟磁性層11と、シード層12と、中間層13と、磁性層14と、貴金属材料の第二保護層17と、ダイヤモンドライクカーボンの第一保護層15とをこの順に積層形成し、前記第一保護15層表面に所要のレジスト16パターンを形成後、該レジスト16をマスクとして前記第一保護層15を酸素系ドライエッチングで選択除去して前記第二保護膜17を露出させ、前記第二保護層17と磁性層14とを不活性ガス系ドライエッチングで選択除去した後、前記レジスト16を除去し、前記第一保護層15を酸素系のドライエッチングで剥離し、前記第二保護層17を不活性ガスを用いたドライエッチングで剥離する工程を有する。 (もっと読む)


【課題】媒体表面荒れが抑制され、良好なヘッドの浮上性を確保することができるパターンド磁気記録媒体(DTR媒体およびBPM)の製造方法を提供する。
【解決手段】 磁気記録層上に、カーボンからなる第1のハードマスク、Si、Cuなどからなる第2のハードマスクおよびレジストを形成し、レジストに対してスタンパをインプリントして凹凸パターンを転写し、パターン化されたレジストをマスクとして、第2のハードマスクをエッチングして凹凸パターンを転写し、第2のハードマスクをマスクとして、第1のハードマスクをエッチングして凹凸パターンを転写し、第1のハードマスクの凸部に残存している第2のハードマスクを除去し、酸素ガスとフッ素系ガスの混合ガスによってマスク表面の汚染層を除去し、磁気記録層をパターニングし、前記第1のハードマスクを除去することを含む磁気記録媒体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】記録密度を大幅に増加させ、また磁気記録パターン部間領域の保磁力、残留磁化を極限まで低減できる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板1の少なくとも一方の面上に磁性層2を形成する工程Aと、磁性層2の面上を覆う炭素マスク層3を形成する工程Bと、炭素マスク層3の上にレジスト層4を形成する工程Cと、スタンプ5を用いてレジスト層4を磁気記録パターンに対応した形状にパターニングする工程Dと、レジスト層4を用いて炭素マスク層3を磁気記録パターンに対応した形状にパターニングする工程Eと、磁性層2の炭素マスク層3で覆われていない箇所を部分的に除去することにより凹部7を形成する工程Fと、レジスト層4及び炭素マスク層3を除去する工程Gと、磁性層2の表面を水素プラズマに曝す工程Hと、磁性層2の上に保護層9を形成する工程Iとを含む。 (もっと読む)


【課題】鮮明な磁気記録パターンを有する磁性層の平滑化プロセスを高速で行うことを可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】研磨加工は、非磁性基板1を回転させながら、非磁性基板1の表面にダイヤモンドスラリーSを供給し、走行する研磨テープ105を非磁性基板1の表面に押し付けることにより行い、ダイヤモンドスラリーSは、単結晶のダイヤモンド粒子と研磨助剤とを含み、ダイヤモンド粒子は、その1次粒子径が1〜10nmの範囲、その2次粒子径が50〜100nmの範囲にあり、研磨助剤は、スルホン酸基又はカルボン酸基を有する有機重合物を含む。 (もっと読む)


【課題】鮮明な磁気記録パターンを有する磁気記録媒体を簡便なプロセスで製造することを可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板1の上に磁性層2を形成する工程と、磁性層2の面上を覆うマスク層3を形成する工程と、マスク層3の上にレジスト層を形成する工程と、スタンプ5を用いてレジスト層をパターニングする工程と、レジスト層を用いてマスク層3をパターニングする工程と、磁性層2のマスク層3で覆われていない箇所を部分的に除去することにより凹部6を形成する工程と、凹部6が形成された面上を覆う非磁性層7を形成する工程Gと、マスク層3が表出するまで非磁性層7の表面を平坦化する工程Hと、表出されたマスク層3を除去する工程Iと、非磁性層7の突起部分7aを除去する工程Jと、突起部分7aが除去された面上を覆う保護層8を形成する工程Kとを含む。 (もっと読む)


【課題】薄膜化してもコロージョン耐性、機械的耐久性、潤滑層との密着性、ヘッドの浮上安定性に優れた保護層を備えた磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に少なくとも磁性層と炭素系保護層と潤滑層が順次設けられた磁気記録媒体の製造方法であって、前記炭素系保護層は、前記磁性層側に形成される下層と、前記潤滑層側に形成される上層とを備え、炭化水素系ガスを用いて化学気相成長(CVD)法で前記下層を形成し、次いで、炭化水素系ガスと窒素ガスの混合ガスを用いて前記上層を形成した後、該上層の表面を窒素化する処理を施す。 (もっと読む)


【課題】スタンパの凹凸パターンを被成形材に転写するためのインプリント装置において、スタンパに無視できない程度の反りが生じた場合であっても、そのスタンパの凹凸パターンを、被成形材に適切に転写する。
【解決手段】本発明は、スタンパ14、16を吸着して保持する吸着保持手段と、被成形材12にスタンパ14、16を押し付けるように圧力を加える加圧手段と、吸着保持手段によるスタンパ14、16の保持を、スタンパ14、16と被成形材12との間に加圧手段によって所定圧を越える圧力が加えられる前に解除する解除手段とを備える。 (もっと読む)


【課題】中心に内孔を有する円盤状の磁気記録媒体基板の両面に均一な欠陥のないレジスト層を効率的に形成できる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】中心に内孔を有する円盤状の磁気記録媒体基板の表面にスピンコーティング法によりレジストを塗布する塗布工程を含む磁気記録媒体の製造方法において、前記塗布工程が、前記磁気記録媒体基板の内孔部を、前記基板の中心軸とする2つの円盤状の保持具で両面から挟み込み保持しつつレジストを塗布することで、前記基板の内孔部周辺に未塗布部を形成しつつ、前記基板の両主面に同時にレジスト層を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】インプリント時のスタンパの均一な撓みとその復元力を利用してインプリント後にスタンパから基板を速やかに分離できると同時に、基板およびスタンパのパターン面に欠陥が入りにくくすることで、量産化に対応できるインプリント用スタンパおよびインプリント装置を提供する。
【解決手段】ヤング率が50GPa以上500Gpa以下、厚さが200μm以上1000μm以下であって、曲率が2×10-5以上2×10-3以下である反りを有する板状体からなり、その一面に転写すべき微細構造パターンが設けられているスタンパ。 (もっと読む)


【課題】凹凸パターンの形成面に汚れや傷付きが生じる事態を回避する。
【解決手段】エネルギー線硬化型の樹脂材料17を塗布すると共にA1凹凸パターン40aが形成されたAスタンパー30AをA面10aに貼り付け、B1凹凸パターン40bが形成されたBスタンパー30BをB面10bに貼り付けるスタンパー貼付け処理と、エネルギー線を照射して材料17を硬化させる樹脂材料硬化処理と、材料17からスタンパー30A,30Bを剥離するスタンパー剥離処理とを実行して、凹凸パターン40a,40bと凹凸位置関係が反転するA2凹凸パターン50aおよびB2凹凸パターン50bを両材料17に形成する際に、材料17の硬化率がA面10aおよびB面10bにおいて相違するように、エネルギー線の照射量、照射するエネルギー線の種類、および塗布する材料17の種類のうちの少なくとも1つをA面10aおよびB面10bにおいて相違させる。 (もっと読む)


【課題】凹凸パターンの転写された基板からモールドを剥離することによって基板の表面に模様が形成されてしまうことを防止できる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】モールド250として基板210よりも外形が大きいものを用い、平面視で基板をモールドの内側に配置して、モールドをレジスト膜に押圧する押圧工程と、モールド250を、モールドの外形よりも小さく基板よりも大きい平面視円形状の開口部251cを有する載置枠251上に、基板を載置枠側に向けて配置し、開口部251cの中心Aと基板の中心とを平面視で一致させ、モールドの基板と反対側にモールドの中心部を押圧する押圧部材52dを配置する設置工程と、押圧部材52dと載置枠251とを相対移動させることによって、モールドの中心部を開口部内に押し込ませてモールド250を反らせ、モールド250を基板210から剥離させる剥離工程とを含む製造方法とする。 (もっと読む)


【課題】
検査時間を増大させることなく、微細凹凸パターンが形成された、ハードディスク用のパターンドメディアなどの試料よりの欠陥種類の特定を容易に行うようにする。
【解決手段】
微細凹凸パターンの欠陥検査において、スキャッタロメトリー法にて検査対象物の特徴を検出する際に、検査対象物の検出対象領域の分光波形を検出し、検出対象領域が検査対象物のパターン種類によって決まるどの領域区分に属するかの領域判定を行い、領域判定の結果により、判定された領域区分に対応する、欠陥種類毎に異なる特徴量の演算式と判定指標値を選択し、選択した特徴量の演算式にしたがって、前記分光波形データに対し、特徴量演算を行い、算出した特徴量の値と、前記選択した判定指標値とを比較して欠陥種類毎の判定処理を行う。 (もっと読む)


【課題】タクトタイムの短縮とともに、非磁性材の使用量(充填量)を低減でき、製造コストの抑制および低価格な磁気記録媒体を実現することができる磁気記録媒体の製造方法、磁気記録媒体および情報記憶装置を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体2は、基板20上に成膜された多層膜層30と、多層膜層30に積層された磁性記録層40と、エッチングにより除去されるとともに、磁性記録層40の一部として残存された磁性層の凹部41に充填される非磁性材42と、磁性記録層40の一部として残存されている磁性層の底部44を酸化により変質させることで形成される非磁性層45とから形成する。 (もっと読む)


【課題】適量の液体材料を用いて、平坦で略均一の膜厚を有する塗膜を基板上に形成できる、塗布用嵌合部材を提供する。
【解決手段】基板4の上面に液体材料5をスピンコート法によって塗布する際に使用される塗布用嵌合部材2であって、基板4の中心孔4aと同一の径を有し、中心孔4aに嵌め込まれて使用され、窪み部2aを備え、窪み部2aは、中心孔4aに嵌め込まれた際に基板4の上面に対して垂直であって平面視において窪み部2aの中心を通る軸2dに対して対称である形状を有する。 (もっと読む)


【課題】ディスクリートトラックメディア等の加工プロセスマージン及びプロセススループットの向上を可能とする垂直磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】ディスクリートトラックメディア等に用いる垂直磁気記録媒体であって、基板上に、少なくとも軟磁性層と下地層と磁気記録層と保護層を備える垂直磁気記録媒体において、前記磁気記録層は、垂直磁気異方性エネルギー(Ku)が5.0×10erg/cc以上の高磁気異方性材料を含有する。そして、この高磁気異方性材料は、好適にはたとえばCoPt又はFePtを主成分とする材料である。 (もっと読む)


【課題】スタンパの凹凸パターンを欠損なく転写し得、かつ耐久性の良いスタンパの製造方法を提供する。
【解決手段】原盤の凹凸パターンの表面に導電層19を形成し、その上に、電鋳層22を形成してから導電層を剥離して原盤の凹凸を転写して、第1のスタンパを形成する。これを繰り返して、第2のスタンパ、及び第3のスタンパを形成する際、第2のスタンパと第2の離型層との間に、凹部底面に比べて凸部上面の方が厚い膜厚を有する高さ調整層を形成する。 (もっと読む)


【課題】サーボ領域部を形成するサーボパターンによる磁化の安定とともに磁気記録媒体による高記録密度化を図ることができる磁気記録媒体、情報記憶装置および磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】サーボ領域21は、パターン部22である第一磁性層23と、この第一磁性層23の磁化方向と反平行に磁化され、第一磁性層23より保磁力が低い非パターン部24として形成された第二磁性層25と、第一磁性層23と第二磁性層25との間に設けられた非磁性層26とから形成される。 (もっと読む)


【課題】凹凸パターンで形成された記録層を有し、表面が充分に平坦で記録再生精度が良好な磁気記録媒体を効率的に製造する。
【解決手段】開示の磁気記録媒体の製造方法は、基材の上に磁性層を形成する工程と、前記磁性層に凹部を形成して、凹凸パターンを有する記録層を形成する工程と、前記凹部に空間を残し、前記凹部の内面上に酸化性材料又は窒化性材料を成膜する工程と、成膜された前記材料を酸化又は窒化して、酸化材料又は窒化材料で前記空間を充填する工程と、前記記録層上の余剰の前記酸化材料又は前記窒化材料を除去して平坦化する工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】表面が平滑なビットパターン媒体を、記録要素を劣化させることなく低コストで形成すること。
【解決手段】下部マスク層、主マスク層、副マスク層の三層をハードマスクとして記録層上に順次成膜し、ハードマスク上にレジストを形成してエッチングなどを用いてハードマスクを加工する。加工されたハードマスクを用いて記録層を加工し、その後、ハードマスクの除去を行なうことなく、形成された記録層の凹部に対して主マスク層と同一材料を充填する。充填後、記録媒体の表面を平坦化することで、余剰の充填剤と残存した主マスク層とを除去して表面を平滑にする。 (もっと読む)


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