【課題】 本発明により室温でのＢｓに対する高温でのＢｓの低下幅が小さい垂直磁気記録媒体用軟磁性合金、およびこの合金の薄膜を作製するためのスパッタリングターゲット材を提供する。
【解決手段】 ａｔ％で、原子番号が５７〜７１のランタノイドに属する元素を１種以上と、Ｙ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｂの１種もしくは２種以上または／およびＣ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｐ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｇａ，Ｇｅ，Ｍｏ，Ｓｎ，Ｗの１種もしくは２種以上を含み、残部Ｃｏ，Ｆｅおよび不可避的不純物からなり、下記の式（１）〜（３）を全て満たすことを特徴とした垂直磁気記録媒体における軟磁性薄膜層に用いる合金。（１）０．５≦ＴＬＡ≦１５、（２）５≦ＴＬＡ＋ＴＡＭ、（３）ＴＬＡ＋ＴＡＭ＋ＴＮＭ≦３０ （もっと読む）

【課題】 飽和磁束密度、非晶質性および耐候性に優れた垂直磁気記録媒体用軟磁性合金において、マグネトロンスパッタ時に効率良く使用できるターゲット材を提供する。
【解決手段】 Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、ＴａおよびＢの２種以上を含有し、残部ＣｏおよびＦｅ、ならびに不可避的不純物よりなり、下記式１および式２を満足し、相対密度９９％以上であることを特徴とする垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金ターゲット材。
０．６０≦Ｆｅ／（Ｆｅ＋Ｃｏ）≦０．６５（ａｔ．％比） … （１）
５ａｔ％≦（Ｚｒ＋Ｈｆ＋Ｎｂ＋Ｔａ）＋Ｂ／２≦１０ａｔ％ … （２）
ただし、Ｂ：７％以下とする。 （もっと読む）

【課題】 高い温度域でも結晶膜化を抑制可能な垂直磁気記録媒体等に用いられるＦｅ−Ｃｏ系合金軟磁性膜およびそのＦｅ−Ｃｏ系合金軟磁性膜形成用粉末焼結スパッタリングターゲット材を提供する。
【解決手段】 原子比における組成式が（（Ｆｅ_Ｘ−Ｃｏ_{１００−Ｘ}）_{１００−Ｙ}−Ｎｉ_Ｙ）_{１００−ａ−ｂ}−Ｍ_ａ−Ｂ_ｂ、１０≦Ｘ≦７０、０≦Ｙ≦２５、７≦ａ、１≦ｂ≦５、１３≦ａ＋ｂ≦２５で表され、前記組成式のＭ元素がＮｂおよび／またはＴａからなる粉末焼結ターゲット材をスパッタリングして、膜厚２０〜３００ｎｍに成膜されてなる垂直磁気記録媒体用Ｆｅ−Ｃｏ系合金軟磁性膜である。 （もっと読む）

【課題】酸素等の不純物の量の少ないＰｄ合金系スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。
【解決手段】Ｐｄを主要成分として含有するＰｄ合金系スパッタリングターゲットであって、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａのうちの少なくとも１種以上を合計で１〜６０ａｔ％含有し、残部がＰｄおよび不可避的不純物からなり、ターゲット全体に対する酸素含有量を２０００質量ｐｐｍ以下にする。
また、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａのうちの少なくとも１種以上を合計で１〜６０ａｔ％含有し、残部がＰｄおよび不可避的不純物からなるＰｄ合金粉末をアトマイズ法で作製し、作製した該Ｐｄ合金粉末を加圧下で加熱して成形してＰｄ合金系スパッタリングターゲットを製造する。 （もっと読む）

【課題】 Ｎｉ系合金とその上層のＲｕ層との格子整合を向上させた磁気記録媒体のシード層用合金およびそれを使用したスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 Ｎｉ系合金であって、Ｓｎ，Ｉｎ，Ｇａ，Ｇｅ，Ｓｉの１種又は２種以上をａｔ．％で０．５〜２０％含有し、残部がＮｉからなる垂直磁気記録媒体におけることを特徴とする磁気記録媒体のシード層用合金。上記のＮｉ系合金にＷ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｃｒ，Ｎｂ，Ｖの１種又は２種以上を０．５〜２０％含有させたことを特徴とする磁気記録媒体のシード層用合金。 （もっと読む）

【課題】凹凸形状が形成された基板を作製する。
【解決手段】高周波電源２１から、基板１６及び基板ホルダ１２の少なくとも一方に対して高周波電圧を印加する。供給材料膜１５から基板１６へ供給材料を供給し、基板表面の下地材料上に供給材料による凸部を形成する。供給材料膜１５は、基板１６の表面へ供給材料を直接入射させることができない位置に配置されている。基板１６の表面の下地材料の常温における表面エネルギーγ_ｓｕｂと、供給材料の融点における表面エネルギーγ_ｓｐとは、γ_ｓｕｂ−γ_ｓｐ＞０の関係にある。 （もっと読む）

【課題】 低い保磁力を有する垂直磁気記録媒体用軟磁性合金およびこの合金の薄膜を作製するためのスパッタリングターゲット並びに磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 ａｔ．％で、Ｚｒ，Ｈｆの１種または２種を合計で６〜２０％、Ｂを１〜２０％含み、残部Ｃｏおよび不可避的不純物よりなり、かつ式（１）を満たすことを特徴とする磁気記録媒体用軟磁性合金。また、上記の磁気記録媒体用軟磁性合金を用いたスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体。
６≦２×（Ｚｒ％＋Ｈｆ％）−Ｂ％≦１６ … （１） （もっと読む）

【課題】高いＳＮＲを確保しつつ信頼性を向上することが可能な垂直磁気ディスクの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる垂直磁気ディスクの製造方法の構成は、基板上に、第１の圧力の雰囲気ガス下でＲｕまたはＲｕ合金からなる第１下地層を成膜する第１下地層成膜工程と、第１の圧力より高い第２の圧力の雰囲気ガス下でＲｕまたはＲｕ合金からなる第２下地層を成膜する第２下地層成膜工程と、第１の圧力より高く且つ第２の圧力よりも低い第３の圧力の雰囲気ガス下で、ＲｕまたはＲｕ合金を主成分とし酸化物を副成分とする第３下地層を成膜する第３下地層成膜工程と、第３下地層より上層に、柱状に成長したＣｏＣｒＰｔ合金を主成分とする磁性粒子の周囲に酸化物を主成分とする非磁性物質が偏析して粒界部が形成されたグラニュラ磁性層を成膜するグラニュラ磁性層成膜工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】縦じわ状の発生および磁性層の凹みの発生を抑制して原反の品質の安定化を実現すると共に原反の長尺巻取りによる生産効率の向上を実現する。
【解決手段】下層非磁性層形成工程と、上層磁性層形成工程と、バックコート層形成工程と、各層が形成された原反を巻き取る第１巻き取り工程と、原反に熱硬化処理を行う熱硬化工程と、原反に対してカレンダー加工を行うカレンダー工程と、カレンダー加工後の原反を巻き取る第２巻き取り工程とを含み、第１巻き取り工程において巻き取った原反の中央部の厚みが端部の厚みよりも１００００ターン当たり０．２５ｍｍ以上０．３５ｍｍ以下の範囲内で厚くなるように（原反累積形状値がこの範囲内となるように）各層を形成し、第２巻き取り工程において巻き取った原反の中央部の厚みが端部の厚みよりも１００００ターン当たり０．２ｍｍ以上０．３ｍｍ以下の範囲内で厚くなるようにカレンダー処理を実行する。 （もっと読む）

【課題】良好な記録再生特性を有し、高密度の情報の記録再生が可能な磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】垂直磁気記録層がグラニュラ膜型記録層と連続膜型記録層とを含み、グラニュラ膜型記録層は膜面内の磁気結晶粒子が３ｎｍから７ｎｍの平均結晶粒径を有する第１のグラニュラ膜型記録層と、第１のグラニュラ膜型記録層の平均結晶粒径よりも大きい膜面内の平均結晶粒子をもつ磁気結晶粒子を有する第２のグラニュラ膜型記録層を含む。 （もっと読む）

【課題】薄層の非磁性層を有する磁気テープにおいて優れた電磁変換特性を得るための手段の提供。
【解決手段】非磁性支持体上に非磁性層と磁性層とをこの順に有する磁気テープ。非磁性層は、非磁性粉末および結合剤成分を含む放射線硬化性組成物を放射線硬化することによって得られた放射線硬化層である。結合剤成分は、一般式（２）で表されるスルホン酸塩（基）含有ポリオール化合物を原料として得られた放射線硬化性ポリウレタン樹脂を含む。非磁性層の厚さは０．５〜１．３μｍである。放射線硬化性組成物に含有される非磁性粉末および結合剤成分は４８０≦（非磁性粉末のＢＥＴ比表面積（ｍ²／ｇ）×非磁性粉末の質量（ｇ））／結合剤成分の質量（ｇ）≦６５０を満たす。


Ｘは二価の連結基を表し、Ｒ¹⁰¹およびＲ¹⁰²はそれぞれ独立に少なくとも１つの水酸基を有する炭素数２以上のアルキル基または少なくとも１つの水酸基を有する炭素数８以上のアラルキル基を表し、Ｍ¹は水素原子または陽イオンを表す。 （もっと読む）

【課題】熱アシスト記録用磁気媒体に用いられる熱拡散制御膜であって、高い熱伝導率を維持すると共に、高い熱拡散率、平滑な表面粗さ、および高い耐熱性の全てを兼ね備えたＡｇ合金熱拡散制御膜を提供する。
【解決手段】本発明の熱アシスト記録用磁気記録媒体に用いられる熱拡散制御膜は、Ａｇを主成分とするＡｇ合金から構成されており、表面粗さＲａ１．０ｎｍ以下、熱伝導率１００Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上、熱拡散率４．０×１０^-5ｍ²／ｓｅｃ以上を満足する。 （もっと読む）

【課題】 秩序立った核形成層を有する垂直型磁気記録ディスクおよび垂直型磁気記録ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】 基板と、基板上の下層と、下層の上に設けられ、粒状強磁性Ｃｏ合金とＳｉ、Ｔａ、Ｔｉ、およびＮｂの１つ以上の１つ以上の酸化物との連続層を備える垂直型磁気記録層と、下層と記録層との間に設けられ、記録層のＣｏ合金からなるアレイを備えた核形成層とを備える。 （もっと読む）

【課題】軟磁気特性を高く維持した上で、耐候性に優れた垂直磁気記録媒体等に用いられる軟磁性膜用Ｃｏ−Ｆｅ系合金の提供。
【解決手段】原子比における組成式が（（Ｃｏ_{１００−ｘ}−Ｆｅ_ｘ）_{１００−Ｙ}−Ｎｉ_Ｙ）_{１００−（ａ＋ｂ＋ｃ）}−Ｍ１_ａ−Ｍ２_ｂ−Ｔｉ_ｃ、５≦Ｘ≦８０、０≦Ｙ≦２５、２≦ａ≦６、２≦ｂ≦１０、０．５≦ｃ≦１０で表され、残部不可避的不純物からなるＣｏ−Ｆｅ系合金。この軟磁性膜用Ｃｏ−Ｆｅ系合金は、組成式のＭ１元素が（Ｚｒ、Ｈｆ、Ｙ）から選ばれる１種もしくは２種以上の元素、組成式のＭ２元素が（Ｔａ、Ｎｂ）から選ばれる１種もしくは２種の元素であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高密度記録領域における電磁変換特性が良好で、且つ生産性の高い磁気記録媒体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、支持体２の上に着色材料と放射線硬化性樹脂とを含む平滑化層２０を形成する工程と、平滑化層２０の上に磁性層を形成する工程とを含み、平滑化層２０を形成する工程において、支持体２と平滑化層２０とからなる磁気記録媒体前駆体５ｂの光透過率を測定することにより、平滑化層２０の厚さを制御することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 強磁性層における磁性結晶粒子を適切に微細化する。
【解決手段】 垂直磁気記録に用いる磁気ディスク１０であって、基体１２と、下地層１８と、グラニュラー構造の微細化促進層２０（非磁性グラニュラー層）と、グラニュラー構造の強磁性層３２を有する磁気記録層２２とを備え、微細化促進層２０は、無機酸化物のマトリックスと、非磁性の金属結晶粒子とを有し、強磁性層３２は、無機酸化物のマトリックスと、金属結晶粒子の結晶方位に応じた所定の方位に磁化容易軸が向く磁性結晶粒子とを有する。 （もっと読む）

【課題】本発明の主要な目的は、簡易な溶解鋳造法により製造する漏洩磁束の高いコバルト鉄合金スパッタリングターゲット材を提供することである。
【解決手段】本発明のコバルト鉄合金スパッタリングターゲット材は溶解鋳造法によって製造され、コバルト、鉄、及び添加金属からなるものにおいて、このコバルト鉄合金スパッタリングターゲット材においてコバルトは増加された漏洩磁束（ＰＴＦ）の含有量があり、添加金属は８〜２０ａｔ％であり、この添加金属はタンタラム、ジルコニウム、ニオビウム、ハフニウム、アルミニウム、及びクロミウムの金属の少なくとも１つを含む。 （もっと読む）

【課題】磁気抵抗効果型磁気ヘッドの静電破壊を抑止することができる、磁気記録媒体、磁気記録媒体の製造方法、テープカートリッジ及びテープドライブシステムを提供する。
【解決手段】本発明に係る磁気記録媒体は、磁性層１３及び非磁性層１２に導電性を有するカーボンブラック１７及び１５がそれぞれ含有される。磁気記録媒体１０の磁性層１３側の表面に帯電した電荷は、磁性層１３及び非磁性層１２の中を移動する。これにより、磁気記録媒体１０の磁性層１３側の表面の帯電が抑制され、ＭＲヘッドの静電破壊が抑止される。カーボンブラック１７の比表面積は、３０ｍ²／ｇ以上１３０ｍ²／ｇ以下であり、含有量は、磁性層１３の強磁性粉末１８を１００重量部として５重量部以上１０重量部以下である。 （もっと読む）

【課題】２５０Ｇビット／平方インチ以上の記憶容量であってもノイズの少ない、グラニュラ磁気記録層を含む磁気ディスク及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の磁気ディスクは、ディスク基体１０上に直接又は中間層を介して形成され、グラニュラ柱状粒子間に非磁性領域を有してなるグラニュラ磁気記録層２０と、前記グラニュラ磁気記録層２０上に形成され、前記グラニュラ柱状粒子間で交換相互作用させる補助記録層２２と、を具備し、前記補助記録層２２は、０．１モル〜３モルの酸素を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体及びその製造方法並びに記憶装置において、磁気記録層の磁性粒子の微細化と保磁力の向上を両立させることを目的とする。
【解決手段】基板の上方に軟磁性層、非磁性シード層、中間層及び磁気記録層が積層された磁気記録媒体において、非磁性シード層は、少なくともＷ又はＣｒの一方を含むＮｉ合金で形成されており、非磁性シード層の成膜時に使用し、且つ、非磁性シード層内に残留する反応ガスのイオンカウントは、成膜時に基板バイアス電圧を印加しないで形成された基準非磁性シード層のイオンカウントの１０倍以上であるように構成する。 （もっと読む）