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Fターム[5E049BA01]の内容

磁性薄膜 (4,742) | 磁気特性、用途 (1,087) | 硬質(磁石用) (33)

Fターム[5E049BA01]に分類される特許

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【課題】室温付近で電圧によりキュリー温度を変化させることができ、かつ大きな磁化、即ち大きな磁界を発生させることが可能な電圧駆動型電磁石を提供する。
【解決手段】鉄、コバルト、ニッケルのうちのいずれか、もしくはこれらのうち少なくとも一つを含む合金からなる強磁性金属薄膜層12と、前記強磁性金属薄膜層12の片側に積層された絶縁層20と、前記絶縁層20の、前記強磁性金属薄膜層12とは反対側に設けられたゲート電極30と、前記強磁性金属薄膜層12と前記ゲート電極30の間に電圧を印加する電圧印加部40とを備える電圧駆動型電磁石を提供する。また、強磁性金属薄膜層12内の磁化を特定の方向に配向させる下地層13と、配向させた強磁性金属薄膜層12内の磁化の方向を維持させるキャップ層11を備える。 (もっと読む)


【課題】 高機能な永久磁石材料の製造方法であって、鉄-白金系合金の保磁力を増大させることができ、しかも、増大させる保磁力の大きさや増大させる部位についても容易に制御できる保磁力に優れた鉄-白金系磁性合金の製造方法を提供すること。
【解決手段】 本発明では、鉄-白金系磁性合金の製造する際、熱処理を行う前に、鉄-白金系合金にNイオンビームを照射して窒素原子を直接注入する工程を採用したことにより、従来の反応性スパッタ法よりも窒素元素の添加量を大幅に増やすことが可能となる。 (もっと読む)


【課題】α"Fe16N2などの窒化物膜を生産性よく製造可能な窒化物膜の製造方法及び窒化物膜の製造装置、並びに窒化物膜を提供する。
【解決手段】窒化物膜の製造装置1は、エアロゾル生成部10により原料粉末をエアロゾル化し、エアロゾルをチャンバ100内に高速で射出して基板Bに衝突させ、原料を破砕し、破砕片を基板Bに堆積させて成膜する。製造装置1は、窒素プラズマをエアロゾルに照射するプラズマ生成部20と、生成された窒化物などに磁場を印加する超電導磁石30とを更に具える。窒素プラズマにより、常温でα"Fe16N2などの窒化物を生成可能であり、磁場の印加により、N原子の進入方向を規制してα"Fe16N2などを効率よく生成可能であると共に、破砕片を構成する窒化物を配向させられ、配向性が高い窒化物膜を成膜できる。従って、製造装置1は、α"Fe16N2などの窒化物膜を生産性よく製造できる。 (もっと読む)


【課題】高い磁石性能、すなわち高い最大エネルギー積を実現できる薄膜磁石を提案する。
【解決手段】高い最大エネルギー積の薄膜磁石を実現するため、高い磁気異方性エネルギーと高い飽和磁化を実現できる薄膜磁石の構成を提供する。このため、Fe又はFeCo膜の一方の面に、Ta、Nb、V、Cr、Ru、Cu、Agの群から選ばれた一つ以上の金属を直に形成する。また、Fe又はFeCo膜の他方の面には、希土類元素を含む強磁性体を直に形成する。 (もっと読む)


【課題】Nd−Fe−B系永久磁石薄膜などの永久磁石薄膜の磁気特性を向上させることができる、永久磁石薄膜用スパッタリングターゲット及びその製造方法の提供。
【解決手段】原子比率による組成式が、R100−x−y(Rは希土類元素のうち少なくとも一種であってNd及び/又はPrを必ず含み、Tは遷移元素のうち少なくとも一種であってFeを必ず含み、MはB又はBとCであって50原子%≦B/Mを満足する)で表され、x、yが、17≦x≦20、7≦y≦10を満足する組成からなり、酸素含有量が1500ppm以下の焼結体である。 (もっと読む)


【課題】成膜材料であるDy、Tbを有効に利用しつつ、所定形状鉄−ホウ素−希土類系の磁石の表面に高速で成膜させて生産性が向上し、低コストで永久磁石を製造できるようにする。
【解決手段】真空排気が可能な処理室と、前記処理室内を加熱する加熱手段と、前記処理室内でバルク体たる蒸発材料と被処理物とを離隔して保持する保持手段とを備え、前記被処理物を保持する保持手段が、前記処理室内の加熱により蒸発材料から蒸発した材料の通過を許容し、前記被処理物の複数個が並置できる部材から構成される。 (もっと読む)


【課題】Dy等を用いるまでもなく、高保磁力を発現する磁性体を提供する。
【解決手段】本発明の磁性体は、RFe14B結晶粒(R:希土類元素)からなる主相と該結晶粒間に形成された粒界相とからなり、結晶粒は最長幅が500nm以下の角丸形状をしており、粒界相は最小幅が1nm以上であるナノサイズの結晶集合体からなることを特徴とする。この磁性体は、例えば、R−Fe−B非晶質体に拡散材(例えば、R−Cu)を付着させた付着非晶質体を加熱して、RFe14B結晶粒からなる主相とこの結晶粒間に形成される粒界相を並行して形成することにより得られる。本発明によれば、稀少元素であるDy等を粒界に拡散させるまでもなく、非常に高い保磁力の磁性体が得られる。 (もっと読む)


【課題】 Taなどの高融点金属層とR−T−B系永久磁石が積層された高性能永久磁石薄膜を用いた、高加工精度の小型・高性能なマイクロデバイスを、低コストで大量に生産することができる、希土類永久磁石薄膜の製造方法の提供。
【解決手段】基板上に、厚さ500nm以下の希土類合金磁性層と、厚さ50nm以下の高融点金属層を含む多層構造を有する希土類永久磁石薄膜を形成し、前記希土類永久磁石薄膜上にフォトレジスト層を形成し、前記フォトレジスト層を露光、現像することによりパターニングし、前記パターニングされた前記フォトレジスト層をマスクとして、露出した前記希土類永久磁石薄膜をイオンミリングにより除去し、残存する前記希土類永久磁石薄膜上の前記フォトレジスト層を酸素プラズマアッシングにより除去する。 (もっと読む)


【課題】NdFeBを迅速且つ容易に所望する形状を形成することが可能なNdFeBのエッチング方法を得る。
【解決手段】基板2上のNdFeB層1上にフォトレジスト3a、3b、3c、3d、3eを形成し、物理エッチング用のガスとハロゲンガスとの混合ガスを用いてプラズマエッチングを行って、露呈しているNdFeB層1をパターニングし、パターン1a、1b、1c、1d、1eを形成する。なお、上記混合ガスにおけるハロゲンガス含有率は4%〜10%のいずれかの値とするとよい。また、物理エッチング用のガスには、Arガス、Nガス、及びCOガスからなる群の中から選択されるいずれか1つのガス又は2以上のガスを含む混合ガスなどを用いることができる。また、プラズマエッチングを行う場合のRFバイアス値は、1.2W/cm以上とするとよい。 (もっと読む)


【課題】電気電子機器やロボットなどの駆動源として利用される微小な回転電気機械のトルクを向上する。
【解決手段】厚さが40μm〜300μmであり、かつ、磁気的に等方性のナノスケール結晶組織を有する磁石膜を作製し、磁石膜に被膜形成能を有する樹脂組成物を付与して樹脂複合磁石膜を作製し、樹脂複合磁石膜を機械的に加工して中実または中空状とした後、前記樹脂膜を溶融し架橋により一体的に剛体化したものを磁化して、回転電気機械の可動子構成要素である積層型樹脂複合磁石膜を製造する。 (もっと読む)


【課題】電気電子機器やロボットなどの駆動源として利用される微小な回転電気機械のトルクを向上させる。
【解決手段】外部磁界Hexに対するトルク勾配dT/dHexは、試料を膜またはフレーク状粉末としたとき、それらの寸法比L/Dの原点をゼロとした一次関数となる。面内方向磁化の場合、フレーク状粉末よりも膜のトルク勾配dT/dHexの方が、寸法比L/Dの依存性が強い。これは、フレーク状粉末よりも膜のパーミアンスが高く、結果として反磁界が小さくなるために試料の寸法比L/Dの影響を受けにくい。両者のトルク勾配dT/dHexの比から本発明の積層磁石膜可動子を用いた回転電気機械のトルク定数は、355μm以下、厚さ45μmのフレーク状粉末の場合に比べて1.13倍となる。 (もっと読む)


【課題】
高性能小型電気電子機器やロボットなどの駆動源として高トルク微小回転電機が求められている。
【解決手段】
TM14B系合金(Rは希土類元素Nd、Pr、TMは遷移金属元素Fe、Co)のxを2未満とした所定寸法の中空円板状アモルファス膜を6 sec以内の高速真空熱処理で磁気的に等方性の多結晶集合組織とし、しかるのち、面内方向に極対数2以上に多極磁化した外径2 mm以下の膜磁石を所定数積層した回転子磁石、並びに励磁巻線を備えた固定子鉄心と組合せた等方性膜磁石積層型微小回転電機とする。 (もっと読む)


【課題】高い保持力および比較的小さな磁性粒度をともなう磁性材料を提供する。
【解決手段】硬質磁石1600は、Pt族金属、Fe、Mn、Ir、およびCoの少なくとも1つを含む第1の成分を含むシード層1602、第1の成分を含むキャップ層1612、ならびにシード層1602とキャップ層1612との間の多層積層体1604を含む。多層積層体1604は、第1の成分と、Pt族金属、Fe、Mn、Ir、およびCoの少なくとも1つを含む第2の成分とを含む第1の層1606を含む。第2の成分は第1の成分と異なる。多層積層体1604はさらに、第1の層1606上に形成され第2の成分を含む第2の層1608と、第2の層1608上に形成され第1の成分および第2の成分を含む第3の層1610とを含む。 (もっと読む)


【課題】高保磁力の希土類磁石の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の希土類磁石の製造方法は、希土類元素(R1)を含む磁性合金の表面にその共晶点よりも低温で液相を生じ得る浸透材(Nd−Cu合金)を付着させる付着工程と、この付着工程後に加熱して磁性合金の結晶粒の粒界へ浸透材を浸透拡散させる浸透工程とを備えてなる。これにより、結晶粒が少なくとも浸透材の構成元素で被包された希土類磁石が得られ、希土類磁石の保磁力を高めることができる。 (もっと読む)


【課題】配向度の高い希土類磁性薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の希土類高配向磁性薄膜の製造方法は、基材の被覆面上に第1組成の第1被覆層を形成する第1被覆工程と、その第1被覆層上に第1組成とは異なる第2組成の第2被覆層を形成する第2被覆工程とを少なくとも備えてなり、希土類磁性薄膜全体としての合金組成が所望する希土類磁石合金の組成に調整される。これにより、磁化容易軸方向に結晶配向した高配向の希土類磁性薄膜が得られる。 (もっと読む)


【課題】絶縁性を有すると共に、永久磁石として機能し、かつ従来よりも残留磁化を向上させ得る磁性薄膜の製造方法、磁性薄膜及び磁性体を提供する。
【解決手段】磁性薄膜3を形成する際に、絶縁性を有すると共に、永久磁石として機能するイプシロン型酸化鉄系化合物を含む磁性粒子を含有した塗工液に対して所定の強さの外部磁場を印加し、当該塗工液を固化して磁性薄膜3を形成するようにしたことにより、当該イプシロン型酸化鉄系化合物を含む磁性粒子を磁化方向へ規則的に配向させた状態で固化させることができ、かくして、絶縁性を有すると共に、永久磁石として機能し、かつ従来よりも残留磁化を向上させ得る磁性薄膜3の製造方法、磁性薄膜3及び磁性体1を提供できる。 (もっと読む)


【課題】 スパッタ法やレーザアブレーション法では基板の加熱処理なしでは得られない固有保磁力の高い膜磁石を、基板を加熱処理することなく得られる製造方法を提供するものである。
【解決手段】 磁石材料を含む電極と導電性の基板との間に所定の間隔を設け、電極と基板との間に電圧を印加してアーク放電を発生させることにより磁石材料を基板の表面に付着させて、内部に平均粒径が20nm以上で500nm以下の強磁性結晶相が分散した膜磁石を製造する製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】一つの試料を作製するだけで、フェライトの組成変化に伴う磁気特性の変化を連続して測定することができるフェライトの特性評価方法を提供する。
【解決手段】透光性を有する単結晶基板上に、薄膜形成法を用いて、成分組成を水平方向に傾斜させて製膜した複数層の組成傾斜フェライト層からなる組成傾斜フェライト薄膜を形成し、該フェライト薄膜の組成傾斜方向に沿い連続して磁気光学効果を測定することにより、該フェライトの組成変化に伴う磁気特性の変化を連続して測定する。 (もっと読む)


【課題】 300℃以下の温度において、L10構造FePt規則合金が得られるFePt系磁性層を備える積層体構造物を提案する。
【解決手段】 積層体構造物は、アモルファス状態のTa層と、このTa層の上に形成された酸化亜鉛(ZnO)または酸化マグネシウム(MgO)からなる金属酸化物層と、この金属酸化物層の上に形成されたFePt系磁性層と、を有して構成される。 (もっと読む)


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