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【課題】バンキング・エージェントを含むエッチング液によりエッチングを行った場合、微細な配線パターンを有するプリント配線板を、ショート欠陥を発生させることなく、良好な歩留まりで製造する銅又は銅合金のエッチング方法を提供する。
【解決手段】銅又は銅合金の表面を化学研磨によって研磨処理した後、レジストパターンを形成し、バンキング・エージェントを含むエッチング液でエッチングする銅又は銅合金のエッチング方法。 (もっと読む)


【課題】 高精度かつ形状設計の自由度を確保すると共に、過酷な温度環境に置かれた場合であっても、基板と配線部間の接合信頼性を確保可能なマシナブルセラミックス回路基板を簡素な工程で得る。
【解決手段】回路基板10は、基板11の配線面11aに配線部13a,13bを接合してなる。基板11の配線面11aと配線部13a,13bとの間は接着シート部材15で接合されている。接着シート部材15は、配線部13a,13b側の粘着面15aの面方向(剪断方向)の伸縮が基板11側で拘束される肉厚に設定され、熱環境の変化に係わらず配線部13a,13bの規定の配線間隔を許容値内に保持することができる。 (もっと読む)


【課題】半導体デバイス基板のエッチング過程の品質のスクリーニング試験法を開発する。
【解決手段】本発明は、セラミック基板の上に接合された銅板をエッチングすることにより形成されるDBC基板のエッチングを試験する。電気負性絶縁ガスを加熱して分解したガスを満たした部屋に、DBC基板を所定時間挿入または通過させる。電気負性絶縁ガスのガス分解生成物がDBC基板に残存した銅と反応した生成物を、エッチングの欠陥として判別する。 (もっと読む)


【課題】透明基材の両面の透明金属膜上に設けたフォトレジスト膜に同時に、両面に異なるパターン露光を行っても、エッチング及び剥離処理後の透明基材の両面に位置精度の良好な透明金属膜パターンを効率よく、簡便に形成することのできる透明基材両面へのパターン形成方法を提供する。
【解決手段】透明基材21の表裏両面に設けた透明金属膜22A、22Bをパターンに形成する際に、透明金属膜の少なくとも一方の透明金属膜上に露光光を遮光する不透明層27を形成し、フォトレジスト膜23A、23Bを形成する。不透明層がエッチング及び剥膜処理にて溶解除去される材料である。 (もっと読む)


【課題】エッチングレジスト又はめっきレジスト等のレジスト材料として、レジストのしみ出しが抑制され、かつ密着解像性に優れたドライフィルムレジストロールの提供。
【解決手段】感光層を有するドライフィルムレジストを、ロール状に巻き取ったフィルムロールの端面に乾燥剤を設けて成るドライフィルムレジストロールであって、該感光層が感光性樹脂組成物を含有し、該感光性樹脂組成物が、該組成物全量に対して、(a)カルボキシル基含有量が酸当量で100〜600であり、かつ、重量平均分子量が5000〜500000であるバインダー用樹脂:20〜90質量%、(b)光重合可能な不飽和化合物:3〜70質量%、及び(c)光重合開始剤:0.1〜20質量%を含有し、該感光層の70℃における溶融粘度が10000Pa・sec以上100000Pa・sec以下であることを特徴とする、ドライフィルムレジストロール。 (もっと読む)


【課題】現像後解像性及び金属めっき耐性が良好で現像液分散安定性に優れ凝集物が発生しない光重合性樹脂組成物及びその用途の提供。
【解決手段】(A)カルボキシル基含有量が酸当量で100〜600であり、一般式(I):


(式中、R1は水素原子又はメチル基であり、R2は水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、カルボキシル基又は炭素数1〜12のハロアルキル基である)で表されるモノマーを含む重合成分の重合により得られ、重量平均分子量が5000〜500000であるバインダー用樹脂:10〜90質量%、(B)光重合性不飽和化合物:5〜70質量%、及び(C)光重合開始剤:0.01〜20質量%を含有し、(B)光重合性不飽和化合物中のエチレンオキサイド基濃度が0.17mol/100g以下である光重合性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】レジストのはく離性に優れ、密着性及び解像度を向上させることが可能な感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法、及びプリント配線板の製造法を提供。
【解決手段】(A)バインダーポリマー、(B)エチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する光重合性化合物及び(C)アクリジン化合物からなる光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物であって、上記(B)光重合性化合物が、ビスフェノールの水素添加体を母核とするジアクリレート化合物を含む感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】本発明の課題は、工程途中の露光工程や工程間のマテリアルハンドリングにおいて、問題が発生し難い段差レジスト樹脂層の形成方法を提供することである。
【解決手段】基板上の段差レジスト樹脂層の形成方法において、a)基板上にカバーフィルムを伴った感光性樹脂層をラミネートする工程、b)該感光性樹脂層に第1のパターン露光を行う工程、c)カバーフィルムの除去を行う工程、d)該感光性樹脂層に潜在的薄層化処理層を形成する工程、e)該感光性樹脂層上にカバーフィルムを形成する工程、f)該感光性樹脂層に第2のパターン露光を行う工程、g)カバーフィルムを除去し、潜在的薄層化処理層及び未露光部の感光性樹脂層の除去を行う工程、をこの順で含む段差レジスト樹脂層の形成方法。 (もっと読む)


【課題】表面に導電層が設けられている基板上に光架橋性樹脂層を形成し、アルカリ水溶液によって光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行った後、回路パターンの露光、現像処理を行う回路基板の製造方法において、光架橋性樹脂層を薄膜化した後、樹脂層表面が剥き出しの状態でも酸素による重合阻害の影響をほとんど受けない光架橋性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】(a)表面に導電層が設けられている基板上に光架橋性組成物を含有してなる光架橋性樹脂層を形成する工程、(b)アルカリ水溶液によって未硬化部の光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行う工程、(c)回路パターンの露光工程、(d)現像工程を含むレジストパターンの作製方法で使用される光架橋性組成物が、ジアルキルアミノベンゼン構造を有する化合物を含有してなることを特徴とする光架橋性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】エッチングレジスト又はめっきレジスト等のレジスト材料として優れた解像度及び密着性を有する感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】(A)バインダーポリマー:20〜90重量%、(B)光重合性化合物:5〜75重量%、及び(C)光重合開始剤:0.01〜30重量%を含有する感光性樹脂組成物であって、前記(A)バインダーポリマーは、カルボン酸又はカルボン酸無水物である第一単量体と重合性不飽和基を1個有し、かつ非酸性である第二単量体とを共重合することにより得られた重量平均分子量5,000〜100,000の共重合体であり、前記(B)光重合性化合物は、付加重合性モノマーであり、かつ、前記感光性樹脂組成物に露光を行い、次いで現像を行った後に得られた感光性樹脂層の水接触角が60°以上、かつ、ヤングモジュラスが1.5GPa以上4GPa未満である感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】高い信頼性を有するレジスト層を得ることが可能な現像装置、現像方法および配線回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁層10a上に導体パターン10bを形成する。導体パターン10bを含む絶縁層10a上に感光性レジストフィルムSRの一面を貼着して中間体シートTUを作製する。このとき、感光性レジストフィルムSRの他面には、支持フィルムF2が貼着されている。続いて、感光性レジストフィルムSRを露光する。その後、現像装置400において、感光性レジストフィルムSRから支持フィルムF2を剥離するとともに感光性レジストフィルムSRおよび支持フィルムF2の貼着部分と剥離部分との境界部に接触するように現像液を供給し、感光性レジストフィルムSRの現像処理を行ない、配線回路基板を完成する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、シュウ酸を添加した塩化鉄(III)水溶液を用いたエッチングにおいて、作業環境を悪化させたり、特別な装置を必要としたりすることなく、パターン側面の銅の表面に形成された水不溶性銅塩の結晶を迅速に除去するエッチング後処理液およびエッチング方法を提供しようとするものである。
【解決手段】シュウ酸を含むエッチング液でエッチングした銅の表面を、1.0質量%以上のシュウ酸を含み、かつpH3以上の後処理液を用いて、洗浄を行う。 (もっと読む)


【課題】より矩形に近い断面形状の微細な導体パターンを有するプリント配線板を効率よく製造するエッチング装置およびエッチング方法を提供する。
【解決手段】スプレーエッチング装置において、スプレーノズルと被エッチング材との間に、1個あたり0.200cm以上の面積および30.0cm以下の支配面積を有する多数の開口を、開口率75%以下になるように配置した邪魔板を設ける。かかる装置により、銅と反応して不溶性の物質を形成する化合物を含むエッチング液を用いてエッチングを行う。 (もっと読む)


【課題】 レジスト形状、テント信頼性及び剥離性の全てがバランス良く優れており、プリント配線の高密度化及びプリント配線板製造の自動化に有用な感光性樹脂組成物及び感光性エレメントを提供すること、並びに、当該感光性樹脂組成物又は感光性エレメントを用い、プリント配線の更なる高密度化及びプリント配線板製造のより効率的な自動化を可能とするレジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供すること。
【解決手段】 (A)バインダーポリマー、(B)分子内にエチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する光重合性化合物並びに(C)光重合開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物であって、(A)成分としてのバインダーポリマーが2以上のバインダーポリマーからなるもの、及び/又は、2.5〜6.0の分散度を有するものであり、(B)成分としての光重合性化合物がポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレートを含むものである、感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】高周波アンテナなどにも使用できる電気特性を有し、寸法安定性、量産性にも優れるプリント配線基板、及び、被覆材と基板との間の線膨張係数差が小さく、熱衝撃による割れが発生しにくいアンテナ部品などの電子部品を提供する。
【解決手段】表面粗度(Rz)が2〜15μmの電解銅箔上に、充填材を15〜65体積%含有する熱可塑性樹脂組成物を射出成形してなる射出成形基板、及び、回路パターンを形成した前記射出成形基板に、充填材15〜60体積%を含有する熱可塑性樹脂組成物をさらに被覆した射出成形部品。 (もっと読む)


【課題】熱ナノインプリント法における熱可塑性高分子の剥がれや、ウェットエッチング液やめっき液の、レジスト内や金属層とレジストとの界面への浸入を抑制する基板を提供する。
【解決手段】基板層1、金属酸化物表面を有する金属層2、下記式に示す、紫外線照射により接着性を発現する感紫外線化合物層3、および熱可塑性高分子層4とをこの順で有する。


(R1〜R3:H、C1〜6の炭化水素基等、X:O、OCO、COO、NH、NHCO、m:1〜20、R4:C1〜3の炭化水素基、Y:C1〜3のアルコキシ基、ハロゲン原子、n:1〜3。) (もっと読む)


【課題】 回路線の横断面形状を台形状から長方形状に近い形状にして、高密度に回路線を配置しうるフレキシブルプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】 アルミニウム箔と合成樹脂製フィルムとが貼合された積層体を準備する。この積層体のアルミニウム箔表面にレジスト処理して、レジスト部と非レジスト部とを形成する。そして、エッチング処理を施す。エッチング処理後に、非レジスト部位を塩化第二鉄水溶液水溶液で後処理する。この後処理に引き続き、非レジスト部位を水酸化ナトリウム水溶液,炭酸ナトリウム水溶液,燐酸ナトリウム水溶液,燐酸水溶液,硝酸水溶液及びクロム酸水溶液よりなる群から選ばれた水溶液で仕上処理する。得られたフレキシブルプリント配線板は、ICタグやICチップのアンテナコイルとして用いられる。 (もっと読む)


【課題】高精密度セラミック基板を提供する。
【解決手段】本発明の高精密度セラミック基板製造工程は、電気鍍金及び高精度の露光/エッチング方式で製造する必要があり、一般のプリント方式で製造するセラミック基板と異なり、セラミック基板表面に金属層を鍍金した後、金属層表面に乾燥型を貼付し、現像を行ない、露出した金属層表面に導電金属層を鍍金し、且つ回路部分を残した金属層及び導電金属層をエッチングし、所定位置の導電金属層表面に無酸素テープを粘着接合し、その無酸素テープは、セラミック粉、ガラス粉及び粘着剤を所定の比率で調合、積層して形成し、セラミック基板を無酸素炉に送り込み、同時焼成を行い、無酸素テープが遮蔽壁を成形し、無酸素炉内に同時焼成し、導電金属層は、酸化を発生せず、後続の溶接、電気鍍金工程を行なう時に既に鍍金した金属層が剥離、又は溶接不十分の欠陥が発生することがない。 (もっと読む)


【課題】金属パターン積層基材を、生産性を低下させずに安定的に製造することができる製造方法を提供する。
【解決手段】基材上に積層された金属膜上に所定パターンのレジスト膜を印刷法により形成する工程(A)、金属膜をエッチングする工程(B)、及び前記レジスト膜をアルカリ水溶液で剥離除去する工程(C)を有する金属パターン積層基材の製造方法であって、前記工程(A)が、下記(a)成分と(b)成分を主成分として含む活性エネルギー線硬化型レジストインキ組成物を用いてレジスト膜を形成することを特徴とする、金属パターン積層基材の製造方法。
(a)成分;1分子中にエチレンオキシ基を3〜10個とエチレン性不飽和基を1個以上有するモノマー及び/またはオリゴマー
(b)成分;1分子中にカルボキシル基を1個以上有しかつ酸価が50以上200未満である樹脂 (もっと読む)


【課題】露光時において、フォトマスクと感光性ドライレジスト層とを精度よく位置合わせでき、感光性ドライレジスト層を精度のよいパターンに現像して、配線回路基板を精密に形成できる配線回路基板集合体シートの製造方法を提供すること。
【解決手段】
回路付サスペンション基板2を備える金属支持基板20に、第1保護フィルム21が貼着されている感光性ドライレジスト層22を熱圧着により積層し、第1保護フィルム21を剥離し、感光性ドライレジスト層22の表面に加熱することなく第2保護フィルム23を貼着し、フォトマスク24を介して第2保護フィルム23が貼着されている感光性ドライレジスト層22を所定パターンで露光し、第2保護フィルム23を剥離し、感光性ドライレジスト層22を所定パターンで現像し、感光性ドライレジスト層22から露出する金属支持基板20をエッチングして、回路付サスペンション基板集合体シート1を製造する。 (もっと読む)


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