説明

Fターム[5E339CE12]の内容

プリント配線の製造 (8,867) | エッチングレジストの形成 (1,016) | レジストパターンの形成 (267)

Fターム[5E339CE12]の下位に属するFターム

Fターム[5E339CE12]に分類される特許

21 - 40 / 108


【課題】光架橋性樹脂層の薄膜化処理方法において、連続薄膜化処理によって光架橋性樹脂溶解量が増加した場合にも、現像能力および溶解能力を一定に維持することができる方法を提供する。
【解決手段】光架橋性樹脂層の薄膜化処理方法において、工程(a);基板上に光架橋性樹脂層を形成する工程、工程(b1);無機アルカリ性化合物を5〜20質量%含む水溶液で処理する工程、工程(b2);無機アルカリ性化合物とアセチレン基を中央に持ち、左右対称の構造をした非イオン性界面活性剤とを含み、pH5〜10である水溶液で処理する工程を含むことを特徴とする光架橋性樹脂層の薄膜化処理方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ドライフィルムレジストを均一に薄膜化することが可能なドライレジストの薄膜化処理方法を提供するものである。
【解決手段】基板上にドライフィルムレジストを貼り付け、界面活性剤を含む水溶液にて水洗前処理を行った後、無機アルカリ性化合物の含有量が5〜20質量%のアルカリ水溶液によって薄膜化処理することを特徴とするドライフィルムレジストの薄膜化処理方法。 (もっと読む)


【課題】エッチング処理により基板上に設計データ通りの配線パターンを形成できるようにする、レジストパターンのデータを生成するデータ生成方法を実現する。
【解決手段】レジストパターンのデータ生成方法は、基板面に相当する仮想平面上において、設計データに規定された配線の外郭上の或るポイントを基準点として所定形状を有し、当該ポイント上に位置するエッチング液によって銅箔がエッチングされ得るエッチング影響エリアを含む第1の基準エリアを設定する設定ステップS101と、レジストパターンの外郭の位置を、第1の基準エリアに占めるエッチング影響エリアの面積を表わすエリア面積パラメータに応じて決定する決定ステップS102と、設計データに規定された配線の外郭上の任意の位置に順次設定されるポイントに対して設定ステップS101および決定ステップS102を繰り返し実行することで、レジストパターンの外郭を画定する画定ステップS103と、を備える。 (もっと読む)


【課題】回路パターンを良好なファインピッチで形成することができるプリント配線板用回路基板の形成方法を提供する。
【解決手段】プリント配線板用回路基板の形成方法は、白金、パラジウム、及び、金のいずれか1種以上を含み、白金の付着量が1050μg/dm2以下、パラジウムの付着量が600μg/dm2以下、金の付着量が1000μg/dm2以下である被覆層を表面に備えた銅箔又は銅層と、樹脂基板との積層体を準備する工程と、積層体の被覆層表面にレジストパターンを形成する工程と、レジストパターンを形成した積層体の被覆層表面を、CuCl2を1.5〜4.1mol/L、及び、HClを1.3〜5.0mol/L含むエッチング液を用いてエッチングする工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】波長350nm〜410nmの光線に対して非常に高感度であり、解像性、密着性、露光後の焼き出し性に優れるとともに、安定したスループットが得られ、更に溶剤に対する溶解性が良好で、レジストに析出物が発生し難い感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】(A)バインダーポリマー、(B)光重合性化合物、(C)光重合開始剤、及び(D)下記一般式(1)等で表されるN,N,N’,N’−テトラアリールベンジジン誘導体を含有する感光性樹脂組成物。


(但し、式中のR1〜R4はそれぞれ独立して炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、ハロゲン原子、又はアミノ基を表す。) (もっと読む)


【課題】銅回路が形成されたフレキシブルプリント配線板に積層した光導波路を、曲げても光導波路に亀裂が入らないフレキシブルプリント配線板、光電気配線板及びそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】フレキシブル基材に銅回路が形成されたフレキシブルプリント配線板において、銅回路材料が圧延銅箔であり、該銅回路材料の弾性率がフレキシブル基材の1.2倍以下であることを特徴とするフレキシブルプリント配線板、該フレキシブルプリント配線板に光導波路を積層してなる光電気配線板、並びに、フレキシブル基材に圧延銅箔を積層し、銅回路を形成するフレキシブルプリント配線板の製造方法であって、圧延銅箔を250〜350℃に熱処理して、その弾性率を4000〜6000Mpaとする工程を有するフレキシブルプリント配線板及び光電気配線板の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】銅層のエッチングによるダレを防止し、均一な回路幅を形成して、配線の直線性を良好にする。
【解決手段】銅層のエッチング面側に、銅よりエッチングレートの遅い層を形成すると共に、前記銅層の非エッチング側の面を樹脂基板に張付け、エッチング面に回路形成用レジストパターンを形成する。銅よりエッチングレートの遅い層を先にエッチングした後、次に銅層をエッチングして、樹脂基板上に電子回路を形成することで回路形成時のサイドエッチングを抑制し、高いエッチファクタを可能であるだけでなく、エッチングに先立ち、エッチングされるべき銅箔の直上にある表面処理層を予め除去するプリエッチング工程を導入することで、目的とする回路幅の、より均一な回路を形成でき、パターンエッチングでのエッチング性の向上、ショートや回路幅の不良の発生を防止できる銅箔及び電子回路形成用銅張積層板並びにこれを用いた電子回路基板を提供する。 (もっと読む)


【課題】耐加熱変色性及びエッチング性に優れたプリント配線板用銅箔及び積層体を提供する。
【解決手段】プリント配線板用銅箔は、銅箔基材と、銅箔基材の表面の少なくとも一部を被覆する被覆層とを備えた銅箔である。被覆層は、貴金属粒子と、貴金属粒子を覆う、貴金属及び銅以外の材料で形成された担持剤とで構成されている。 (もっと読む)


【課題】エッチング性に優れたプリント配線板用銅箔及び積層体を提供する。
【解決手段】プリント配線板用銅箔は、銅箔基材と、銅箔基材の表面の少なくとも一部を被覆する被覆層とを備える。被覆層は、互いに平均間隔10nm未満で隣接し、且つ、直径が1〜15nmである貴金属粒子で構成された貴金属層と、貴金属層と銅箔基材との間に形成され、厚みが1nm以上である銅と貴金属との合金層とで構成されている。 (もっと読む)


【課題】ファインピッチ化に適したプリント配線板用銅箔又は銅層と絶縁基板との積層体を提供する。
【解決手段】銅箔又は銅層と絶縁基板との積層体であって、銅箔又は銅層に回路が形成されており、回路の断面形態において、銅箔又は銅層の被覆層形成側表面から1μmの深さの範囲で最も広い回路幅をW1とし、回路断面全体で回路幅が最も狭くなる位置が表面から1μmよりも深く、このときの回路幅をW2としたとき、0.5≦W2/W1≦1.0を満たす積層体。 (もっと読む)


【課題】エッチング性が良好でファインピッチ化に適し、磁性が良好に抑制された銅箔を提供する。
【解決手段】プリント配線板用銅箔は、銅箔基材の表面の一部を被覆し、白金、パラジウム、及び、金のいずれか1種以上を含む被覆層とを備える。XPSによる表面からの深さ方向分析から得られた深さ方向(x:単位nm)の金、白金及び/又はパラジウムの原子濃度(%)をf(x)とし、銅の原子濃度(%)をg(x)とし、酸素の原子濃度(%)をh(x)とし、炭素の原子濃度(%)をi(x)とし、その他の金属の原子濃度の総和をj(x)とすると、区間[0、1.0]において、∫f(x)dx/(∫f(x)dx+∫g(x)dx+∫h(x)dx+∫i(x)dx+∫j(x)dx)≦0.9で、区間[1.0、4.0]において、∫f(x)dx/(∫f(x)dx+∫g(x)dx+∫h(x)dx+∫i(x)dx+∫j(x)dx)≦0.6を満たす。 (もっと読む)


【課題】安全に銀を処理することができ、且つ銀の導体パターンを形成する場合に、所望のパターンどおりの形状であって且つパターンサイドの形状を良好にすることができる銀処理剤、銀の処理方法および導体パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】ハロゲンイオンと、銅および/または鉄イオンと、イミダゾール、1位、2位または4位の炭素または窒素原子に炭素数1−4のアルキル置換基を有するイミダゾール化合物及び1,2−ジアルキルイミダゾールからなる群より選ばれた少なくとも1種とを含むことを特徴とする銀処理剤、銀処理方法、およびこれらを使用する導体パターンの形成方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】レジスト形状、テント信頼性及び剥離性の全てがバランス良く優れており、プリント配線の高密度化及びプリント配線板製造の自動化に有用な感光性樹脂組成物及び感光性エレメントの提供、並びに、当該感光性樹脂組成物又は感光性エレメントを用い、プリント配線の更なる高密度化及びプリント配線板製造のより効率的な自動化を可能とするレジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供する。
【解決手段】(A)バインダーポリマー、(B)分子内にエチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有し、エチレングリコール鎖及びプロピレン鎖を有するビスフェノール型の光重合性化合物、並びに(C)光重合開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物であって、(A)成分としてのバインダーポリマーが2以上のバインダーポリマーからなるもの、及び/又は、2.5〜6.0の分散度を有する感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】 レジスト形状、テント信頼性及び剥離性の全てがバランス良く優れており、プリント配線の高密度化及びプリント配線板製造の自動化に有用な感光性樹脂組成物及び感光性エレメントを提供すること、並びに、当該感光性樹脂組成物又は感光性エレメントを用い、プリント配線の更なる高密度化及びプリント配線板製造のより効率的な自動化を可能とするレジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供すること。
【解決手段】 (A)バインダーポリマー、(B)分子内にエチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する光重合性化合物並びに(C)光重合開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物であって、(A)成分としてのバインダーポリマーが2以上のバインダーポリマーからなるもの、及び/又は、2.5〜6.0の分散度を有するものであり、(B)成分としての光重合性化合物がポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレートを含むものである、感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】めっき触媒又はその前駆体との吸着性及び加水分解に対する耐性に優れた絶縁性樹脂、絶縁性樹脂層形成用組成物、基板との密着性に優れた金属膜又は金属パターンを簡易に形成しうる積層体、表面金属膜材料及び金属パターン材料の作製方法を提供する。
【解決手段】下記式で表されるユニットを含み、(C)で表されるユニットの含有率が共重合体に含まれる全ユニット中20モル%未満である共重合体からなる絶縁性樹脂。
(もっと読む)


【課題】エッチング液を用いないことにより、人体に悪影響を及ぼしたり、環境を汚染したりすることを防ぐセラミック基板の製造方法を提供する。
【解決手段】セラミック基板上にドライフィルムを貼リ付ける工程100と、ドライフィルムに対して露光および現像加工を行い、ドライフィルム上に所定の配線パターンを形成する工程101と、セラミック基板およびドライフィルム上に第1の金属層をコーティングする工程102と、第1の金属層上に銅層を電気メッキする工程103と、セラミック基板上のドライフィルム、第1の金属層および銅層に切断および研磨を行なった後、ドライフィルムを前記セラミック基板上から除去する工程104と、セラミック基板上に適切な厚さを有する銅層を形成する工程105と、セラミック基板の銅層の表面に第2の金属層を電気メッキする工程106と、を含む。 (もっと読む)


【課題】現像後の解像度、及びめっき後の剥離特性に優れる感光性樹脂組成物及び感光性樹脂積層体を提供する。
【解決手段】(a)(1)α,β−不飽和カルボン酸の中から選ばれる第1単量体単位及び、(2)炭素数1〜6のヒドロキシアルキル基を有するヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートから選ばれる第2単量体単位を含むアルカリ可溶性高分子を20〜90質量%、(b)光重合可能な不飽和二重結合を有する化合物を5〜60質量%、並びに(c)光重合開始剤を0.1〜20質量%含む感光性樹脂組成物であって、(a)アルカリ可溶性高分子は、酸当量が100〜600、重量平均分子量が5000〜500,000であり、また該第2単量体を該高分子を基準として20質量%以上含み、(b)光重合可能な不飽和二重結合を有する化合物は、該化合物を基準として70質量%以上がアクリレート化合物である感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】コストを増大させず、ノイズを低減させ半導体素子パッケージおよび回路基板の電気的特性を安定させるとともに半導体素子パッケージを回路基板に実装する。
【解決手段】中継基板20は、第一の絶縁層21−1と、第一の絶縁層21−1に内包される第一の金属板22−1とを有するとともに、第二の絶縁層21−2と、第二の絶縁層21−2に内包される第二の金属板22−2とを有し、第一の絶縁層21−1と、第二の絶縁層21−2とを積層した層間に絶縁基材28を有し、第一の回路基板10を搭載する表面から第二の回路基板30と向かい合う表面へと第一の絶縁層21−1、第一の金属板22−1、絶縁基材28、第二の金属板22−2および第二の絶縁層21−2とともに貫通する金属杭24を有する。 (もっと読む)


【課題】サブトラクティブ法による導電パターンの作製方法において、光架橋性樹脂層の厚みが大きい場合や光溶解速度が遅い場合にも、より短時間で光架橋性樹脂層を均一に薄膜化できる方法を提供する。
【解決手段】アルカリ水溶液による光架橋性樹脂層の薄膜化処理が、(1)アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属ケイ酸塩から選ばれる少なくとも1種の無機アルカリ性化合物を5〜20質量%含む水溶液で処理する工程、(2)アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属ケイ酸塩から選ばれる少なくとも1種の無機アルカリ性化合物を含むpH5〜10の水溶液で処理する工程、(3)処理後の光架橋性樹脂層表面を水洗後、水滴を除去する工程をこの順に含み、工程(3)の前に工程(1)と工程(2)を少なくとも2回以上繰り返し連続して行うことを特徴とする導電パターンの作製方法。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、本発明は、凹凸の少ない端縁を有する回路線からなる配線パターンをエッチングにより形成することができるエッチングレジストを基材シートに印刷することができるグラビア版胴を提供する。
【解決手段】 本発明のグラビア版胴1は、金属箔S1上にエッチングレジストを形成するためのグラビア版胴であって、上記グラビア版胴1の表面には、エッチング配線パターンP1を印刷するためのセルを有する配線パターン印刷部11が形成されていると共に、上記配線パターン印刷部11以外の上記グラビア版胴1の表面には、エッチングによって消失する消失図柄部P2を印刷するためのセルを有する消失図柄印刷部12が形成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


21 - 40 / 108