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Fターム[5E343BB34]の内容

プリント配線の製造 (50,760) | 導体パターンの形状、構造・材料 (16,522) | 導体材料(サーメット等) (10,751) | 金属単体 (9,947) | 4族 (636) | Sn (412)

Fターム[5E343BB34]に分類される特許

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【課題】搭載する部品を傾けることなく接合可能であり、かつ、工程の簡略化が可能な回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】回路基板1上の端子部2の表面に、第一の粘着性付与化合物を塗布して第一の粘着層5を形成する工程と、前記端子部2の前記第一の粘着層5上に核体11を付着する工程と、前記核体11の表面に、第二の粘着性付与化合物を塗布して第二の粘着層13を形成する工程と、前記核体11表面の前記第二の粘着層13上に第一のはんだ粒子14を付着する工程と、前記第一のはんだ粒子14を溶融して、前記核体11の表面にはんだ層を形成する工程と、を具備してなる回路基板の製造方法を採用する。 (もっと読む)


【課題】製造に真空設備を必要とせず、また有機物接着剤を使用することなく、且つ導電層(銅箔層)を十分に薄くすることを可能とするプリント配線板用基板、プリント配線板、及びプリント配線板用基板の製造方法の提供を課題とする。
【解決手段】絶縁性の基材11と、該絶縁性の基材11の上に積層される第1導電層12と、該第1導電層12の上に積層される第2導電層13とを有し、前記第1導電層12が金属粒子を含む導電性インクの塗布層として構成され、前記第2導電層13がめっき層として構成されていることを特徴とするプリント配線板用基板である。 (もっと読む)


【課題】極めて微細な配線パターン等を含む導体パターンを精確に(高精度かつ確実に)形成することができるプリント配線板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】下地金属パターン2を形成する工程と、前記下地金属パターン2が形成された片面上にネガ型のフォトレジスト6をコーティングする工程と、前記下地金属パターン2を用いて、前記絶縁性基板1を透過する光7を照射して前記フォトレジスト6を露光することによってめっきレジストパターン8を形成する工程と、前記めっきレジストパターン8を用いて、当該めっきレジストパターン8が設けられていない部分のみに前記下地金属パターン2をシード層とするめっきを施すことにより、前記下地金属パターン2の上にのみ選択的にめっき金属パターン3を形成する工程とを備えて、前記下地金属パターン2と前記めっき金属パターン3とを積層してなる導体パターン4を形成する。 (もっと読む)


【課題】グラビア印刷方法等の印刷方法において、どのようなインク材料が使用された場合であっても、高精細な印刷画像の形成が可能な被印刷基材を提供し、その被印刷基材を用いて高精細な印刷画像を形成する方法を提供する。
【解決手段】印刷版14上に形成されたインク材料16からなる画像を転写するための被印刷基材10であって、被印刷基材10が、画像が印刷される側の表面に、粘着性のある光硬化性組成物からなる光硬化性転写層11が設けられた構成を有することを特徴とする被印刷基材10。更に、印刷版14上に形成されたインク材料16からなる画像をその被印刷基材10の光硬化性転写層11の表面に転写する工程、その画像が転写された光硬化性転写層11を紫外線照射により硬化させる工程を含む印刷画像の形成方法。 (もっと読む)


本発明は、多層プリント回路板の製造方法及びそれにより形成された物品、特にIC基板に関する。本発明による方法は、個々のプロセスステップにおいて、無機ケイ酸塩及びオルガノシラン結合混合物を利用して、銅の層と誘電性材料との間の付着を提供する。前記方法は、多層プリント回路板及びIC基板の高められた接着強度、改善された機械抵抗及び熱応力耐性並びに耐湿性をもたらす。 (もっと読む)


【課題】導電膜と基板との密着性に寄与する樹脂層の柔軟性、耐熱衝撃性に優れた導電膜の形成方法、該導電膜の形成方法を工程中に含むプリント配線板の製造方法及び導電膜材料を提供する。
【解決手段】(a)有機樹脂基材上に、ラジカル重合性基を有する化合物と、熱可塑性樹脂とを含有してなる樹脂層を形成する工程、(b)無電解めっき触媒またはその前駆体と相互作用する官能基を有する樹脂とラジカル重合性基を有する化合物とを含有する無電解めっき触媒またはその前駆体を吸着しうる樹脂層を形成する工程、(c)無電解めっき触媒またはその前駆体を吸着しうる層に、無電解めっき触媒またはその前駆体を付与する工程、及び、(d)無電解めっきを行い、無電解めっき膜を形成する工程、を含む導電膜の形成方法である。 (もっと読む)


【課題】金属粒子を用いた直接回路描画法において、耐熱性の低い基板材料上においても低抵抗の実装部品を短時間に作成することが可能な、新しい技術手法及びこの方法を用いて製造した製品さらに、これに用いる金属粒子を相互融着するための金属粒子焼成用材料を提供する。
【解決手段】高周波電磁波吸収性の優れた金属粒子もしくは高周波電磁波吸収性の優れた焼結助剤を混合した金属粒子を、各種基板上に表面塗布又は回路パターンニングを行なった後に高周波電磁波照射を行うことで、金属粒子部分を選択的に加熱する金属粒子の相互融着方法と、この方法を用いて形成した導電材、導電路、アンテナ、バンプ、パッド、ビア等の電子実装部品や立体配線基板及び熱伝導路、触媒電極、立体配線である。 (もっと読む)


【課題】幅が細く、かつ厚さが均一な断面形状を有するラインパターンを形成する。
【解決手段】パターン形成材料を分散または溶解させた液体材料を基板30上に滴下し、乾燥させる第1の工程と、液体材料が乾燥してなる乾燥体上に液体材料を滴下する第2の工程とにより、基板30にラインパターンを形成する。第2の工程においては、第1の工程よりも少ない吐出量により液体材料を滴下し、第1の工程および第2の工程における液体材料の基板への打摘ピッチを、ジャギー発生限界以下とする。 (もっと読む)


【課題】カバーレイフィルムやソルダーレジストと銅又は銅合金界面へのめっき液の浸入が少なく、また、はんだ濡れ性が良好であり、基材とはんだとの接合信頼性も良好なめっき被膜を形成する無電解錫又は錫合金めっき液の提供。
【解決手段】少なくとも錫塩、錯化剤、酸を含む無電解錫又は錫合金めっき液において、ベンゼン環に直接結合した一つ以上のヒドロキシル基を持つ化合物を含有し、且つポリアルキレングリコール化合物又はポリアルキレングリコールの末端の少なくとも一つ以上のヒドロキシル基をアルコキシ基で封鎖したポリアルキレングリコールエーテル化合物を含有することを特徴とする無電解錫又は錫合金めっき液。 (もっと読む)


【課題】基板上に定着性に優れるインク受容層を形成後、該基板上に金属微粒子分散液をパターニングして、焼成する導電性と密着性に優れる、導電材の形成方法を提供する。
【解決手段】ガラス、又は予め表面がコロナ処理等された樹脂基板上に、シランラップリング剤等を含むコーティング液を塗布後、乾燥して基板上にインク受容層を形成し、該インク受容層上に金属微粒子分散液を吐出手段等により、パターン化された液膜を形成し、該基板上のパターン化された液膜を焼成して、焼結導電層を形成することを特徴とする導電材の形成方法。 (もっと読む)


【課題】シランカップリング剤処理工程を連続して行っても、絶縁樹脂等からなる樹脂層との密着性を容易に維持できる上、製造コストの低減が可能な積層体の形成方法を提供する。
【解決手段】金属層表面にシランカップリング剤水溶液を塗布し、得られた塗布膜を乾燥させてシランカップリング剤皮膜を形成するシランカップリング剤処理工程と、前記シランカップリング剤皮膜上に樹脂層を積層させる積層工程とを連続して行う積層体の形成方法において、前記シランカップリング剤処理工程の際、形成されたシランカップリング剤皮膜を反射吸収法によるFT−IRにて分析し、Si−Oのピーク面積が所定の閾値未満となったときに、前記シランカップリング剤水溶液の少なくとも一部を更新することで、前記ピーク面積を所定の範囲内に管理しながらシランカップリング剤処理を行うことを特徴とする積層体の形成方法とする。 (もっと読む)


本発明は、(a)芳香族テトラカルボン酸二無水物として、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)及びピロメリット酸二無水物(PMDA)を含み、(b)1種以上の芳香族ジアミンと(c)有機溶媒と(d)無機充填剤とを含むポリアミック酸溶液、前記ポリアミック酸溶液をイミド化して製造されるポリイミド樹脂、前記ポリイミド樹脂を使用するフレキシブル金属箔張積層板及び前記フレキシブル金属箔張積層板を備えるプリント回路基板に関する。 (もっと読む)


【課題】高い精度で形成された回路部を有する回路基板、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁性基板4は、屈曲部を有する溝部を含む。回路部1は、溝部を充填するものである。回路部1は、錫、および96.5重量%の錫と3重量%の銀と0.5重量%の銅とからなる錫合金のいずれかからなる100重量部の母材部と、母材部中に分散された5重量部以上45重量部以下の銅粒子とを含む。 (もっと読む)


【課題】透明性及び導電性に優れ、かつ、基材と導電パターンの密着性に優れた導電性基板を高い生産性で製造する方法を提供すること。
【解決手段】透明基材上に、金属又は金属酸化物微粒子を含む塗布液をパターン状に印刷して印刷層を形成し、該印刷層を焼成処理してパターン状の金属微粒子焼結膜を形成する導電性基板の製造方法であって、焼成がマイクロ波エネルギーの印加により発生する表面波プラズマによる焼成であり、かつ金属微粒子焼結膜のパターンが形成されていない基材表面の算術平均粗さ(Ra)が0.2〜4.0nmであることを特徴とする導電性基板の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】ウェットライン法を用いることなく、フレキシブル基板を製造する方法を提供する。
【解決手段】樹脂シート3上にパターンが開口されたマスキングテープ2を貼り付ける工程と、マスキングテープ2が貼り付けられた樹脂シート3上に、紫外線硬化型塗料を塗付して、密着層5を形成する工程と、密着層5上に金属導電膜を蒸着させて金属導電層8を形成する工程とを含むフレキシブル基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 接続信頼性の高いパッドを備えるプリント配線板の製造方法を提案する。
【解決手段】 パッド61が、第1の電解銅めっき膜56aと2〜10μmの第2の電解銅めっき膜59とから成り、第1の電解銅めっき膜56aから成る導体回路58よりも厚みが2〜10μmの厚い。このため、実装の際に、加圧し易く、接続信頼性を高めることができる。また、第1の電解銅めっき膜上に第2の電解銅めっき膜を形成して厚みを高めるので、パッド及び導体回路にサイドエッチングが発生せず、パッド及び導体回路の信頼性を低下させることが無い。 (もっと読む)


【課題】 電子部品の電極表面に対し、電源を用いず、かつ触媒処理も行わずCuめっき皮膜を形成する場合においても、成膜速度の高いCuめっきを可能とする電子部品の製造方法を提供する。
【解決手段】 少なくとも表面がCuの析出電位に対し電気化学的に卑な浸漬電位を有する金属からなる導電性媒体を、Cuめっき浴中で前記被めっき物と混合し、前記被めっき物における電極上にCuめっき皮膜を形成する工程を含む電子部品の製造方法において、前記Cuめっき浴が、硫酸銅、硝酸銅、塩化銅から選ばれる少なくとも一種、ならびに、リンゴ酸、乳酸、マロン酸、グルタミン酸から選ばれる少なくとも一種、を含む。 (もっと読む)


【課題】金属凸部を有するポリマー材料の製造方法を提供する
【解決手段】ポリマー基板上に1個又は2個以上の金属凸部を有するポリマー材料の製造方法であって、下記工程(1)〜(5):
(1)ポリマー基板上の紫外線硬化型組成物により形成されたアクリル樹脂層表面をプラズマ処理する工程、
(2)プラズマ処理を行った該アクリル樹脂層表面に、無電解めっき法により金属皮膜を形成する工程、
(3)リソグラフィ処理により、1個又は2個以上の開口部を金属皮膜上に有するめっき用レジスト皮膜を形成する工程、
(4)電解めっき処理により、めっき用レジスト皮膜の開口部の金属皮膜上に金属を析出させる工程、及び
(5)めっき用レジスト皮膜を除去する工程
を含むポリマー材料の製造方法 (もっと読む)


【課題】ポリイミドなどの基材上に、好ましくは銅配線などパターン状の金属微粒子焼結膜を形成し、基材との密着性が高く、優れた導電性を有する導電性基板を提供すること。
【解決手段】基材上に、金属又は金属酸化物微粒子を含む塗布液を印刷して印刷層を形成し、該印刷層を焼成処理して金属微粒子焼結膜を形成してなる導電性基板であって、前記金属微粒子焼結膜おけるX線回折により測定した結晶子径が25nm以上であり、かつ前記金属微粒子焼結膜の断面の空隙率が1%以下である導電性基板及びその製造方法である。 (もっと読む)


【課題】樹脂層との密着性に優れためっき膜の形成に有用な、表面が平滑であっても、その表面に形成されるめっき膜との高密着性を達成しうるめっき用感光性樹脂組成物、それを用いた、表面金属膜材料、及びその作製方法などを提供する。
【解決手段】めっき触媒若しくはその前駆体と配位結合性の相互作用を形成する官能基と重合性基とを有するポリマー、及び、合成ゴムとエポキシアクリレートモノマーとベンジルアルコール基を有する重合性モノマーとからなる群より選択される1種以上を含有するめっき用感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


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