説明

Fターム[5E343EE43]の内容

Fターム[5E343EE43]に分類される特許

1 - 20 / 92


【課題】曲げ半径が小さくても破断を回避することが可能なプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】プリント配線板1の製造方法は、ベースフィルム10上に配線パターン20の銅層23を形成するステップS10と、カバーレイ30をベースフィルム10に積層して、銅層23の一部を露出させつつ銅層23をカバーレイ30で覆うステップS20と、カバーレイ30にマスキングテープ40を貼り付けるステップS30と、少なくとも銅層23の露出部分を機械的に研磨するステップS40と、マスキングテープ40をカバーレイ30から除去するステップS50と、銅層23の露出部分に対してめっき処理を行って、銅層23の上にめっき層24を形成するステップS60〜S80と、を備えており、ステップS50は、ステップS40とステップS60〜S80との間、又は、ステップS60〜S80の後に実行される。 (もっと読む)


【課題】曲げ半径が小さくても破断を回避可能なプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】プリント配線板1の製造方法は、ベースフィルム10上に配線パターン20の銅層23を形成する工程と、カバーレイ30をベースフィルム10に積層して、銅層23の一部をカバーレイ30から露出させつつ銅層23をカバーレイ30で覆うことで、基板中間体2を形成する工程と、基板中間体2を治具40に取り付ける工程と、基板中間体2を治具40に取り付けたまま、少なくとも銅層23の露出部分を機械的に研磨する工程と、基板中間体2を治具40から取り外す工程と、銅層23の露出部分に対してめっき処理を行って、銅層23の上にめっき層24を形成する工程と、を備え、治具40は、カバーレイ30の折り曲げ予定部分に対応する領域に凹部を有する。 (もっと読む)


【課題】配線導体に対する電気的絶縁信頼性に優れる配線導体を提供すること。
【解決手段】 絶縁層1の表面に下地金属層2を被着する第1の工程と、下地金属層2の表面に配線導体5のパターンに対応した開口部3aを有するめっきレジスト層3を被着する第2の工程と、開口部3a内の下地金属層2の表面に電解銅めっき層4を析出させる第3の工程と、めっきレジスト層3を除去する第4の工程と、電解銅めっき層4から露出する下地金属層2をエッチング除去する第5の工程とを行なう配線基板の製造方法であって、電解銅めっき層4の表面をスポンジロール12の表面に番手が2000〜6000番の研磨シート13を巻回してなる研磨ロール10により研磨する第6の工程を含む。 (もっと読む)


【課題】製造工程を簡素化し、安価に形成することができる多層基板の製造方法及び多層基板を提供する。
【解決手段】第1基材21に接着し、且つ、第1導体パターン31のランド34がビアホール23から露出するように、第1基材21の一面21a上に、ビアホール23を有した第2基材22を形成する。次いで、熱プレスにより、金属箔25を所定形状に打ち抜いて第2導体パターン32を形成しつつ、第2導体パターン32の一部を第2基材22の一面22bに熱圧着させて第2配線35とし、第2導体パターン32の残りをビアホール23内に押し込み、押し込んだ一部をビアホール23の傾斜面23aに沿いつつ該傾斜面23aに熱圧着させて層間接続部36とし、押し込んだ残りの接続部37をランド34に電気的に接続する。 (もっと読む)


【課題】電極パッドの表面の突出部に起因する不具合が発生し難い半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、表面の突出部に突出部、例えば、プロービング痕21が存在する電極パッド2を備える基板1上に、電極パッド2の少なくとも一部を覆う第1の絶縁膜4を形成する第1の絶縁膜形成工程と、第1の絶縁膜4の表面から突起した部分22を除去することができる処理を行う除去処理工程と、除去処理工程後に、第1の絶縁膜4上及び電極パッド2上に第2の絶縁膜5を形成する第2の絶縁膜形成工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】パッドに外部接続端子等を接合したときの引っ張り強度を高めることができ、パッドが剥離するといった不良モードを大いに減らし、実装の信頼性向上に寄与すること。
【解決手段】配線基板40は、最外層の絶縁層12の表面からその表面が露出したパッド41Pを備える。パッド41Pは、OSP処理に基づいて形成されて、最外層の絶縁層12からその表面が露出した被膜51と、その被膜51と基板内部のビアとの間に設けられた金属層52とを有し、金属層52の側面及びビアとの接続面が粗面化されており、最外層の絶縁層12にパッド41Pの側面及びビアとの接続面が接しており、最外層の絶縁層12の裏面に金属層52が露出する開口部が形成されており、開口部内に金属層52と接続されたビアが設けられており、最外層の絶縁層12の裏面にビアを介してパッド41Pに接続される配線層13が設けられていることを含む。 (もっと読む)


【課題】コア用の配線導体の厚みが局所的に不足して配線導体の導通抵抗が大きくなったり断線したりする事を抑制する事で微細配線を有する配線基板を安定して得る製造方法を提供する。
【解決手段】表面に傷や打痕による凹み部11を有する状態で絶縁層1上に被着された導体層10の凹み部11のみをレジスト樹脂12で被覆する第1の工程と、凹み部11をレジスト樹脂12で被覆した状態で凹み部11以外の導体層10を凹み部11との段差が小さくなるようにエッチングして厚みを薄くする第2の工程と、レジスト樹脂12を除去した後、導体層10表面を機械的に研磨して平坦化する第3の工程と、導体層10を所定パターンにエッチングして配線導体4を形成する第4の工程とを行なう。 (もっと読む)


【課題】環境を考慮した安全な処理によって金属板に絶縁層が強固に密着された配線基板を製造することができる高品質な配線基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】板状の金属コアの表面及び裏面の少なくとも一方の面に、導電層を有する絶縁層が金属コア側と反対側に導電層を配置させて積層され、導電層からなる導体パターンを有する面が各種部品の実装面とされた配線基板の製造方法であって、金属コアの絶縁層が積層される面にウエットブラスト処理を施して粗面化する粗面化処理工程(ステップS2)と、粗面化処理工程と連続して、金属コアの粗面化した面に絶縁層を重ねてラミネート処理を行うことにより金属板に絶縁層を一体化させる絶縁層積層工程(ステップS3)と、を含む配線基板の製造方法とする。 (もっと読む)


【課題】研磨の際の樹脂基板や導電部への機械的ダメージを低減することができ、また、凹部の深さや開口面積が異なる場合であっても、均一な厚さの導電部を形成することが可能なプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のプリント配線板の製造方法は、樹脂基板と、前記樹脂基板の一面に設けられ、開口面積及び/又は深さの異なる複数の凹部と、前記凹部に導電体が充填されてなる導電部と、を有するプリント配線板の製造方法であって、前記樹脂基板の一面上に、前記凹部に導電体を充填させるとともに、該樹脂基板の表面高さよりも高くなるように導電体層を形成する工程Aと、前記樹脂基板の一面側及び他面側に対してそれぞれ機械的研磨を行う工程Bと、を少なくとも順に有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】非パターン形成部の絶縁性に優れ、微細かつ均一な幅又は厚みの導体パターンを形成できる方法を提供する。
【解決手段】基板上に導体パターンが形成されたパターン基板の製造プロセスを、(1)基板表面のうち、導体パターンの位置に対応するパターン部の上に導電性ペースト(A)を印刷する第1の印刷工程と、(2)形成された導電性ペースト(A)の凸部間に、導電性ペースト(A)よりも基板に対する密着性の低い焼結体を形成可能な導電性ペースト(B)を印刷する第2の印刷工程と、(3)第2の印刷工程を経た基板を焼結処理する焼結工程と、(4)導電性ペースト(A)及び導電性ペースト(B)の焼結体表面を平面化する平面化工程と、(5)基板表面のうち、パターン部を除く部分に対応する非パターン部の上に形成された導電性ペースト(B)の焼結体をエッチングするエッチング工程とで構成する。 (もっと読む)


【課題】回路基板と電子部品との接続位置精度を向上させる。
【解決手段】フレキシブル基板20に形成された電極2の表面を凹凸加工ツール4で加圧し、前記電極2の表面に凹凸部2aを形成すると同時に、穴あけ加工ツール5により位置決め穴6を形成する。電子部品9の電極8上に絶縁性接着剤7を塗布し、前記位置決め穴6を利用して前記フレキシブル回路基板20の前記電極2と前記電子部品9の前記電極8を位置合わせし、接続加工ツール10で加圧して前記電極2面上の凸部と前記電極8を接触させ、前記絶縁性接着剤7を硬化させることにより電気的に接続する。 (もっと読む)


【課題】メタライズパターンの端部に研磨屑を付着させることなく、適切にパターンを機械研磨でき、パターンの形状不良を抑制することが可能なメタライズド基板の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上にメタライズパターンを形成する、メタライズパターン形成工程と、メタライズパターンの少なくとも一部にコーティング層を形成する、コーティング層形成工程と、コーティング層とともにメタライズパターンの表面を機械研磨する、研磨工程とを備える、メタライズド基板の製造方法とする。 (もっと読む)


【課題】絶縁層と密着層との密着性を保ちつつ、電極層と銅配線層との接続を確保する。
【解決手段】インターポーザ100において、配線パターン111は銅から形成される。また、貫通電極114も銅から形成される。また、酸化膜115は、貫通電極114に隣接して配置される。そして、酸化膜115と配線パターン111とは、密着層であるチタン膜117を介して積層される。また、貫通電極114と配線パターン111とは、チタン膜117に隣接して形成された銅合金層119を介して積層される。 (もっと読む)


【課題】アウトグロースが発生しても、電気的な特性が安定し、さらに基板表面の平坦化を向上することができ、厚銅のパターンを形成する場合であってもこれに合わせた高さのレジストが不要となるプリント基板の製造方法及びこれを用いたプリント基板を提供する。
【解決手段】支持板上に金属層を形成し、金属層上にマスク層を形成し、マスク層高さまでめっきされた柄部7と、マスク層高さよりも高く盛り上げてめっきされ、一部がマスク層の表面にはみ出したアウトグロース8aを有する傘部8とを含むパターンめっき6を形成し、支持板、薄胴層及びパターンめっき6の三者からなる導電回路板に前記絶縁基材10を積層してパターンめっき6が前記絶縁基材10に埋設された基板中間体を形成し、前記支持板及び前記金属層を除去し、前記導電パターンの前記柄部7が除去されるまで機械的に研磨し、前記露出面上での前記導電パターンの線幅を増大させる。 (もっと読む)


【課題】電子部品とその製造方法において、従来よりも微細な導体パターンを形成すること。
【解決手段】導体箔4の上に樹脂層6を形成する工程と、一方の主面2xに凸パターン2wが形成された導体プレート2を樹脂層6に押し当て、樹脂層6に凸パターン2wを埋め込む工程と、導体プレート2、樹脂層6、及び導体箔4の各々に貫通孔6aを形成する工程と、貫通孔6a内に導体11を埋め込む工程と、導体箔4をパターニングすることにより、導体11と電気的に接続された第1の導体パターン4xを形成する工程と、樹脂層6が現れるまで導体プレート2の他方の主面2yに対して研磨、CMP、又は研削を行うことにより、導体11を介して第1の導体パターン4xと電気的に接続された第2の導体パターン2zを樹脂層6に形成する工程とを有する電子部品の製造方法による。 (もっと読む)


【課題】導体層と樹脂絶縁層とをそれぞれ少なくとも一層有し、前記樹脂絶縁層の表面と、前記樹脂絶縁層の開口部から露出した導体層表面とにより、最表層が形成されてなる配線基板において、前記樹脂絶縁層の表面を活性化して、封止樹脂層によるパッケージを良好に行うことができるようにする。
【解決手段】導体層と樹脂絶縁層とをそれぞれ少なくとも一層有し、前記樹脂絶縁層の表面と、前記樹脂絶縁層の開口部から露出した導体層表面とにより、最表層が形成されてなる配線基板の製造方法であって、前記樹脂絶縁層に対してレジスト塗布及び露光現像を施すことによって少なくとも1つの前記開口部を形成し、次いで、前記樹脂絶縁層に対してプラズマ処理及びウォータージェット処理を連続して実施し、次いで、無電解メッキによって、前記開口部内に前記導体層を形成する。 (もっと読む)


【課題】半導体素子接続パッドを形成する配線導体とソルダーレジスト層との間に半田が滲入して潜り込むことを有効に防止することが可能な配線基板およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】上面に配線導体2から成る複数の半導体素子接続パッド3および半導体素子接続パッド3の外周部を覆い、且つ半導体素子接続パッド3の中央部を露出させる開口部4aを有するソルダーレジスト層4を順次被着させるとともに、開口部4aから露出する半導体素子接続パッド3に半田バンプ5を溶着させて成る配線基板であって、配線導体2は、ソルダーレジスト層4で覆われた面が十点平均粗さRzで2.5〜4μmの粗化面であり、且つ開口部4aから露出する面を開口部4aの下端から1〜4μmの深さに漸次凹んだ凹面とした。 (もっと読む)


【課題】キャビティ内に複数の半導体素子を重ねて搭載するときに必要となる微細配線を備えた半導体素子搭載用パッケージ基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】導体回路50を備えるベース層6と、ベース層6に積層されるキャビティ層5と、キャビティ層5に設けられた開口25によって形成されるキャビティ部9とを有し、キャビティ部9の開口25からベース層6の導体回路50が露出する半導体素子搭載用パッケージ基板において、ベース層6が、キャビティ部9側の表面に粗面形状を有するベース材21と、ベース材21に設けられた層間接続孔51と、を有し、ベース層6の導体回路50が、下地めっきとして、ベース材21の粗面形状を有する表面及び層間接続孔51の内壁の両者に、直接かつ一体的に設けられた薄付け無電解銅めっきを有する半導体素子搭載用パッケージ基板1とその製造方法である。 (もっと読む)


【課題】 導電性ペーストを用いて容易に高精細な配線を形成することができる配線基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 基板上に導電性ペーストにより配線が形成された配線基板の製造方法であって、基板を準備する準備工程s1と、基板と導電性ペーストとの接着力よりも、基板との接着力、及び、導電性ペーストとの接着力が強いプライマ層を基板の表面上に形成する形成工程s2と、プライマ層が配線のパターンと同じパターンになるように、プライマ層の一部をレーザトリミングするトリミング工程s3と、プライマ層上に導電性ペーストを印刷する印刷工程s4と、基板上におけるプライマ層が形成されていない部分に印刷された導電性ペーストを除去する除去工程s5とを備える。 (もっと読む)


【課題】従来のプリント回路基板の製造方法は、工程が複雑であり、回路の絶縁層への埋め込みにおいてアラインメント問題が生じる恐れがあった。
【解決手段】本発明は、(a)シード層が形成された絶縁層上に回路パターンを形成するステップと、(b)回路パターンをプレス方式により絶縁層の内部に埋め込むステップと、(c)シード層を除去するステップと、を含んでなる。本発明によると、絶縁層上に回路パターンを直接形成することによりアラインメント問題を回避して微細回路を形成でき、突出した回路を絶縁層の内部に埋め込むことにより、形成された微細回路の信頼性を高めることができる。さらに、シード層を除去するエッチング工程において、回路パターンが絶縁層の表面より低く形成されるように、オーバーエッチングを行うことにより、隣接回路間のイオンの移動による回路の不良を低減することができるという効果が得られる。 (もっと読む)


1 - 20 / 92