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Fターム[5E346BB01]の内容

多層プリント配線板の製造 (97,916) | 配線パターンの形状、構造 (5,951) | 配線パターンが特定されたもの (3,046)

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【課題】 薄型で高密度な配線基板を効率よく製造することが可能な配線基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】 主面に開口する複数の孔1aを有する支持基板1の前記主面上に接着剤層2を被着する工程と、前記接着剤層2上に導体層11〜15と絶縁層21〜25とを交互に複数積層して前記導体層11〜15と前記絶縁層21〜25とから成る配線基板用の積層体10を形成する工程と、前記接着剤層2と前記積層体10の間に前記孔1aを通してガスを注入し、該ガスの圧力により前記積層体10を前記接着剤層2から剥離する工程とを含むことを特徴とする配線基板20の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】 平面コイル導体で発生した熱に起因して搭載されるICが誤動作することなく、平面コイル導体に大電流を流すことができるコイル内蔵基板を提供すること。
【解決手段】 配線層6が形成された一対の絶縁層1・1と、一対の絶縁層1・1に挟持されたフェライト磁性体層2と、フェライト磁性体層2内に形成された平面コイル導体3とを具備するコイル内蔵基板であって、フェライト磁性体層2に、平面視で平面コイル導体3と重なるとともに基板の側面に引き出された伝熱用導体層4が形成され、基板の側面に伝熱用導体層4が接続された放熱用導体層5が形成されているコイル内蔵基板である。平面コイル導体3において発生した熱を伝熱用導体層4を介して放熱用導体層5から外部へ放熱することができる。その結果、搭載したICなどの電子部品が平面コイル導体3から発生する熱によって誤動作してしまうことを防止することができる。 (もっと読む)


【課題】液冷された金属板をコア基板とし、コア基板の両面に設けられた配線基板間を接続するビアを有する回路基板を提供する。
【解決手段】コア基板21の流路21a間に設けられた隔壁11bに貫通孔18を形成し、その貫通孔18を埋め込む絶縁物16中にビア14を形成する。あるいは、コア基板をベーパーチャンバで構成し、コア基板を貫通する貫通孔を嵌合する金属管で密封し、その金属管内を埋める絶縁物中にビアを形成する。ビア14を金属製のコア基板21と絶縁して、コア基板21の面内のほぼ任意の位置に形成することができる。 (もっと読む)


【課題】電子部品実装後にはんだ接合部の断線が発生しにくい多層配線板及びはんだ接合部の断線が発生しにくい半導体装置パッケージを提供する。
【解決手段】本発明の多層配線板1は、銅を含有して形成された導体層3が2層もしくはそれ以上、絶縁基板2と交互に積層されて、上面に電子部品が実装される多層配線板であって、少なくとも1つの導体層3の一部に、該導体層3の他の部分よりも剛性が低い柔軟部7が形成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】光ピックアップに好適な印刷回路基板およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】非導電性の作動基板媒体(601)であって、作動基板(601)上に配置された、第1の磁場を生成するための少なくとも2つのスパイラルコイル(611、612)を有しており、第1の磁場は、第2の磁場と相互作用することによって、移動可能コンポーネント(1)を移動させ、第1および第2のスパイラルコイル(611、612)は、作動基板の第1の表面(602)上に固定されて、互いに交互配置されており、第1および第2のスパイラルコイルは、第1の表面上の第1の点のまわりに配置されており、第1および第2の電流信号が、それぞれ第1および第2のスパイラルコイルに導かれたときに、移動可能コンポーネントは、作動基板の第1の表面と実質的に同一の表面上の方向に移動する、非導電性の作動基板。 (もっと読む)


【課題】配線パターンのランドとビアとを確実に接続することができるフレキシブル基板を提供する。
【解決手段】可撓性を有する基材10と、基材10の上面16と下面18とを電気的に接続するビア20と、ビア20の上に形成されたランド30とを備え、各ランド30は、基材10の横方向(TD方向)の長さよりも当該基材10の縦方向(MD方向)の長さの方が長い形状を有している、フレキシブル基板100である。更に基材の上面及び下面には樹脂層が形成されており、各ランドは前記樹脂層に埋め込まれている。また各ランドと接続するビアは導電性ペーストが充填されて形成されたペーストビアである。 (もっと読む)


【課題】補強用の接続部を新たに設けることなく、曲げ方向、捻り方向及び引張方向の負荷に対しての強度を十分に保つことができる実装構造を提供すること。
【解決手段】プリント配線基板101上のFPC接続用電極パッド105とプリント配線基板102上のFPC接続用電極パッド106との間にフレキシブル配線基板103を挟み込んで実装することにより、接合強度を確保する。 (もっと読む)


【課題】板厚の均一な積層板を得ることができる積層板の製造方法を提供する。
【解決手段】プリプレグ1、1…を複数枚重ねた積層体2あるいはプリプレグ1、1…と回路板3と重ねた積層体2を成形プレート4、4に挟んで被圧体5とする。この被圧体5を熱盤6、6間に挿入する。加熱、及び加圧する。上記成形プレート4、4の周端部4a、4a間に支持体7を挿入して成形する。成形プレート4の周端部4aが垂れ下がるのを防止することができると共に積層体2の周端部にかかる圧力を軽減することができる。 (もっと読む)


【課題】配線基板最表層の樹脂層に高精度でパッドを露出することができる配線基板の製造方法と、その方法により製造され、高精度で露出したパッドを有する配線基板を提供すること。
【解決手段】一部の厚みが他の部分より大きい配線を含む最上層配線層4を覆う絶縁樹脂層を形成し、そしてこの絶縁樹脂層の一部を、最上層配線増の厚みの大きい部分6の上部を露出するまで除去してパッドを形成することを特徴とする方法により、配線基板を製造する。あるいは、最上層配線層全体を覆う絶縁樹脂層上に形成した、最上層配線層のパッドとして露出させるべき部分より広い開口部を持つサンドブラスト用マスクを使用するサンドブラスト処理により、最上層配線層の一部をパッドとして露出させる方法により配線基板を製造する。この場合、最上層配線層のさせるべき部分だけを他の部分より厚く形成してもよく、あるいは最上層配線層全体を同一の厚みで形成してもよい。 (もっと読む)


【課題】製造工程の煩雑さを低減できるとともに、対向する配線板の配線パターン間の電気接続の位置の自由度を向上できる電子部品内蔵基板およびその製造方法を提供することにある。
【解決手段】電子部品内蔵基板は、厚み方向の一面に配線パターン10,20が形成された配線板1,2が、それぞれの配線パターン10,20の接続部10a,20a同士が重なるように厚み方向で対向させた状態に配置され、配線板1,2間に内蔵される能動素子50が第2の配線板2に受動素子51が第1の配線板1にそれぞれ実装され、配線板1,2間には絶縁性樹脂からなり能動素子50および受動素子51の両方を覆う絶縁部6が介在されてなり、配線板1,2間には、配線板1,2間の距離を能動素子50および受動素子の両方の実装高さ寸法より大きく設定した規定距離に保つとともに接続部10a,20a同士を電気的に接続する金属ボール7が介在されている。 (もっと読む)


【課題】異種材料を最小限に使用して電子素子を内蔵することにより、印刷回路基板の反りを防止できる電子素子内蔵型印刷回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のよる電子素子内蔵型印刷回路基板の製造方法は、(a)表面に回路パターンが形成されたコア基板に貫通ホールを穿孔する段階と、(b)コア基板の一側にテープを付着し、電子素子を、貫通ホールのテープが露出された部分に付着する段階と、(c)貫通ホールと電子素子との間の空隙の一部に接着剤を充填して電子素子を固定する段階と、(d)テープを除去する段階と、及び(e)コア基板の両側に絶縁剤を一括に積層して貫通ホールと電子素子との間の空隙のその他の部分を絶縁剤の一部で充填する段階とを含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ロウ付け用パッドの大きさなどに拘わらずロウ材を所定の位置に確実に配設でき、且つ従来のセッティング工程が省略できる多数個取りセラミック基板およびセラミック配線基板ならびにその製造方法を提供する。
【解決手段】ロウ付け用パッド14よびそれ以外のパッド15,16を備える複数のセラミック配線基板10nと、かかる複数のセラミック配線基板10nが縦横に隣接する基板領域aの外側に位置する耳部mに形成される第1外部電極5および第2外部電極6と、上記ロウ付け用パッド14と第1外部電極5とを接続する第1メッキ配線(7,17)と、上記ロウ付け用パッド以外のパッド15,16と第2外部電極6とを接続する第2メッキ配線(8,18,19)と、を含む、多数個取りセラミック基板1。 (もっと読む)


【課題】従来の限界を超えて配線を微細化した半導体パッケージおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】樹脂から成る絶縁層16と導体めっき層から成る配線層18とを積層したビルドアップ配線構造20、導体張り付け樹脂テープ32上の張り付け導体箔34’のパターニングにより形成され上記ビルドアップ配線構造20の配線18よりも微細な配線層34を含む微細配線構造30、および熱可塑性樹脂から成り、上記のビルドアップ配線構造20と微細配線構造30との間に介在してこれらを接合する接合層25を含む半導体パッケージ100。その製造は、任意の方法でビルドアップ配線構造20を作製し、別個に、サブトラクティブ法により微細配線構造30を作製し、両構造20、30を接合層25で接合することによって行なう。 (もっと読む)


【課題】無収縮プロセスによる多層セラミック集合基板で、分割溝下端部への液体の染み込みが少なく、信頼性に優れた多層セラミック集合基板他を提供する。
【解決手段】セラミックを含む低温焼結材からなる基板用グリーンシートを積層した未焼結多層セラミック体の両面又は片面に縦横方向の分割溝を形成し、前記未焼結多層セラミック体の焼結温度では焼結しない無機粒子を主成分とする拘束層を前記未焼結多層セラミック体の両面又は片面に密着するように設けて積層体となし、当該積層体を未焼結多層セラミック体の焼結する温度で焼結した後、前記拘束層を除去してなる多層セラミック集合基板であって、少なくとも一つの分割溝の下方に、分割溝の下方への広がりを抑える抑止領域を設けてなる多層セラミック集合基板である。 (もっと読む)


【課題】多層基板側壁面にシールドを形成し側壁面から放射されるノイズも遮断する、シールドケースが不要なシールド構造基板を提供する。
【解決手段】多層基板の側壁面を金属シールドし、部品実装面に多層基板とこれを搭載する基板とを接続する接続端子を形成するシールド構造基板である。 (もっと読む)


【課題】無収縮焼成技術で作製される多層セラミックス基板において、焼結金属導体のセラミックス基板層に対する接着強度を十分に確保するとともに、めっき不良の発生を抑える。
【解決手段】複数のセラミックス基板層2a〜2dが積層された積層体の表面に焼結金属導体(表面導体5)を有する。焼結金属導体として形成される表面導体5は、所定のパターンでセラミックス基板層2a,2d上に直接接して形成されており、且つセラミックス基板層2a,2dと接する側のガラス濃度が表面側のガラス濃度よりも大である。表面導体5の形成に際しては、セラミックスグリーンシート11a,11d上に所定のパターンを有する導電ペースト層を少なくとも2層形成し、これら導電ペースト層のうち最下層の導電ペースト層に含まれるガラス含有量を最上層の導電ペースト層に含まれるガラス含有量よりも大とする。 (もっと読む)


【課題】ホール充填用に適した粘度を有し、ポットライフの長い導電性ペーストであって、これを用いて多層基板を形成した際に、耐湿性、ヒートサイクル性、熱衝撃性が高く、良好な導電性が長期間維持される導電性ペースト、及びこれを用いた長期信頼性に優れた多層基板を提供する。
【解決手段】(A)エポキシ当量が200〜600の範囲内であり、かつ加水分解性塩素濃度が200ppm未満であるエポキシ樹脂20重量部以上とこのエポキシ樹脂以外の樹脂80重量部未満とからなり、全加水分解性塩素濃度が1000ppm未満である樹脂成分100重量部に対し、(B)融点180℃以下の低融点金属少なくとも1種と融点800℃以上の高融点金属少なくとも1種とを含む、2種以上の金属からなる金属粉200〜1800重量部、(C)硬化剤3〜20重量部、及び(D)フラックス3〜15重量部を含有してなるものとする。 (もっと読む)


【課題】多層セラミック基板を製造するにあたり、無収縮プロセスを用いて焼成するのに適した誘電体セラミック原料組成物を提供する。
【解決手段】100重量部の(Ca1−xSr)WO系セラミック(0≦x≦1.0)と、LiをLiO換算で3〜10重量%、MgをMgO換算で31〜49重量%、ZnをZnO換算で6〜10重量%、BをB換算で17〜29重量%、およびSiをSiO換算で18〜34重量%含有する、25〜70重量部のホウケイ酸ガラスとを含み、CaWO結晶相、SrWO結晶相および(Ca,Sr)WO結晶相の少なくとも1種ならびにLi(Mg,Zn)SiO結晶相が析出している、誘電体セラミック原料組成物。この誘電体セラミック原料組成物は、無収縮プロセスによって焼成される複合積層構造物21において、基板用セラミックグリーンシート25の材料として好適に用いられる。 (もっと読む)


【課題】コア層のスルーホールとビルドアップ層のビアの各々の金属層を接触させることで放熱性の高いビルドアップ配線板を提供する。
【解決手段】絶縁層1にビア2が形成されこれらのビア2内に層間接続するための導電性ペースト3が充填されたコア基板4と、このコア基板4の少なくとも一方の面に形成され層間接続するためのビア8が形成されたビルドアップ層5とを有するビルドアップ配線板であって、前記コア基板4の各絶縁層1には導電性ペースト3によって層間接続されるためのビア2が形成されるとともにコア基板4の全層を貫通するスルーホール6が形成され、前記ビルドアップ層5に形成されたビア8と前記スルーホール6とが、各々に形成された金属層7,9を介して接触している構造であることを特徴とするビルドアップ配線板である。
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【課題】ビルドアップ層に形成するビア底部の直径をほぼ均一に形成することで信頼性の高いビルドアップ配線板を提供する。
【解決手段】絶縁層にビア12が形成されこれらのビア12内に層間接続するための導電性ペースト13が充填されたコア基板11と、このコア基板11の少なくとも一方の面に形成され層間接続するためのビア15が形成されたビルドアップ層14とを有するビルドアップ配線板であって、前記ビルドアップ層14に形成されたビア15の底部の直径が、各々がほぼ均一に形成されたことを特徴とするビルドアップ配線板である。
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