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Fターム[5E346FF45]の内容

多層プリント配線板の製造 (97,916) | 導体層間接続の方法 (9,115) | 部品の実装によるもの (1,788)

Fターム[5E346FF45]に分類される特許

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【課題】信号の干渉を抑制し、かつ薄型化及び所望の特性インピーダンスを得ることが可能な多層基板を提供すること。
【解決手段】本発明は、複数の絶縁層と複数の導体層とを積層した多層基板であって、複数の導体層のうち最も厚く、接地配線として機能するコア10と、複数の導体層に含まれ、絶縁層20を介してコア10に隣接する、高周波信号を流すための信号配線14aと、を具備し、コア10の信号配線14aと対向する領域に、凹部10aが設けられている多層基板である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、電気的信頼性を向上させる要求に応える配線基板およびその実装構造体を提供するものである。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る配線基板4は、ランド15と、ランド15上に形成された樹脂層10と、該樹脂層10を厚み方向に貫通してランド15の一部を露出するビア孔Vと、該ビア孔V内に形成されたビア導体12とを備え、ランド15は、導体膜18と、該導体膜18におけるビア導体12側の一主面に形成された被覆膜19とを有し、ビア導体12は、ビア孔Vの内壁およびビア孔Vに露出したランド15の一部に被着した下地膜17と、該下地膜17上に形成された導体部20とを有し、導体膜18および導体部20は、被覆膜19および下地膜17よりも導電率が高く、被覆膜19は、導体膜18よりもヤング率が大きく、且つ、下地膜17よりも厚みが大きい。 (もっと読む)


【課題】インダクタンスを低減すると共に、有効電極面積の減少を抑えて小型化することが可能な薄膜キャパシタ、多層配線基板、および半導体装置を提供する。
【解決手段】誘電体層の上面に第1極性の電極層、前記誘電体層の下面に第2極性の電極層を有し、特定位置の周りに配置された複数の第1容量素子と、前記誘電体層の上面に前記第2極性の電極層、前記誘電体層の下面に前記第1極性の電極層を有し、前記特定位置の周りに前記複数の第1容量素子と交互に配置された複数の第2容量素子と、前記特定位置に設けられ、前記複数の第1容量素子のすべての第1極性の電極層および前記複数の第2容量素子のすべての第1極性の電極層を接続する単一の共通接続孔と、前記共通接続孔の周りに設けられ、前記複数の第1容量素子の各々の第2極性の電極層を、隣接する前記第2容量素子の第2極性の電極層に接続する複数の個別接続孔とを備えた薄膜キャパシタ。 (もっと読む)


【課題】配線板の層数が少ない場合でも、インダクタの性能を確保できる配線板及び配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】配線板10は、第1面Fと第2面Sとを有する基材20と、基材20を貫通する第1スルーホール導体30A,30C,30E及び第2スルーホール導体30B,30D,30Fと、基材20の第1面F側に形成され、第1スルーホール導体30A,30C,30Eと第2スルーホール導体30B,30D,30Fを接続する第1導体パターン33B,33Cと、基材20の第2面S側に形成され、第1スルーホール導体30A,30C,30Eと第2スルーホール導体30B,30D,30Fを接続する第2導体パターン34A,34B,34Cとを備え、これらの第1スルーホール導体及び第2スルーホール導体、第1導体パターン、第2導体パターンは、インダクタLを構成する。 (もっと読む)


【課題】基板の厚み内部に部品が存在するため、板広がりの方向への自由なパターン形成が制限されている内層配線層があることを前提として、この内層配線層を除いた各配線層が、回路形成の上で十分に活かせるように配置されている電子モジュールを提供する。
【解決手段】部品が実装された内層配線層22、23、24、25、26を含めて内層配線層から、表面実装部品を有する側の外層配線層21、27を含めてこの外層配線層までの間に存在する、非完全な内層配線層を除いた配線層の数が、部品が実装された内層配線層を含めず内層配線層から、外部接続端子部を有する側の外層配線層を含めてこの外層配線層までの間に存在する、非完全な内層配線層を除いた配線層の数より多い。 (もっと読む)


【課題】内部の部品の配置密度をさらに向上できる部品内蔵基板を提供すること。
【解決手段】第1の面と該第1の面に対向する第2の面とを有する板状絶縁層と、棒状の形状を有して該棒状の形状の少なくとも両端面がそれぞれ電極面とされた構造を備え、両端面のうちの一方の端面が第1の面に対向しかつ両端面のうちの他方の端面が第2の面に対向するように、板状絶縁層の厚み方向の内部に配置された部品と、板状絶縁層の第1の面上に設けられた第1の配線パターンと、第1の配線パターンと部品の一方の端面の側の電極面とを電気的に接続する第1の接続部材と、板状絶縁層の第2の面上に設けられた第2の配線パターンと、板状絶縁層の厚み方向の一部を貫通して、第2の配線パターンと部品の他方の端面の側の電極面とを電気的に接続する第2の接続部材とを具備する。 (もっと読む)


【課題】信頼性の高い部品埋め込み構造を有した部品内蔵配線板を提供すること。
【解決手段】一定の名目粒径が規定されている無機材料フィラーを含有する板状絶縁層と、
板状絶縁層の板広がり方向に一致した層として形成されている配線パターンと、端子を有し、該端子のいずれか一面が配線パターンの面と対向するような姿勢で、板状絶縁層の厚み内部に該板状絶縁層に密着して埋め込まれた部品と、部品の端子の一面と配線パターンの面との間を電気的、機械的に接続するように設けられた、高融点金属の粒子の種部と、該種部を覆った、高融点金属とすずとの複数元素系相部とを含有した融点上昇型のはんだで形成された部材である接続部材と、を具備し、接続部材が、部品と配線パターンとの離間距離を、板状絶縁層の無機材料フィラーの名目粒径より小さくするような厚みで、かつ、部品の端子の一面と配線パターンの面との間からはみ出さない形状で形成されている。 (もっと読む)


【課題】 EBG構造を大型化することなくインダクタンス成分を増加させることで、バンドギャップ幅の広帯域化を実現したEBG構造及びプリント基板を提供する。
【解決手段】 導体プレーンと、導体プレーン上に設けられた誘電体層と、誘電体層上の複数の導体パッチと、導体パッチの隣り合う2つの導体パッチを電気的に接続する接続部とを有するEBG構造であって、接続部は、一方の導体パッチと接続される第1ビアと、他方の導体パッチと接続される第2ビアと、第1ビアと第2ビアを接続する接続配線とからなり、接続配線は、第1ビアと第2ビアとの間においてヘリカルインダクタまたはスパイラルインダクタを構成していることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ガラス板を含む基板本体の両面に形成された配線層同士を容易に導通可能な配線基板、前記配線基板と電気的に接続された半導体チップを有する半導体装置、及び前記半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本半導体装置は、配線基板と、前記配線基板と電気的に接続された半導体チップと、を備え、前記配線基板は、一方の面から他方の面に貫通する開口部を有するガラス板と、前記開口部内に形成された樹脂部と、前記樹脂部を前記一方の面側から前記他方の面側に貫通し、前記一方の面側に形成された配線層と前記他方の面側に形成された配線層とを電気的に接続する貫通配線と、を有する。 (もっと読む)


【課題】電子部品が搭載されるランドを有する配線基板において、ランドの微細化に適した構成を実現する。
【解決手段】内部に内部配線11を有する基材12と、基材12の一面13に設けられ、電子部品30と接続される導電性のランド14とを備える配線基板10において、基材12の一面13上には、ランド14よりも面積の大きい表面配線層15が設けられており、この表面配線層15上にランド14が直接積層されており、表面配線層15は、ランド14の直下より外れた部位にて内部配線11と電気的に接続されることにより、ランド14は、表面配線層15を介して内部配線11と電気的に接続されており、基材12の一面13上には、電気絶縁性の樹脂層20が設けられており、ランド14の上面14aが樹脂層20より露出した状態でランド14および表面配線層15は樹脂層20に封止されている。 (もっと読む)


【課題】内蔵の電気/電子部品周りに樹脂が満たされており、かつ、機械的、電気的な信頼性を向上できる部品内蔵配線板の製造方法およびその部品内蔵配線板を提供すること。
【解決手段】第1の絶縁層上に設けられた配線パターン上に電気/電子部品を電気的、機械的に接続し、第2の絶縁層を介して第1の絶縁層上に積層されるべき、補強材を含有した第3の絶縁層の電気/電子部品に対応する位置に開口を形成し、この第3の絶縁層上に第2の絶縁層とすべき、補強材を含有したプリプレグを積層し、この積層後の配線板素材が有するプリプレグの、第3の絶縁層の開口に重なる位置の補強材に切れ目を形成し、第1の絶縁層の配線パターンが存在する側の面上に、電気/電子部品に対応して開口および切れ目が位置するように配線板素材を、プリプレグの側を第1の絶縁層に対向させて配置し、さらに配線板素材の第3の絶縁層上に第4の絶縁層を配置し、積層、一体化する。 (もっと読む)


【課題】クラックの発生を抑制してパッドの密着強度を高め、製品としての信頼性の向上を図り、ひいてはマザーボード等との接続信頼性の向上に寄与すること。
【解決手段】配線基板10は、パッド11Pと、パッド11Pを覆い、その表面からパッド11Pの表面が露出し、その裏面にパッド11Pの裏面が露出する開口部VH1が設けられた最外層の絶縁層12と、開口部VH1内に形成されたビアと、絶縁層12の裏面に形成され、ビア13に接続された配線層13とを備え、パッド11Pは絶縁層12に埋設されて、パッド11Pの側面及び裏面が絶縁層12に接している。このパッド11Pは、第1の金属層21と、第1の金属層21上に設けられた第2の金属層22と、第2の金属層22上に設けられ、ビア13に接続された第3の金属層23とを有し、第2の金属層22の周縁部がパッド11Pの周縁部から内側に後退している。 (もっと読む)


【課題】放熱性が良好で、かつ小型で薄型のパッケージ構造およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板110の開口116に、電子デバイス120が配置され、接着剤層130上のパターン化金属層140が基板110の下表面113上にラミネートされるとともに、電子デバイス120の底表面124を露出させる。露出された底表面124上に散熱コラム150が形成され、第1ラミネート構造160が基板110の上表面111および電子デバイス120の頂表面122を被覆し、第2ラミネート構造170が散熱コラム150ならびにパターン化金属層140を被覆する。 (もっと読む)


【課題】プリント配線板の絶縁基板の耐熱温度よりも高い融点を有し、電子部品のはんだ付け温度に耐えることが可能な金属間化合物からなる導体回路用の回路基板の製造方法の提供を提供すること。
【解決手段】基板のビアホール内に、第1の金属からなる複数の粒子と、前記第1の金属の融点より低い融点を有する第2の金属からなる複数の粒子とを含む導電性ペーストを供給し、前記基板を加熱して、前記第1の金属と前記第2の金属との金属間化合物内に前記複数の粒子が分散した導体を形成する回路基板の製造方法であって、前記基板にはんだを使用して電子部品を搭載可能であり、前記金属間化合物の融点が前記はんだの溶融温度よりも高いことを特徴とする回路基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 電子部品を内蔵し薄型で接続信頼性の高いプリント配線板を提供する。
【解決手段】 第1樹脂絶縁層50にICチップ90が内蔵され、第1樹脂絶縁層50上に第2樹脂絶縁層60が形成されている。第1樹脂絶縁層50と第2樹脂絶縁層60との界面に第3導体層68よりも厚い第2導体層58が配置されている。第2導体層58は、第1樹脂絶縁層50の第1面と第2樹脂絶縁層60の第2面で挟まれている。そのため、反りが低減し、接続信頼性を高くすることができる。 (もっと読む)


【課題】多層プリント回路基板構造およびそれに関連する製造方法を提供するものであり、比較的に安いコストおよび高い機能的信頼性でもって、1つかまたはそれ以上の電気部品を多層構造の内部に組み込むのを可能にする。
【解決手段】電気絶縁性層7、9及び導電路構造10、11からなる積層スタックと、前記積層スタックの内部に存在し、該積層スタックの表面の広がりのうちの部分領域においてのみ横方向に広がっており、少なくとも1つの受動的又は能動的な電気部品2と、関連の再配線4、5とが取り付けられているインサート1とを備える多層プリント回路基板構造であって、前記インサート1が、該インサートの両面をカバーする2つの全領域に及ぶ電気絶縁性の液体レジン層又はプリプレグ層7、9の間に埋め込まれており、該インサートの前面が、当該構造の圧縮または積層時に液化するレジン材料によってすき間なく囲まれている多層プリント回路基板構造。 (もっと読む)


【課題】従来のようにICチップやその周りの配線を覆う接地電極パターンを新たに形成することなく、他の電子回路部品の誤動作や特性劣化などを引き起こすようなICチップからの輻射ノイズを抑制することが可能な多層回路モジュールを提供する。
【解決手段】複数の誘電体層を積層してなるコア基板6と、コア基板に少なくとも一部が埋設されるような態様で搭載されたICチップ4と、磁性体基板を素体としてその内部にコイル素子L1,L2が形成されてなるインダクタ基板31とを備え、インダクタ基板31が、平面視したときに、ICチップを覆うような態様でコア基板の表面に搭載された構成とする。
ICチップとインダクタ基板とを電気的に接続する配線が、平面視したときに、インダクタ基板の投影範囲内に収まるように引き回された構成とする。
ICチップがコア基板の内部に埋設された構成とする。 (もっと読む)


【課題】配線基板と電気絶縁層を積層して一体化した多層配線基板において、電気絶縁層に形成されたビアと、配線基板に形成されたビアランド間の接続信頼性を向上させる。
【解決手段】貫通するビアホールに導電性ペーストが充填されて形成されたビア202を有する電気絶縁層201の表裏の、ビアに対応する位置に、ビアの、電気絶縁層の面方向の断面積より大きいビアランド207が形成された多層配線基板251、252が積層して一体化され、少なくとも一方の多層配線基板には、電気絶縁層に埋め込まれた電子部品が実装されている。ビアとビアランドとの間には、一部隙間205が形成されており、ビアと接触するビアランドの接触面積は、ビアの断面積の20%以上75%以下である。 (もっと読む)


【課題】コア基板のキャビティ加工方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るコア基板のキャビティ加工方法は、コア基板の一面に回路パターンにより区画される第1加工領域を形成する工程と、コア基板の他面に回路パターンにより区画される第2加工領域を形成する工程と、コア基板の一面から第1加工領域を全て除去してキャビティを加工する工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】電子回路モジュール製造工程の歩留まり向上する事ができる基板を提供する。
【解決手段】基板部2と、基板部2の表面に形成された凹部5と、を有する基板1において、基板部2の表面上に、基板部2の表面から凹部5に向かって形成された突起部10を設けたこと、を特徴とする基板1としたので、電子回路モジュールの製造工程のおける凹部5への樹脂の充填工程後に、樹脂部の樹脂が凹5部内部から外部へ漏れ出すことを防止することができ、電子部品と基板との電気的接続不良を防止することができるので、その基板1を用いた電子回路モジュールの製造工程の歩留まり向上する事ができる。 (もっと読む)


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