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Fターム[5E346HH25]の内容

多層プリント配線板の製造 (97,916) | 目的、課題、効果 (10,213) | 製品性能に関するもの (1,703) | 高配線収容性 (392)

Fターム[5E346HH25]に分類される特許

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【課題】電子部品の外部基板への更なる高密度実装が可能であり、また、端子電極の高さを任意にかつ所望に調整でき、これにより、電子部品の検査時における従来の不都合を解消できるとともに、電子部品の実装における歩留まりを改善して生産性をも高めることが可能な電子部品及びその製造方法を提供する。
【解決手段】電子部品の1つであるコンデンサ1は、基板2上に形成される第1の上部電極5aと、その第1の上部電極5aに隣接して形成された第1の台座10及び第2の台座11と、第1の上部電極5a並びに第1の台座10及び第2の台座11を覆う保護層6,8と、それらを貫通するビア導体Va,Vcを介して第1の上部電極5aと接続され、かつ、第1の台座10及び第2の台座11上に形成された端子電極9aとを備える。 (もっと読む)


【課題】電子部品の実装に用いる多層配線板の製造には、従来、B2itなどの導電性バンプを用いて層間の接続を行う多層配線技術が使用されていた。しかし、基板のそりにより、多層配線間の短絡が発生する、あるいは、導電性バンプと配線間の接続不良が発生するという問題があった。
【解決手段】絶縁性フィラーを含む絶縁性ワニスをコーティングし、絶縁性被膜を形成することにした。基板にそりがある場合でも、多層配線間の絶縁性が保持でき、配線接続の安定性が高くなり、製造歩留まりが向上する。 (もっと読む)


【課題】回路層の分離を最小化するとともにリードタイムを減らし、製造コストを節減することができるプリント基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁部材120の一面に含浸された回路パターン、絶縁部材120の一面に積層されたビルドアップ絶縁層142に回路パターンと連結されるビアを含む回路層144が形成されたビルドアップ層、及びビルドアップ層に積層されたソルダレジスト層150を含んでなる。 (もっと読む)


【課題】 半導体素子と基板との接続信頼性が高く、高密度実装化が可能な半導体装置及びその製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 本半導体装置10は、一方の面13aから他方の面13bに貫通する複数の導体12を有する基板13と、前記基板13の前記一方の面13aに形成された、半導体素子14を内蔵する第1絶縁層16aと、前記第1絶縁層16a上に形成され、かつ、前記第1絶縁層16aに設けられた貫通孔16x,16yを介して前記基板13の前記一方の面13aから露出する複数の導体12の一部及び前記半導体素子14と電気的に接続された第1配線層17aと、前記基板13の前記他方の面13bに形成された第2絶縁層16bと、前記第2絶縁層16b上に形成され、かつ、前記第2絶縁層16bに設けられた貫通孔16zを介して前記基板13の前記他方の面13bから露出する前記複数の導体12の一部と電気的に接続された第2配線層17bと、を有することを要件とする。 (もっと読む)


【課題】外層に形成される第2抵抗体を小さい面積(狭い面積)で形成することにより、抵抗内蔵型多層配線板の小型化を図る。
【解決手段】多層配線板は複数の絶縁層が積層されたもので、内層として提供される第1層10及び外層として提供される第2層20を含む本体部と、第1層10に形成される第1抵抗体11と、第2層20に形成される第2抵抗体21を含み、第2抵抗体21は第1抵抗体11と並列連結され、第1抵抗体10より狭い面積を有する。 (もっと読む)


【課題】従来の多層基板では、層間絶縁された配線間に設けられた絶縁性硬質基板にレーザーを形成して、この孔を層間接続用のビアとしていたため、孔の側面に発生したクラック等の影響で、複数のビアを近づけることが難しく、多層基板の小型化、ファインパターン化に限界があった。
【解決手段】芯材19と、この芯材19に含浸された第1の樹脂20と、からなる絶縁層13と、この絶縁層13に形成された複数個の孔に充填された導電ペースト23と、この導電ペースト23で層間接続された配線14と、からなる多層基板であって、前記孔は、半硬化状態の前記第1の樹脂20を含む前記絶縁層13が、犠牲層上で保持され、レーザー照射されて形成されたものである多層基板とすることで、ビアの狭隣接化を実現し、多層基板の小型化、ファインパターン化を行なう。 (もっと読む)


【課題】集積回路の接続用端子の狭ピッチ化等に対応させて配線パターンを高密度化することができると共に層間の配線パターンの接続信頼性を高めることができる多層配線基板を提供する。
【解決手段】本発明の多層配線基板10は、複数のセラミック層11Aを積層してなる積層体11と、積層体11内に設けられた配線パターン12と、を備え、セラミック層11Aには、配線パターン12として、セラミック層11Aを上下に貫通する貫通ビアホール導体17と、貫通ビアホール導体17に同一セラミック層11A内で電気的に接続され、このセラミック層11Aを貫通しない半貫通連続ビアホール導体17Aと、を有し、半貫通連続ビアホール導体17Aの幅が貫通ビアホール導体17の幅より狭く形成されている。 (もっと読む)


【課題】高密度のワイヤーボンディングパッドの実現が可能なプリント基板及び半導体装置の構造とその製造方法を提供する。
【解決手段】電気絶縁物質からなる絶縁層110と、絶縁層110の一面に埋め込まれ、バンプパッド131及びワイヤーボンディングパッド133を含む第1回路層130と、絶縁層110の他面に形成された第2回路層150と、絶縁層110を貫通するワイヤー連結用スロット900とを含んでなるものである。 (もっと読む)


【課題】高密度化・小型化と併せて雑音を低減できる構造を有した多層基板を得ること。
【解決手段】誘電体層で分離された複数層の導体それぞれに形成される複数の回路パターン1における1つまたは2以上の回路パターンのうち、一部の層における回路パターン或いは全部の層における回路パターンを取り囲む磁性体4を設けた。これによって、雑音低減用部品の取り付けや基板の層数を増やすことなく、或る回路パターンから放射される雑音が他の回路パターンに混入するのを低減できる。したがって、高密度化・小型化と併せて雑音を低減できる構造を有した多層基板を実現できる。 (もっと読む)


多層ポリマー構造内に多層チップを、多層チップ上にオンチップ金属バンプを、多層ポリマー構造内にチップ内金属バンプを、多層ポリマー構造内にパターン形成金属層を含むことができるシステムインパッケージまたはマルチチップモジュールについて説明されている。多層ポリマー構造内の多層チップは、互いに接続されるか、または外部回路に、オンチップ金属バンプ、チップ内金属バンプ、およびパターン形成金属層を通して接続することができる。システムインパッケージは、ハンダバンプ、金属バンプ、またはワイヤボンディング接合ワイヤを通して外部回路に接続されうる。 (もっと読む)


【課題】回路パターンが形成された基板の薄型化と平坦化とを同時に実現しつつ、高密度微細化パターンの形成を可能にし、層間接続の信頼性の向上を図ることができる両面又は多層プリント基板の製造方法を提供する。
【解決手段】支持部材(4B)に導電層(4A)を積層して板状体を準備し、第1板状体(4)に形成された第1導体回路(2a)及びバンプ(3a)と第2板状体(4)に形成された第2導体回路(2b)とを、半硬化状態の絶縁基材(1)を介在させた状態で所要位置に対向して位置させ、加熱及び加圧して、絶縁基材(1)の第1面(1a)側に第1導体回路(2a)を、絶縁基材の第2面(1b)側に第2導体回路(2b)をそれぞれ埋め込ませると共に、絶縁基材(1)を貫通させたバンプ(3a)により第1導電回路(2a)と第2導電回路(2b)の層間を電気的に接続させた後に、絶縁基材(1)を硬化させ、その後に導電層を含む板状体を除去してプリント基板を製造する。 (もっと読む)


【課題】回路パターンが形成された基板の薄型化と平坦化とを同時に実現しつつ、高密度微細化パターンの形成を可能にし、層間接続の信頼性の向上を図る。
【解決手段】支持部材4Bに導電層4Aを積層して板状体を準備し、第1板状体に形成された第1導体回路2a及びポスト3aと第2板状体に形成された第2導体回路2bとを、絶縁基材1を介在させた状態で所要位置に対向して位置させ、加熱及び加圧して、絶縁基材1の一面側に第1導体回路2aを、絶縁基材の他面側に第2導体回路2bをそれぞれ埋め込ませると共に、ポスト貫通孔1cを貫通させたポスト3aにより第1導電回路2aと第2導電回路2bの層間を金属間結合により電気的に接続させた後に、絶縁基材1を硬化させ、その後に導電層を含む板状体を除去してプリント基板を製造する。 (もっと読む)


【課題】突起状導体の強度を十分に確保することができ信頼性の高い電子部品を提供すること。
【解決手段】セラミックコンデンサにおけるコンデンサ主面上には、メタライズ金属層151の表面に銅めっき層152を形成してなる複数の外部電極111,112が配置されている。外部電極111,112上に突設された突起状導体50は、銅めっき層152と同じ銅からなり、突起状導体50を構成する銅粒子157の最大粒径が、銅めっき層152を構成する銅粒子156の最大粒径よりも大きくなっている。 (もっと読む)


【課題】 導電性接続ピンが剥離し難い樹脂パッケージ基板を提供する。
【解決手段】 導体層5を設けた基板上に、マザーボードとの電気的接続を得るための導電性接続ピン100が固定されてなるパッケージ基板310に導電性接続ピンを固定するためのパッド16を形成する。パッド16を部分的に露出させる開口部18が形成された有機樹脂絶縁層15で被覆し、開口部から露出したパッドに導電性接続ピン100を導電性接着剤17により固定することにより、実装の際などに、導電性接続ピン100を基板から剥離しにくくする。 (もっと読む)


【課題】第1のパルス間隔で間隔どりされた複数のレーザパルスを用いて基板の上部露出表面から基板の底部露出表面までスルーヴァイアをレーザ穿孔することにより、積層基板内にスルーヴァイアを形成するための方法が提供される。
【解決手段】第1のパルス間隔で間隔どりされた各パルスは、第1のパルスあたりエネルギー密度を有する。次に、該スルーヴァイアは、第2のパルス間隔でトレパニングされる複数のレーザパルスを用いてレーザ穿孔される。該第2のパルス間隔で間隔どりされた各パルスは第2のパルスあたりエネルギー密度を有する。該第2のパルスあたりエネルギー密度は該第1のパルスあたりエネルギー密度より大きく、また該第2のパルス間隔は該第1のパルス間隔より小さい。 (もっと読む)


【課題】表面の実装スペースが広いプリント配線基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも一方の主面111に電気回路パターン12が形成された第1基板1と、第2基板2とを、前記一方の主面を前記第2基板に対向して積層したプリント配線基板8であって、前記一方の主面に、前記電気回路パターン間を短絡するジャンパ回路3が形成されている。 (もっと読む)


【課題】集積度が高く狭ピッチCSPを搭載可能なケーブル部を有する多層配線基板を安価かつ安定的に製造する方法を提供。
【解決手段】少なくとも一方の準外層にケーブル部81を有し、CSP実装ランドに貫通孔がない多層フレキシブル配線基板82の製造方法において、a)内層コア基板を製造、b)可撓性を有する片面型銅張積層板の銅箔層に導通用孔形成部位の開口を含む回路パターンを形成、c)回路パターン上にカバーレイを形成、d)カバーレイを形成した側を内層コア基板の側へ向けて、外層ビルドアップ層を内層コア基板に接着材を介して積層し、積層回路基材を形成、e)積層回路基材に対し、外層側の導通用孔形成部位および回路パターンにおける導通用孔形成部位の開口をレーザ遮光用のマスクとしてレーザ加工を行い、導通用孔74,75,76を形成、f)導通用孔に対し導電化処理を行い、電解めっきを施してビアホール77,78,79を形成する。 (もっと読む)


【課題】機械的強度や耐湿性の信頼性が高く、しかも多層板表面全体に配線パターンを形成して集積度を向上させることのできる電子部品内蔵配線基板を提供すること。
【解決手段】電極パッドを含む第1配線パターンと、電極パッドに接続された電子部品と、電子部品の高さ方向が貫通するように第1配線パターン上に積層位置する第1絶縁基板と、配線パターンを備えた第1、第2の面を有し、第1の面の配線パターン上に導体バンプを有し、電子部品の高さ方向が突入できる開口部を備えて、該開口部の中に電子部品の高さ方向が突入し、導体バンプが第1絶縁基板を貫通して第1配線パターンに電気導通するように、第1絶縁基板上に積層位置するコア基板と、コア基板の第2の面上に積層位置する第2絶縁基板と、第2絶縁基板上に積層位置する第2配線パターンと、を具備し、コア基板の開口部の中の電子部品との隙間には、第1絶縁基板の樹脂が滲みだし位置している。 (もっと読む)


【課題】 配線の微細化および高密度化に対応するための、ビルドアップ法で製造する多層プリント配線板に用いられる、フィルム状の層間絶縁材料を形成するための支持体として好適なポリエステルフィルムを提供する。
【解決手段】 層間絶縁層を形成する熱硬化性樹脂を塗布するための支持体として使用されるポリエステルフィルムであって、当該ポリエステルフィルムの片面の中心線平均粗さ(Ra)が20〜60nmであり、厚さが20〜100μmであることを特徴とする層間絶縁材料形成用支持体。 (もっと読む)


【課題】実装信頼性が高い電子部品実装用基板を提供する。
【解決手段】支持層40の第1面上に形成されている有機絶縁層30と、上記有機絶縁層30の表面のうち上記支持層40の第1面に接する第2面上、又は、上記有機絶縁層30の第2面側の内部に形成されている第1導体回路31と、上記有機絶縁層30において上記第2面とは反対側に位置する第1面上に形成されている無機絶縁層20と、上記無機絶縁層20の内部に形成されている第2導体回路21と、上記電子部品を実装するためのパッド22と、上記有機絶縁層30の内部に形成されていて、上記第2導体回路21と上記第1導体回路31とを電気的に接続するビア導体32と、上記支持層40において上記第1面とは反対側に位置する第2面側に形成されている導体と、上記支持層40内に設けられており、上記第1導体回路31と上記導体とを電気的に接続する導体ポスト41と、からなる。 (もっと読む)


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