【課題】省スペースな装置で、大型の板状物を研削・研磨可能な研削装置を提供する。
【解決手段】ワークを保持する保持機構２ａ、２ｂは、一面にワークを保持する垂直方向に沿った第一の保持面２１と他面にワークを保持する垂直方向に沿った第二の保持面２２とを有し、研削機構３は、第一の保持面２１に対向する第一の研削部３ａと第二の保持面２２に対向する第二の研削部３ｂとから構成され、第一の保持面２２に保持されたワーク及び第二の保持面２２に保持されたワークが第一の研削部３ａ及び第二の研削部３ｂに押圧されることによってワークが挟持された状態で回転して研削を行う。保持面２１、２２を垂直にしたため、ワークが大型化してもそれに応じて装置が大型化することがなく、装置の大型化を抑制できる。 （もっと読む）

【課題】小型かつ比較的安価な構成で、ワークにシートを粘着剤層を介して貼付することのできるシート貼付装置を提供すること。
【解決手段】シート貼付装置１００では、クリーニングエリア２０へのワークＷの搬入、クリーニングエリア２０から貼付エリア３０へのワークＷの搬送、および貼付エリア３０からのワークＷの搬出などを共通のロボット５０で行なう。また、クリーニングエリア２０では、ワークＷがロボット５０に保持された状態でクリーニングが行なわれ、貼付エリア３０では、ワークＷがロボット５０に保持された状態でシートＳの貼付が行なわれる。このため、各エリアにワークＷを搬入した際、ワークＷを整列させる必要がないなどの利点がある。 （もっと読む）

【課題】小さい設置面積を維持すると共に、処理ステーション毎に個別に滞留時間を制御することができるコスト及びスループットを改善下装置及び方法を提供する。
【解決手段】線形搬送チャンバは、線形トラックと、線形トラックに乗せられて、処理チャンバの側面に沿って基板を線形に搬送するロボットアームとを含み、処理チャンバに到達させる方法として、基板を、制御された雰囲気中にロードロックを介してフィードし、次いで搬送チャンバに沿ってフィードする。線形平行移動、回転と分節、及びｚ運動が可能な４軸ロボットアームが開示される。 （もっと読む）

【課題】高剛性で耐熱性もある真空環境内に適した真空ロボットのアーム構成を提供すること。
【解決手段】内部に気密な空間を有するアームベース８と、アームベース８内に設置されたアーム駆動用モータ９と、アーム駆動用モータ９によって回転する中空の減速機シャフト３１と、減速機シャフト３１の回転が入力されて所定の比だけ減速し、減速機シャフト３１の周囲で回転する第１減速機出力軸３２と、からなり、アームベース８内に減速機シャフト３１の下端が露出するよう設置された第１減速機１０と、中空の減速機シャフト３１の上端が侵入することでアームベース８の気密な空間と同圧となる気密な空間を有し、かつ第１減速機出力軸３２に固定される第１アーム２と、第１アーム２の先端に設置され、入力軸が減速機シャフト３１と接続された第２減速機１５と、第２減速機１５の出力軸に固定され、内部に気密な空間を有しない第２アームと、第１アーム２と第２アーム５とに追従するリンク機構と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】真空成膜装置のチャンバ内を真空に保ったままでワークの表裏両面に交互に繰り返し成膜することができるワーク反転ユニットを提案するものである。
【解決手段】真空成膜装置の中で回転するドームに複数のワーク反転ユニット３０が装着される。ドームは減速ギヤ装置とモータとによって回転され、急激な加速と減速とが可能である。ドームの下部位置には成膜物質を飛翔させる成膜物質発生源が配置される。ワークホルダ３２には成膜物質が堆積されるガラス板３１が固定される。ワーク反転ユニット３０は、ワークホルダ３２を回転自在に軸支するとともにワークホルダ３２とギヤ連結されたウエイト４１を備える。ウエイト４１はドームが急激に加速又は減速されたときに自身の慣性力で移動する。ワークホルダ３２は、ウエイト４１の移動によって回転し支持枠３５に形成された２つのストッパによって１８０°異なる姿勢に保持される。 （もっと読む）

【課題】有機金属気相成長法により反応炉内において半導体基板に気相状態で膜を形成する場合に、ガスホイール法を用いることなく半導体基板への高品質な膜の形成が可能であって、気相物質を供給した反応炉を開き人手による基板の出し入れを行う必要がないと共に、反応炉に供給される気相物質の供給効率を向上させることができる半導体基板の保持装置及び半導体基板の保持装置の搬送装置を提供する。
【解決手段】サセプタ１２は回転駆動軸１５に対して上下方向において着脱可能に固定されると共に、半導体基板が載置される複数の基板ホルダ１４が配置される開口部１３は、上記サセプタ１２の厚さ方向において貫通して形成され、上記サセプタ１２の下方には上記基板ホルダ１５が上下方向において解除可能に係合して、上記サセプタ１２の回転により基板ホルダ１４が回転しうる係合部１６が設けられている。 （もっと読む）

【課題】光学素子の両面へ同時に膜厚分布の均一性に優れた薄膜を形成する。
【解決手段】対向する一対のターゲット間の成膜空間に、光学素子１２を保持する保持手段４が配置される。保持手段４は、光学素子１２を保持するパレット１１と、パレット１１を保持するキャリア５と、キャリア５の外周部５ａのみを保持して回転駆動力を伝達するベース６と、を有する。駆動ギア８によってキャリア５を回転させて各パレット１１を公転させると同時に、各パレット１１の外周部１１ａをベース６の内周部６ａに接触させることによって、パレット１１を自転させる。このようにしてパレット１１を自公転させながら、光学素子１２の両面に同時にスパッタリング成膜を行なう。 （もっと読む）

【課題】気相成長中に基板の回転を防止することを目的とする。
【解決手段】ホルダ２に規制治具１０が設置される規制治具設置部１１を設け、規制治具１０および規制治具設置部１１の底面に基板４方向が低くなる傾斜１２を設けることにより、基板４が外側に広がるときには規制治具１０が傾斜１２を上って基板４にかかる力を緩和し、基板４と規制治具１０に隙間が生じるような動きをするときには規制治具１０が傾斜１２を下って基板４を規制することにより、基板４の破損を抑制しながら基板４の回転を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】被搬送物を搬送先にまで高精度に搬送することができる搬送装置および搬送方法を提供する。
【解決手段】基板トレイ搬送装置は、基板３を載せた基板トレイ１７を搬送アーム２６によって把持し、載置台５まで搬送する。搬送アーム２６の先端部には、反射型光ファイバーセンサー２５を有している。搬送アーム２６は縁に到達する直前に減速する。その際、センサー２５は載置台５の縁を検出する。搬送アーム２６が減速しているので、センサー２５による縁位置の検出は安定化する。制御装置３７は、センサー２５による縁位置の検出結果に基づき、載置台５の縁から載置台５の中心までの距離と、基板トレイ１７からセンサー２５までの距離とを加えた距離だけ、載置台５の縁から搬送アーム２６を移動させるように、第一の移動機構２８を制御する。 （もっと読む）

【課題】真空容器への適用が可能で、設計自由度及び設置の自由度が高く、メンテナンス性の良い２軸ステージ装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る２軸ステージ装置は、Ｙ軸方向に移動可能なＹテーブル４と、Ｙテーブル４上に載置された中間テーブル１５と、中間テーブル１５上に載置され、該中間テーブル１５上に設けられたＸ方向ガイド１１によってＹ軸方向と直交するＸ軸方向に移動可能なＸテーブル９を有している。Ｙ送りねじ５はＹモータ２の回転をＹ軸方向への直線運動に変換し、Ｙテーブル４をＹ軸方向に移動させる。一方、ボールスプライン軸１４はＸモータ７によりＹ軸方向を回転中心として回転する。スプラインナット１４１には歯車１３が固定されており、この歯車１３とＸテーブル９に固定されたラック１２によってボールスプライン軸１４の回転がＸ軸方向への直線運動に変換され、Ｘテーブル９をＸ軸方向に移動させることができる。 （もっと読む）

【課題】基板保持具の姿勢を検知することで、該基板保持具の傾きを起因とした該基板保持具と基板の破損を未然に防ぐ基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板を処理する処理室と、該処理室で基板を保持する基板保持具１４と、該基板保持具を載置する載置部と、該載置部に対して相対回転可能に設けられ相対回転により前記基板保持具を係合解除可能なロック部材と、該ロック部材と前記載置部とを相対回転させる回転部と、該回転部の回転動作を検出する検出部とを具備する。 （もっと読む）

【課題】高い確率において基板トレイを吸着できる搬送装置を提供することにある。
【解決手段】搬送装置２は、吸着体２２に基板トレイ３２を吸着させて搬送することによって、載置台１０への基板トレイ３２の載置、および該載置台１０からの基板トレイ３２の載置解除の少なくとも何れかをおこなう搬送手段１４と、吸着体２２の吸着状態を検知する検知手段と、吸着体２２が基板トレイ３２に吸着していないことが上記検知手段によって検知された場合に、基板トレイ３２に対する複数の吸着体２２のうちの少なくとも１つの位置が変わるように載置台１０を回転させて該載置台１０上の基板トレイ３２を回転させる回転機構１２とを備えている。 （もっと読む）

【課題】クロスバータイプの基板収納装置やバックサポートタイプの基板収納装置よりも基板の収納効率の良いワイヤーカセットタイプの基板収納装置で、しかも更に従来のワイヤーカセットタイプよりも収納効率を高めた高密度基板収納装置を提供する。
【解決手段】基板を前面側から出し入れして、複数枚の基板を載置して収納、保持する基板収納装置であって、基板を載置するワイヤーを水平に複数本張架配列したワイヤー列を複数段有し、ワイヤーの張力を変化させる機構を備え、前記ワイヤー列の単位でワイヤーの張力を変化させて基板の出し入れを行うことを特徴とする高密度基板収納装置。 （もっと読む）

【課題】クリーンルームのコンパクト化、かつ、高清浄度化を達成可能な自動倉庫システム及びその容器移載方法を提供するものである。
【解決手段】本発明に係る自動倉庫システムは、クリーンルーム１１内に配置されるものであり、容器１４を格納する棚１３を垂直方向に複数段設け、容器１４をその棚１３と搬入出ポート１２との間で移載する移載手段１６を棚１３と平行に設けると共に、その移載手段１６に棚１６の側に向かって伸長自在なベース部材２４を設けてなり、そのベース部材２４は、固定系のベース本体７１と、ベース本体７１の長手方向に伸長自在なスライド部材７２と、スライド部材７２の上面に設けられ、スライド部材７２の長手方向にスライド自在で、かつ、昇降自在な爪部材７３とを備えたものである。 （もっと読む）

【課題】 研磨装置から速やかに、かつ確実に被研磨物を搬送可能な搬送装置を提供する。
【解決手段】搬送装置５１は板状の本体５３を有し、本体５３には研磨装置２１ａに収納されたガラス基材１ａをチャックするチャック治具５５が設けられている。
図６に示すように、チャック治具５５は、研磨装置２１ａ上のガラス基材１ａ（被研磨物）の配置形状に対応した形状に配置されている。
チャック部５７は柱状であり、端部６１は軸方向に４つに分割されて拡径している。
また、チャック部５７の外周には周方向に形成されたネジ６５が設けられている。
一方、スリーブ５９は円筒状の形状を有し、回転可能に設けられている。
スリーブ５９をＣ１の向きに回転させると、チャック部５７はスリーブ５９内に引き込まれ、チャック部５７の外周形状はスリーブ５９の内周に拘束されて縮径する。 （もっと読む）

【課題】基板昇降移送装置７の平面スペースを十分に削減して、工場のスペースの有効利用を図ること。
【解決手段】第１基板処理装置３の一側に第１姿勢切替用保持具３７を備えた第１姿勢切替部材２９が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、第２基板処理装置５の一側に第２姿勢切替用保持具４９を備えた第２姿勢切替部材４１が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、第１姿勢切替部材２９の一側に立設した支持フレーム５３に上下方向へ延びた無端状部材６３が循環走行可能に設けられ、無端状部材６３に複数の昇降用保持具６９が周方向に間隔を置いて設けられたこと。 （もっと読む）

【課題】パレット保持の信頼性及び動作の信頼性を確保し、生産性を向上する。
【解決手段】基板支持装置が、基板１２を搭載するパレット８と、パレットを鉛直姿勢した状態で、パレットの径方向両端部を保持するパレット両端保持機構１５と、パレットの中心部を回転可能に保持するパレット中央保持機構１３と、装置本体を移動する移動機構１１と、を備え、パレット両端保持機構は、パレットの径方向両端部を板厚方向の両側から把持する機構で、移動中はパレット両端保持機構がパレットを保持し、パレット両端保持機構からパレット中央保持機構への受け渡し時は、双方の保持機構によってパレットが保持され、基板処理時はパレット中央保持機構によってパレットの中心部を回転可能に保持し、パレット両端保持機構による保持は解除される。 （もっと読む）

【課題】ＦＯＵＰの蓋部を開けることなくＦＯＵＰ内のウェーハに対する検出処理を適切に行うことができるとともに、ウェーハの損傷を防止しつつ構造の簡素化を図ることが可能なウェーハ検出機構を提供する。
【解決手段】開閉可能な蓋部１２を有するＦＯＵＰ１の内部に高さ方向へ複数段に亘って収容したウェーハＷに対して検出を行うウェーハ検出機構Ｘを、蓋部１２に設けた各ウェーハＷのエッジを保持し得るリテーナ１２Ｂと、リテーナ１２Ｂの弾性変形又は移動を検出することでウェーハＷの少なくとも有無を検出する検出部Ｓとによって構成した。 （もっと読む）

【課題】サイズの異なる数多くの種類の板状体を正確に位置決めすると共に、構造を簡略化する。
【解決手段】基板１００ａの中心部１０１が載置台２における載置面２１の中心部２１ａに位置するように基板１００ａを位置決めする位置決め機構３を備え、位置決め機構３は、回動可能に載置台２に取り付けられた一対のアーム（４１ａ〜４１ｈ）を有する４つの押圧部（３１ａ〜３１ｄ）と、各アームを回動させる回動機構３２とを備え、２つの押圧部は、中心部２１ａを挟んで互いに対向してＹ方向に沿って中心部２１ａから同じ長さだけそれぞれ離間する位置に配置され、他の２つの押圧部は、中心部２１ａを挟んで互いに対向してＸ方向に沿って中心部２１ａから同じ長さだけそれぞれ離間する位置に配置され、回動機構３２は、２つの押圧部における各アームを同じ回動量で回動させ、他の２つの押圧部における各アームを同じ回動量で回動させる。 （もっと読む）

【課題】結晶成長面が下向きになるように基板を保持するサセプタ、サセプタの対面、基板を加熱するためのヒータ、サセプタの中心部に設けられた原料ガス導入部、サセプタとサセプタの対面の間隙からなる反応炉、及びサセプタより外周側に設けられた反応ガス排出部を有するフェイスダウン型のIII族窒化物半導体の気相成長装置であって、直径３インチ以上の大きさの基板を気相成長する場合であっても、基板の割れを防止できるIII族窒化物半導体の気相成長装置を提供する。
【解決手段】サセプタが１個の基板ホルダー８に対して４個以上のツメ１０を備えたものとする。 （もっと読む）