【課題】 メンテナンス時においても装置全体の稼働を停止する必要のないインライン式成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置は、少なくとも一の成膜処理室を含む複数の処理室を直列に接続してなり、成膜処理室は、基板が設置される基板設置部１４１と、設置された前記基板に対して所定の成膜処理を行う成膜手段が設置された成膜手段設置部１４２とからなり、これらの基板設置部と成膜手段設置部とは分離可能に構成されている成膜装置であって、基板設置部と成膜処理室とを隔絶し基板設置部内の真空を保持するシャッター３を備えている。 （もっと読む）

【課題】搬送対象物を高い位置精度で搬送することが可能な搬送装置を提供する。
【解決手段】搬送装置１０００は、ベース部４と、第１アームレバー５と、第２アームレバー６と、保持部７とを有する。第２アームレバー６と保持部７との間の関節部６７には、第２アームレバー６に対して保持部７を３自由度で動かすことが可能なアクチュエータ１００が設けられている。例えば、搬送装置１０００は、アクチュエータ１００を駆動させることにより、基板Ｗを、水平を維持したまま搬送することが可能である。このため、基板Ｗの位置精度を確保することができる。 （もっと読む）

【課題】処理装置と基板収容部との間での基板の搬送の時間を短縮し、基板処理システムのスループットを向上させる。
【解決手段】処理装置２２に対して基板Ｗの搬送行う基板搬送装置２４は、処理装置２２に搬入される複数の基板Ｗを鉛直方向に多段に収容する基板収容部５０と、処理装置２２から搬出される複数の基板Ｗａを鉛直方向に多段に収容する基板収容部５１と、基板収容部５０から処理装置２２に基板Ｗを搬送する基板保持部５６と、処理装置２２から基板収容部５１に基板を搬送する基板保持部５７を有している。基板収容部内５０は基板Ｗと基板保持部５６とを相対的に上下方向に移動させる昇降機構５４を備え、基板収容部内５１は基板Ｗａと基板保持部５７とを相対的に上下方向に移動させる昇降機構５５を備えている。 （もっと読む）

【課題】エピタキシャルウェハの生産性の向上が図れる半導体気相成長装置を提供する。
【解決手段】円板形状のサセプタ５０１と、サセプタ５０１の同心円周上に複数配置され、それぞれ回転自在に設けられ、基板Ｗを保持するリング形状の基板トレイ５０２と、サセプタ５０１を、該サセプタ５０１の中心軸５０１ｒの周りに回転させることにより基板トレイ５０２を公転させるサセプタ駆動部５０４Ａと、サセプタ５０１の回転駆動に伴って基板トレイ５０２を自転させる基板トレイ駆動部５０６Ａと、基板トレイ５０２を回転自在に支持する回転支持部材（回転治具）５０７と、を有し、回転支持部材５０７は、各基板トレイ５０２の外周部の複数箇所に独立に配置され、サセプタ５０１にそれぞれ回転自在に設けられている。 （もっと読む）

【課題】基板を確実に把持し、基板を目的の位置に載置するときも基板保持部材との接触などの問題が無いハンド構成を提供すること
【解決手段】ベース部材２１に対し、基準位置と把持位置との間をスライド可能であって、基板２７を載置するスライド部材２１と、スライド部材２１を常に基準位置へ戻す方向に力を加える反力部材２５と、スライド部材２１を把持位置へ移動させるときにこれと接触し、スライド部材２１が基準位置にあるときはこれと離れる駆動部２９と、スライド部材２１が基準位置にあるとき、基板２７の周囲と一定の隙間３３を有し、スライド部材２１が把持位置にあるとき、基板２７のエッジを保持可能なＶ字溝を有する第１の基板保持部材３１と、スライド部材２１が基準位置にあるとき、基板２７の周囲と一定の隙間３３を有するように駆動部２９に配置され、スライド部材２１が把持位置にあるとき、基板２７のエッジを保持可能なＶ字溝を有する第２の基板保持部材３０と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】電子部品の破損や生産効率の低下を招くことのないパレット自動交換装置を提供する。
【解決手段】基部５１に対して回転変位可能な回転部を有し、回転部にウェハシートが装着されたパレットと、回転部と基部５１とを係合部材６２によって係合させることで回転部を回転不可能に基部５１に固定する手段と、回転部に設けられた従動ギヤ８０に駆動ギヤ８１を係合させることで回転部に回転駆動力を付与する手段と、を備え、駆動ギヤ８１が従動ギヤ８０に係合したときに回転部と基部５１との係合が解かれ、駆動ギヤ８１の回転駆動力が回転部に伝達される。 （もっと読む）

【課題】真空チャンバ内で基板等を搬送する際に、搬送機構によるパーティクルの発生を防止する。
【解決手段】真空チャンバ２内に移動可能に配置され、被搬送物（基板２０）を支持、搬送する支持体５と、チャンバ外から支持体５に磁力を介して運動伝達する磁気運動伝達機構を備える。真空雰囲気のチャンバ内においてローラや歯車などの回転体を用いず、磁気運動伝達することができ、搬送時のパーティクルを極力少なくする効果がある。さらに、チャンバ外への無駄な設置面積を必要としない。また、磁気運動伝達機構と回転機構を併用することにより、基板の受渡し、搬送時に任意の角度を設定でき、装置設計時の自由度が大きくなる。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク等の基板を搬送し、基板処理を施して大量に生産する基板処理システムのスループット及び生産性の向上のため、各処理チャンバにおける処理時間（タクトタイム）を短縮する。
【解決手段】基板搬送装置は、ゲートバルブを介して連結されたチャンバと、前記ゲートバルブを開状態にして前記チャンバ間でキャリアを搬送路に沿って搬送する搬送機構と、前記キャリアが前記チャンバの停止位置に到達する前に前記キャリアを検知するセンサと、前記センサからの検知信号に基づき前記ゲートバルブの閉動作を開始するよう制御する制御器とを有する。 （もっと読む）

【課題】板状部材を厚み方向に沿った線を中心として回動させる場合にもタクトを短縮できる板状部材の搬送装置および板状部材の搬送方法を提供する。
【解決手段】搬送装置１０は、上方に向かって複数の噴射口から気体を噴射することによりガラス基板１１を浮上させる浮上部材２１を有する浮上手段２０と、浮上手段２０によりガラス基板１１が浮上部材２１から浮上した状態でガラス基板１１を保持するとともに搬送方向に沿って下流側に向かってガラス基板１１を搬送する搬送手段３０とを備える。搬送手段３０は、搬送方向に沿って移動可能であるとともにガラス基板１１の厚み方向に沿った線を中心として軸回転可能な吸着パッド３４を有する。パッド３４は、ガラス基板１１の平面中央部に吸着する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板をエアコンベアで搬送する際に、エアによりガラス基板中央部が膨らむことを抑制して平面状に搬送する薄板状材料搬送方法及び装置を提供する。
【解決手段】薄板状材料搬送装置１０は、ガラス基板１２を、エアコンベア１６によって浮上させ、且つ、その幅方向両端においてサイド吸引駆動ユニット２２により吸引しつつ直進駆動ローラ２０により送り方向に駆動し、ガラス基板１２の幅方向中央部を、中央吸引ユニット２８により吸引して、中央駆動ローラ２６及び前側フリーローラ２７Ａと後側フリーローラ２７Ｂに接触させて、下方から水平に維持しつつ搬送する。 （もっと読む）

【課題】事前の煩雑な準備を必要とせずに、搬送面から浮上させて搬送方向に搬送される薄板の搬送状態を、インラインにより検出すること。
【解決手段】浮上搬送装置１０により搬送される薄板Ｗに貼付したマーカ９を、搬送面Ｓの上方に配置した２台のカメラ３Ｌ，３Ｒでそれぞれ撮影したエリアＡの画像データから抽出し、その３次元位置座標値から薄板Ｗの３次元位置座標値（座標値群）を検出して、３次元位置座標値（座標値群）が既知である搬送面Ｓに対する接触の有無や接触箇所を、画像処理によって検出する構成とした。 （もっと読む）

【課題】
基板の搬送方向の直進性に優れた基板搬送装置を提供する。
【解決手段】
基板搬送装置１は、補助回動ギア３２と回動プーリ３１とを連結するリンク部材３３を備え、リンク部材３３はリンク部材３３の連結長（貫通孔３３Ａの中心Ｐ−貫通孔３３Ｂの中心Ｑの間の長さ）を調整するためのリンク長さ調整部３４とを備えている。このため、各部材の機械加工精度に依存して組立誤差が生じても、リンク部材３３の長さ（連結長）を調整部３４により調整して、補助回動ギア３２の中心Ｏと回動プーリ３１の中心Ｒとの間の長さと、連結長とを同じに調整できる。従って、リンク部材３３により、回動プーリ３１と補助回動ギア３２との回動量つまり回動プーリ３１と回動ギア３０の回動量を一致させて、基板の搬送方向の直進性を向上させることができる。 （もっと読む）

半導体ウエハーや基板のような処理対象物を洗浄、食刻など湿式処理する湿式処理装置及び方法、並びにそれに使用される流体拡散板及びバレルを開示する。本発明による対象物の湿式処理装置は、処理対象物が収容されて処理される処理槽と、前記処理槽の内部に回転可能に設けられ、表面には対象物を前記処理槽の底面と垂直方向に立てて支持する複数のスロットが形成された棒状の対象物支持棒と、前記対象物支持棒に連結されて前記対象物支持棒を回転させることで前記対象物を回転させる回転手段と、を備え、前記対象物支持棒には、前記対象物に処理流体を噴射する処理流体噴射口、及び前記処理流体噴射口に処理流体を供給する処理流体流路が形成されている。本発明によれば、処理槽内のデッドゾーンを除去して処理流体の均一且つ円滑な流れが可能になり、処理効率及び処理均一度が向上する。 （もっと読む）

【課題】構造の複雑化を招来することなく、搬送距離を伸ばすことができるとともに、剛性にも優れた搬送装置を提供する。
【解決手段】搬送対象物Ｘを載置して運搬する運搬台２と、一端部を運搬台２に接続し、且つ折り畳み動作及び伸長動作によって運搬台２を一定方向に進退動作させるリンク機構３と、リンク機構３の他端部を支持し、且つ運搬台２の進退方向にリンク機構３をスライド移動させるスライド機構４とを備えたものとした。
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【課題】単純な構成で、ワークを所望の向きで受け渡し可能なローディング装置を提供する。
【解決手段】本発明のローディング装置は、ワークＷを受け取り、受け取ったワークＷを所定の位置に載置するローディング装置であって、受け取ったワークＷを支持した状態で、ワークＷを略水平に直線移動させる水平移動手段４と、水平移動手段４を回転可能に支持する回転手段３とを有する。とくに、水平移動手段４は、回転手段３によって略水平な状態に支持されたベース部４３と、ベース部４３に対して略平行に設けられベース部４３に対してスライドするように移動するワーク支持部４１とを含む。 （もっと読む）

【課題】コンパクトなレイアウトを採用可能とするロボットを備えた基板搬送システムを提供する。
【解決手段】本発明の基板搬送システムはロボット１を備え、その周囲に基板搬出入手段4及び基板処理装置5が配置される。ロボット1は、基板100が略水平に保持されるエンドエフェクタ22と、エンドエフェクタ22を垂直方向に駆動する垂直駆動手段18と、垂直駆動手段18を水平方向に駆動する水平駆動手段11と、水平駆動手段11を垂直軸線17周りに回転駆動する回転駆動手段と、を備える。垂直駆動手段18にエンドエフェクタ22の端部が接続され、水平駆動手段11に垂直駆動手段18の端部が接続される。 （もっと読む）

【課題】高温環境下において搬送物を確実に保持して高速搬送を図るとともに、搬送物の搬送時におけるダストをできるだけ少なくする技術を提供する。
【解決手段】本発明の搬送装置５０は、駆動源からの動力が伝達される複数のアームを有する伸縮自在なリンク機構２０と、リンク機構２０の動作先端部において隣接する第３の左アーム３Ｌ、第３の右アーム３Ｒによって連結され基板１０を載置するための載置部５とを備える。載置部５には、基板１０の側部と当接して係止するための係止部５ａ、５ｂが設けられる。リンク機構２０の隣接する第３の左アーム３Ｌ、第３の右アーム３Ｒには、基板１０の側部と当接し基板１０を載置部５の係止部５ａ、５ｂに対して付勢する付勢部６ａを有する弾性の付勢部材６が固定される。付勢部材６は、第３の左アーム３Ｌ、第３の右アーム３Ｒの相対的な角度関係に応じて載置部５の係止部５ａ、５ｂに対する付勢部６ａの距離が変化するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】大きな搬送対象物や高価な搬送対象物の搬送に適した産業用ロボットを提供すること。
【解決手段】産業用ロボットは、搬送対象物が搭載されるハンドと、ハンドが連結されるアームと、アームを支持する支持部材と、支持部材を上下動させる上下駆動機構と、上下駆動機構を制御する制御部８０とを備えている。上下駆動機構は、上下駆動機構を停止させるための２個のブレーキ機構２４を備え、制御部８０は、２個のブレーキ機構２４を制御するブレーキ制御部８４を備えている。ブレーキ制御部８４は、２個のブレーキ機構２４を段階的に作動させる。 （もっと読む）

【課題】基板表面への傷付きを防止するとともに、傷が付く場合においても基板の端部に限定することができる真空処理装置を提供する。
【解決手段】基板８を搬送する架台３１，搬送部３２と、鉛直方向から斜めに延び、上側を向いた基板受け面に基板８が配置される基板テーブル１２と、の間で基板８の受け渡しが行われる真空処理装置であって、基板テーブル１２には、基板受け面に配置された基板８を上に載せる受爪部３５が設けられ、搬送部３２には、基板８を上下方向から挟んで、基板テーブル１２よりも鉛直方向から浅い角度で保持する上側爪部３３および下側爪部３４と、基板８の受け渡し時に、下側爪部３４を下方に向かって移動させる下側駆動部３４Ｂと、基板８の受け渡し時に、上側爪部３３を基板テーブル１２に向かって移動させるとともに、上方に向かって移動させる上側駆動部と、が設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】サイズの異なる搬送対象物の位置決めをし、複数の搬送対象物を搬送可能な搬送システムを提供する。
【解決手段】水平な搬送軌道上で搬送対象物を搬送する搬送手段と、当接位置と待機位置との間で移動可能に設けられた当接部材と、搬送対象物のサイズに応じて、当接部材を当接位置に移動させる位置決め部Ｐａ１〜Ｐａ４、Ｐｂ１〜Ｐｂ４を選択する選択手段と、当接部材を当接位置に移動させる移動手段とを備える。 （もっと読む）