【課題】低温の処理液を用いた処理処理において、処理液ノズルの結露の発生を防止し、処理を基板面内で均一に行う。
【解決手段】現像処理装置１は、基板を保持する保持部材と、基板上に現像液、リンス液、処理液を供給する複合ノズル体４２と、保持部材上から退避した複合ノズル体４２を待機させるノズルバス４４とを有している。ノズルバス４４内には、複合ノズル体４２の先端部が収容される。ノズルバス４４は、待機中の複合ノズル体４２を挟んで設けられ、当該複合ノズル体４２においてノズルバス４４から露出した露出部を覆うように水平方向に延伸する一対のパージガスノズル９３、９３を有している。一対のパージガスノズル９３、９３は、複合ノズル体４２の露出部に対して水分を含まないパージガスを供給する。 （もっと読む）

【課題】複数のローラを用い、ローラの基板への接触面積を増加させることなく、基板の搬送を安定して行う。
【解決手段】基板移動方向に所定の間隔で設けた複数の第１のローラ２０に基板１を搭載し、複数の第１のローラ２０を回転して、基板１を基板移動方向へ移動しながら、複数の第１のローラ２０により移動される基板１の下面を複数の第２のローラ１０で支持し、複数の第２のローラ１０を、複数の第１のローラ２０により移動される基板１と共に基板移動方向へ移動する。第１のローラ間で発生する基板１の変形が、第２のローラにより抑制され、第１のローラ及び第２のローラを合わせたローラの基板１への接触面積を増加させることなく、基板１の搬送が安定して行われる。 （もっと読む）

【課題】 サファイア基板裏面を高スループットで研削加工、ラップ研磨加工し、基板を薄肉化・平坦化することができる異物の付着が少ないサファイア基板を製造する平坦化加工装置の提供。
【解決手段】 基板のローディング／アンローディングステージ室Ｗ１、基板ラップ研磨ステージ室Ｗ３、基板の研削加工ステージ室Ｗ２内に各々の機械要素を収納した平坦化加工装置１であって、研削加工ステージで１枚の基板を研削加工し、その研削加工基板を多関節型基板搬送ロボットで基板ラップ研磨ステージ室にインライン化し、その基板ラップ研磨ステージ室内で同時に２枚の基板をラップ研磨加工するように設計したフットプリントの小さい平坦化加工装置１。 （もっと読む）

【課題】 ウエハを載置する位置やゲートの向きに係わらずウエハを略真直ぐ入れることができる搬送装置を提供する。
【解決手段】 搬送装置１は、旋回ベース１３と、２つのハンド機構１３,１４と、２つのハンド用駆動機構３０，４０とを有する。２つのハンド機構１３，１４は、旋回ベース１３に回動軸線Ｌ２，Ｌ３を中心に回動可能に夫々設けられ、ハンド駆動機構３０，４０により個別に回動動可能に構成されている。ハンド機構１３，１４は、アーム２０と、ハンド２１と、連動機構２６とを有している。アーム２１は、回動軸線Ｌ２，Ｌ３を中心に回動可能に前記旋回リンクに夫々設けられ、ハンド２０は、ハンド用軸線Ｌ４，Ｌ５を中心に回動可能に前記アーム２１に夫々設けられている。連動機構２６は、アーム２０に対する前記ハンド２１の減速比が１．５５でアーム２０と前記ハンド２１とを連動させるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】基板処理室内に石英部材を用い、高温時よりも低温時の方が石英部材のエッチング速度が大きいクリーニングガスを使用する基板処理装置において、クリーニングガスの加熱を安定して行う加熱機構を用いた基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置を次のように構成する。すなわち、基板を収容し処理を行う基板処理室と、基板処理室内に連通するクリーニングガス供給管を経由して、前記基板処理室内にクリーニングガスを供給するクリーニングガス供給系と、クリーニングガス供給管内に連通する不活性ガス供給管を経由してクリーニングガス供給管内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給系と、基板処理室外に設けられ、不活性ガス供給管からクリーニングガス供給管内に供給される不活性ガスを加熱する不活性ガス加熱部とを備え、基板処理室内をクリーニングする際は、クリーニングガスと不活性ガス加熱部により加熱された不活性ガスとを混合して基板処理室内に供給する。 （もっと読む）

【課題】研削面に研削屑等の付着を防止可能なウエーハ搬送装置を提供することである。
【解決手段】ウエーハ１１を保持して搬送するウエーハ搬送機構６２であって、アーム６６の先端に位置する支持プレート７２と、該支持プレート７２に取り付けられた回転プレート８０と、該支持プレート７２の下方に突出し、該ウエーハ１１から半径方向外側に移動可能なように、リンク８２を介して該回転プレート８０に取り付けられた少なくとも３個の保持部材８６と、該保持部材８６に保持されたウエーハ１１の上面に水を供給する水供給手段１００とを具備し、該水供給手段１００は、ウエーハ１１の外周縁近傍に対向するように該支持プレート７２に固定されたノズル１０４と、該各ノズル１０４を水供給源に接続する配管１０６とを含み、該各ノズル１０４はウエーハ１１の外周縁近傍の上面に向かって水を噴出し、ウエーハ１１の上全面に水の層を形成する。 （もっと読む）

【課題】金属の接合部を有する基板同士の接合を効率よく行い、基板接合処理のスループットを向上させる。
【解決手段】接合装置４０は、接合ユニット７０と熱処理ユニット７１を一体に接続した構成を有している。接合ユニット７０は、重合ウェハＷ_Ｔを載置して熱処理する第１の熱処理板１１０と、第１の熱処理板１１０上の重合ウェハＷ_Ｔを押圧する加圧機構９０とを有している。熱処理ユニット７０は、重合ウェハＷ_Ｔを吸着保持して熱処理する第２の熱処理板１４０と、重合ウェハＷ_Ｔを載置して熱処理する第３の熱処理板１５０と、接合ユニット７０と熱処理ユニット７１との間で重合ウェハＷ_Ｔを搬送する２本の搬送アーム１６１、１６１とを有している。各ユニット７０、７１は、その内部の雰囲気を所定の真空度まで減圧可能になっている。 （もっと読む）

【課題】ウェハーの中央領域の特異な洗浄を補償する手段を取る新しいスクラバータイプ装置を提供する。回転ブラシをローラーで置換したスクラバータイプの洗浄装置を提供する。
【解決手段】ウェハー等は、基板の中央領域に面する区画に配置された一つ以上の非接触部分を有する回転ブラシを用いるか、またはウェハー及び回転ブラシの相対位置を切り換えるか、またはウェハーの中央領域の方へ優先的に洗浄液を向けることによって洗浄される。洗浄材のウェブ１１６を各ローラー１１０と基板との間に介装する。洗浄材の様々の異なるウェブ、例えば一つの織物、表面が各洗浄パスで再生された洗浄材の連続ループ、キャリアテープ等に設けた接着剤等を用いることができる。 （もっと読む）

【課題】新たに投入する基板に対して通常処理の基板搬送スケジュールを作成するだけでなく、故障が発生した場合にも容易に、且つ高い生産量を維持できる基板の搬送スケジュールを作成できるスケジューラ、及び該スケジューラを用いた基板処理装置、及び基板処理装置の運転方法を提供すること。
【解決手段】基板の処理を行う複数の基板処理部と、基板を搬送する搬送部と、搬送部での基板の搬送と基板処理部での基板処理を制御する制御部を備えた基板処理装置の制御部に内蔵され、基板搬送スケジュールを計算するスケジューラであって、新たに投入する基板に対する基板搬送スケジュールを順次計算し、更に装置内に故障が発生した際、その状態を初期状態として基板搬送スケジュールを再計算する機能を備えた。 （もっと読む）

【課題】プラズマクリーニング装置におけるプラズマクリーニング処理に適したオブジェクトを提供する。
【解決手段】プラズマクリーニング装置におけるプラズマクリーニング処理に適したオブジェクトを提供する。このオブジェクトは、第１外表面領域と、第２外表面領域とを含む。オブジェクトは、第２外表面領域を覆うように該オブジェクトと接続可能な取り外し可能カバーと協働するように構成および配置される。取り外し可能カバーと接続されたオブジェクトは、プラズマクリーニング装置内でクリーニングされるよう適合されている。クリーニングの際、プラズマクリーニング装置は第２外表面領域に存在する粒子にさらされず、プラズマクリーニング装置内で第１外表面領域がクリーニングされる。 （もっと読む）

【課題】基板処理装置の各液処理ユニットに処理液を供給するときに、流量の精度を落とすことなく流量制御機構をまとめることができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】処理液が流れる供給流路６８ａと、供給流路６８ａに処理液を供給する処理液供給部７０と、供給流路６８ａ上に設けられ、供給流路６８ａの流量を制御する流量制御機構１３１と、流量制御機構１３１の下流側に接続される第１の経路６８ｃ又は第１の経路６８ｃと平行に接続される第２の経路６８ｄに切り替える切替機構１３５とを有する。流量制御機構１３１は、供給流路６８ａの流量を計測する流量計測部１３２と、内部に開閉可能な弁を備えた流量制御弁１３３と、流量設定値ＦＳと流量計測値ＦＭとが等しくなるように、流量制御弁１３３を制御する流量制御部１３４とを有する。 （もっと読む）

【課題】収納用トレイに収納された状態でガラス基板のＩＤコードを読取る装置を提供する。
【解決手段】積層されたガラス基板収納用トレイに収納されたガラス基板のＩＤコードを読取る装置であって、照明光を発生する照明手段と、照明手段から発せられた照明光を屈折する屈折手段と、屈折手段によって屈折された照明光によって照明されたＩＤコードの画像を撮像する手段と、前記照明手段と撮像手段をガラス基板収納用トレイと垂直な方向に移動する手段と、撮像したＩＤコードの画像を変換するデコード手段と、を備え、ガラス基板のＩＤコードを積層されたガラス基板収納用トレイに収納した状態で読取ることを特徴とするガラス基板のＩＤコード読取装置。 （もっと読む）

【課題】被処理基板に処理を行う基板処理装置において、基板全面に均一に基板処理を行うことができる基板処理装置及びその基板処理装置における基板処理方法を提供する。
【解決手段】搬送路３４の途中に設けられたステージ面１５２を有し、被処理基板Ｇをステージ面１５２の上に載置する載置ステージ１５０と、ステージ面１５２の下方で搬送路３４を横切る方向に延びる軸１５６に沿って回転可能に設けられ、ステージ面１５２より上方に突出可能な半径を有する回転体の一部を軸１５６に沿って切り落とした形状に形成され、それぞれ第１及び第２の回転角度位置にあるときにステージ面１５２と略平行な面を形成する第１及び第２の弦部１６４、１７４を備えた第１及び第２の回転体１６０、１７０を有する。 （もっと読む）

【課題】 アルカリ成分がオゾン洗浄液に混入することを抑制して、オゾン洗浄能力の低下が抑制できる洗浄方法を提供する。
【解決手段】 チャック部材で、予めオゾン洗浄槽内のオゾン洗浄液に浸漬していた他の被処理物を保持するに先立ち、搬送アームの一部およびチャック部材に付着したアルカリ成分を洗浄除去して、アルカリ成分がオゾン洗浄液に混入するのを抑制することを特徴とする洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】この発明は搬送される基板の端部をその厚さに係らず確実に保持できるようにした基板の搬送装置を提供することにある。
【解決手段】複数の搬送軸４に設けられた搬送ローラ５及び基板の幅方向両端部の下面を支持する端部支持ローラ５ａと、搬送軸の上方に支持された上載せローラ軸１６と、上載せローラ軸に設けられ端部支持ローラによって幅方向の端部下面が支持された基板の幅方向の端部上面を押圧する一対の上載せローラ２５と、搬送軸の両端部に設けられ外周面が軸方向に対して傾斜した第１の傾斜面３４に形成された第１の荷重調整ローラ３１と、上載せローラ軸に設けられ外周面が第１の傾斜面と同じ角度で同じ方向に傾斜した第２の傾斜面３５に形成されていて、第１の荷重調整ローラに対して軸方向に相対的に移動させて第１の傾斜面との接触度合を調整することで、上載せローラによる基板の端部上面を押圧する押圧力を設定する第２の荷重調整ローラ３２を具備する。 （もっと読む）

【課題】基板処理装置の製造コストや消費エネルギーを低減させること。
【解決手段】本発明では、キャリア（３）に収容された基板（２）を受渡す基板搬出入部（基板受渡室（１２））と、前記基板搬出入部と基板搬入出口（３７（３９））を介して連通する基板搬送室（１４（２５））と、前記基板搬送室（１４（２５））に沿って配置された複数の基板処理室（１５〜２４（２６〜３５））と、前記基板搬送室（１４（２５））の内部に収容し、前記基板搬出入部と前記基板処理室（１５〜２４（２６〜３５））との間で前記基板（２）を搬送するための基板搬送装置（３６（３８））と、前記基板搬送室（１４（２５））に沿って清浄空気を流すための清浄空気流動手段（４１（４２））とを有することにした。 （もっと読む）

【課題】光ビームによる基板の走査を複数回行って、基板にパターンを描画する際に、光ビームにより描画されるパターンの走査毎のずれを抑制して、描画精度を向上させる。
【解決手段】チャック１０と光ビーム照射装置２０とを相対的に移動しながら、描画データを光ビーム照射装置２０の駆動回路２７へ供給する。チャック１０に設けられた受光手段（ＣＣＤカメラ５１）により、光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａから照射された光ビームを受光し、受光した光ビームから、予め、光ビームにより描画されるパターン２の走査毎のずれを検出し、検出結果に基づき、描画データの座標を補正する。 （もっと読む）

【課題】パターンのエッジを滑らかに描画して、描画品質を向上させる。
【解決手段】光ビーム照射装置２０を、光ビームによる基板１の走査方向に複数設け、走査方向の各光ビーム照射装置２０の空間的光変調器（ＤＭＤ２５）を、走査方向に対して互いに異なる角度に傾けて配置し、基板１に描画するパターンのエッジを構成する線の角度に応じて、走査方向の複数の光ビーム照射装置２０の内の１つ又は２つ以上を用いて、パターンのエッジを描画する。パターンのエッジを構成する線の角度が、走査方向の複数の光ビーム照射装置２０のいずれの空間的光変調器（ＤＭＤ２５）の角度とも大きく異なるときは、走査方向の複数の光ビーム照射装置２０を用いてパターンのエッジを描画すると、互いに異なった傾きの光ビーム照射領域が重なり合って、１つの光ビーム照射装置２０だけを用いるときよりもパターンのエッジが滑らかに描画される。 （もっと読む）

【課題】スループットの向上を図り、不具合が発生した場合でも、装置全体の稼働率の低下を抑えることができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】キャリアＣに対してウエハの受け渡しを行う搬入出アームＢを備えた基板搬入ブロックの後段側に、第１の処理ブロック３１と第２の処理ブロック３２と第３の処理ブロック３３とを順に配置する。基板搬入ブロックに、前記搬入出アームＢから第１の処理ブロック３１にウエハを受け渡すための受け渡しステージ（２１ａ ２１ｂ）と、第２の処理ブロックにウエハを受け渡すための受け渡しステージ２２と、第３の処理ブロックにウエハを受け渡すための受け渡しステージ２３と、を設け、受け渡しステージ２２上のウエハを第１直接搬送機構Ａ１により第２の処理ブロック３２に直接搬送し、受け渡しステージ２３上のウエハを第２直接搬送機構Ａ２により第３の処理ブロック３３に直接搬送する。 （もっと読む）

【課題】搬送レシピ設定を簡略化することができ、最適な搬送ルートで被処理基板を搬送することができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】フープに対するウエハの搬入出を行う搬入出用搬送機構を有する搬入出部と、ウエハに対して所定の処理を行う複数の処理ユニットを有し、これら処理ユニットに対するウエハの搬送を行う主搬送機構を有する処理部と、搬入出部と処理部との間でウエハの受け渡しを行う複数の受け渡しユニットと、搬入出用搬送機構および主搬送機構によるウエハの搬送フローを制御する搬送フロー制御部と、搬入用および搬出用のフープの選択ならびに使用する処理ユニットの選択を行う選択部と、選択部で選択された搬入用および搬出用のフープならびに処理ユニットに応じて、使用する受け渡しユニットを自動的に選択し、ウエハの搬送ルートを自動的に生成する搬送レシピ作成部とを具備する。 （もっと読む）