【課題】
スループットを確保しつつ、高精度な重ね合わせを行う位置検出装置を提供する。
【解決手段】
マークが形成される基板を積載する基板ステージと、前記マークの位置を光検出する光検出手段と、前記基板ステージの位置を計測するステージ位置計測手段と、前記基板ステージの位置に対応する前記マークの位置を光検出する光検出回数、前記マークの位置の光検出の蓄積時間、前記基板ステージの位置の計測回数のいずれか１つ以上の計測条件を決定する計測条件決定手段と、前記計測条件に対応して、前記光検出手段により前記マークの位置の光検出を行うように制御する制御部と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】液浸法による露光処理時に液体が基板の周囲に流出することが防止された基板処理装置を提供する。
【解決手段】処理レシピ３０４ｂにおいて、各ステップは基板の搬送順序に対応する。このステップ毎に、基板の搬送先が設定されるとともに、各搬送先における処理内容が設定されている。処理レシピ３０４ｂにおいて、塗布ユニットＣＯＶが搬送先として設定されていないのに露光装置が搬送先として設定されている場合、またはレジストカバー膜の塗布処理が処理内容として設定されていないのに露光装置が搬送先として設定されている場合には、処理レシピ３０４ｂの設定に妥当性がないことがオペレータに通知される。 （もっと読む）

【課題】複数のベースに分割されたステージベース上で、大型の基板を移動する際、リニアモータを用いて、ガイド及び可動子の取り付け部分に掛かる負荷を軽減させ、基板の移動を高速かつ高精度に行う。
【解決手段】偶数個のリニアモータの磁石を内蔵した板状の固定子３１を、複数のベースに分割されたステージベース１１に立てた状態で取り付け、偶数個のリニアモータのコイルを内蔵した板状の可動子３２を、Ｘステージ１４にそのリニアモータの固定子と向き合わせて取り付ける。各ローラ保持具３５は、各ローラ３６を、各固定子取り付けベース３３の方向へ付勢する。各ローラ３６は、各固定子取り付けベースに３３接触して、各リニアモータの可動子３２の上下動を許容しながら、各リニアモータの固定子３１と可動子３２との隙間の変動を抑制する。 （もっと読む）

【課題】装置全体のスループットを向上でき、生産効率を向上させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】処理部３には、上下方向に積層配置された第１搬送室８および第２搬送室９と、第１搬送室８および第２搬送室９の一方側に一列に配列された６個の第１処理チャンバ１０と、第１および第２搬送室８，９の反対側に、一列に配列された６個の第２処理チャンバ１１とを備えている。第１搬送室８上には、第１主搬送ロボット１２が往復走行可能に配置されている。第２搬送室９上には、第２主搬送ロボット１３が、往復走行可能に配置されている。 （もっと読む）

【課題】プロキシミティ方式を用いた基板の露光において、タクトタイムを短縮する。
【解決手段】チャック１０の露光位置側の周辺部に第１の真空区画１０ａを設け、チャック１０の中央部に第２の真空区画１０ｂを設け、チャック１０の露光位置と反対側の周辺部に第３の真空区画１０ｃを設け、受け渡し位置で、基板１をチャック１０に搭載し、第１の真空区画１０ａの真空引きを行った後、チャック１０を受け渡し位置から露光位置へ移動するのと並行して、第２の真空区画１０ｂの真空引きを行い、第２の真空区画１０ｂの真空引きを行った後、第３の真空区画１０ｃの真空引きを行う。 （もっと読む）

【課題】基板の上面に対向し近接して押付部材を配置し基板の処理を行う場合に、高温の処理液を使用するときでも、基板の面内温度の均一性を高め、押付部材の下面と基板上面とで挟まれる空間における温度の上昇を抑えることができる装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗの上面に対向し近接して配置される雰囲気遮断板のプレート部６０の内部に、その中央領域から周辺領域の気体噴出口８０に向かって気体を流通させる気体通路８４を形成し、気体通路の途中を部分的に狭隘にし、その狭隘通路部分１２６とプレート部の下面側とを連通させる吸引細孔１２８を形成して、気体通路にエジェクタ部１１６を設け、吸引細孔の、プレート部の下面に開口する吸い込み口１３０を、気体噴出口よりプレート部下面の中心寄りに配置する。 （もっと読む）

【課題】基板搬送装置の高さの低減、及び汚染物質等の進入の抑制を図る。
【解決手段】複数の基板Ｗが上下方向に並列的に収容される棚を有し、該棚の全段に相当する寸法の開口６ａがその一側面に形成された基板容器６が設置される容器台４２と、容器台４２を、上下方向の任意の位置で位置決め可能に移動する駆動装置４３と、容器６の棚の全段に相当する寸法よりも小さい範囲で上下方向に移動し、容器台４２との間に設けられた隔壁４４に形成される開口部４４ａと、開口部４４ａに対向する容器６の開口６ａとを介して基板容器６の棚に対する基板Ｗの搬出又は搬入を行う搬送アーム２０と、搬送アーム２０の上下方向の移動範囲に対して容器台４２の上下方向に位置を変更するように駆動装置４３を制御する制御装置と、容器台４２が位置を変更する際に、隔壁４４に形成される開口部４４ａが外部へ開放されることを防止する防止手段４７とを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】基板に割れや反りが発生することを抑制できる基板ケース及びそれを用いて基板に薬液処理を施す処理方法を提供する。
【解決手段】基板ケース１において、縦溝２０Ｇの一対の側面２０Ｌ，２０Ｍそれぞれは、配列方向に対して角度θ_２を有する。角度θ_２は、配列方向における基板Ｓの撓みに基づいて決定される。 （もっと読む）

処理システムが、基板の底面を露出させるように、それぞれが基板を支持するように構成された複数のチャックと、連続的な経路に沿って複数のチャックを案内するように構成されたトラックと、トラックがそれぞれのチャックを処理装置上で案内するとき、各基板の底面を処理するように構成され、トラックがそれぞれのチャックを処理装置上で案内するとき、各基板の底面に接触するように配置された流体メニスカスを含む処理装置とを含む。
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【課題】検査部を備えた塗布現像処理装置において、立ち上げ時に要する時間を短縮しコストを低減し、さらに検査部の稼働率を向上する。
【解決手段】塗布現像処理装置１の制御プログラムにおいて、ウェハＷをカセットステーション２から処理ステーション４に搬送して処理ステーション４及び露光装置でおいて処理し、その後カセットステーション２に戻す処理フローＦ_１と、ウェハＷをカセットステーション２から検査ステーション３に搬送して検査し、その後カセットステーション２に戻す検査フローＦ_２とを独立して実行できるように設定する。立ち上げ時に、検査フローＦ_２と処理フローＦ_１を実行し、同時期に検査ステーション３の検査ユニットの評価作業と処理ステーション４の処理ユニットの調整作業を行うことができる。検査ステーション３が空の時に外部からカセットステーション２にウェハＷを搬入し検査を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】省スペースで、水平姿勢の基板に対して処理具を移動させて基板に処理を行うことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】略水平方向に並べて設けられ、基板Ｗを略水平姿勢で保持する複数の処理ユニット１０１ａ、１０１ｂと、基板Ｗに現像液を供給するノズル１１１ａ、１１１ｂと、ノズル１１１ａ、１１１ｂを支持するアーム部材１１３ａ、１１３ｂと、アーム部材１１３ａ、１１３ｂを直線的に移動させる駆動部１２０ａ、１２０ｂと、を備えている。駆動部１２０ａ、１２０ｂは異なる高さ位置に配置され、平面視で一部重複している。アーム部材１１３ａは、駆動部１２０ｂと干渉しない形状を呈して、駆動部１２０ａが駆動部１２０ｂと平面視で一部重複している範囲にも移動可能である。このように、複数の駆動部１２０ａ、１２０ｂを平面視で一部重複させて設けているので、設置面積を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】基板に行う処理の工程を基板ごとに変更して、２以上の異なる工程の処理を並行して進めることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗに処理を行う基板処理装置１０において、基板Ｗを略水平方向に搬送しつつ基板Ｗに複数種類の処理を行うことが可能な基板処理列Ｌｕ、Ｌｄを上下方向に複数設けるとともに、基板Ｗに行う処理の工程を基板処理列Ｌｕ、Ｌｄごとに変更する制御部を備えている。基板Ｗに行う処理の工程を基板処理列Ｌｕ、Ｌｄごとに変更することで、基板Ｗに行う処理の工程を基板Ｗごとに好適に変更することができる。よって、基板Ｗごとに、基板処理列Ｌｕ、Ｌｄの数に相当する複数の異なる工程の処理を並行して進めることができる。 （もっと読む）

【課題】ウエハキャリア駆動装置およびそれを動作させるための方法
【解決手段】駆動レールは、密封内部空洞と、駆動レールの長手方向に沿って伸びる外側駆動表面とを含む。内部空洞内に、外側駆動表面のちょうど反対側で内部空洞の表面に隣接して第１の磁気部材が配置される。内部空洞内に、第１の磁気部材に関連して駆動メカニズムが配置され、該駆動メカニズムは、第１の磁気部材が外側駆動表面のちょうど反対側にあり続けるように、第１の磁気部材を内部空洞内において駆動レールの長手方向に沿って移動させるように構成される。第１の磁気部材は、外側駆動表面に隣接して配置されたウエハキャリアに外側駆動表面を通じて磁気的に結合するように構成される。内部空洞内における駆動レールに沿った第１の磁気部材の移動は、外側駆動表面に沿ったウエハキャリアの対応する移動を生じさせる。 （もっと読む）

【課題】水置換が完了する間に進行する過剰な現像を抑制し、エアナイフによる水の残跡の発生を抑制し、パターン品質が損なわれない、現像装置における基板搬送方法、基板搬送装置を提供する。
【解決手段】現像槽から水洗槽へは、その初期には現像液２０を基板の先端部の現像液量を多くＤ１、中期には先端部及び末端部での現像液量を少なくＤ２、末期には先端部での現像液量を少なくＤ２保って行い、水置換は現像液量の少ない先端部から開始する。水洗槽からエアナイフへの基板搬送は、その初期には水を先端部で水量を多くＤ１、中期には先端部及び末端部で少なくＤ２、末期には先端部での水量を少なくＤ２保って行い、エアナイフでの水の排除は水量の少ない基板の先端部から開始する。 （もっと読む）

【課題】 ウエハ状の物品の一方の表面上の、縁部側の所定の部分を、或る液体で処理し、しかも、（ウエハの外縁から測定して）２ｍｍより多い縁部領域を処理する可能性を示すこと。
【解決手段】 洗浄ガスの大部分をウエハ状の物品（Ｗ）の縁部領域でウエハ状の物品（Ｗ）から導き出すガス排出装置（４）が周囲に設けられ、また、第２の主面上の液体が縁部付近の所定の部分を濡らし、続いて、液体がウエハ状の物品（Ｗ）から除去される。 （もっと読む）

【課題】 ウエハ状の物品の一方の表面上の、縁部側の所定の部分を、或る液体で処理し、しかも、（ウエハの外縁から測定して）２ｍｍより多い縁部領域を処理する可能性を示すこと。
【解決手段】 洗浄ガスの大部分をウエハ状の物品（Ｗ）の縁部領域でウエハ状の物品（Ｗ）から導き出すガス排出装置（４）が周囲に設けられ、また、第２の主面上の液体が縁部付近の所定の部分を濡らし、続いて、液体がウエハ状の物品（Ｗ）から除去される。 （もっと読む）

【課題】基板の垂れることを防止してエッチング工程中エッチング液が溜まることなく、基板の両側に容易に流れることができる基板移送装置を提供する。
【解決手段】
本発明は、基板のエッチング工程中に基板を移送させる基板移送装置であって、基板が湾曲され、基板の両側にエッチング液が流れるように基板の両側を支持する基板支持台と、 基板が移送されるように基板支持台を移動させる移送駆動部とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】加工ヘッドがガラス基板の端を超えた位置まで移動してもエッチャント領域を安定にでき、ガラス基板の周縁部まで高精度な加工を可能とする。
【解決手段】中央開口部に合わせてガラス基板を垂直姿勢に保持するベース板５２の前面側に保持したガラス基板３の表面に加工ヘッド２によりエッチャントを供給し、吸引することにより、加工ヘッド２とガラス基板３との隙間に一定面積のエッチング領域をなすエッチャントの流路を形成し、加工ヘッド２とガラス基板３とを相対的に走査してガラス基板３の表面を加工する表面加工装置において、ベース板５２に形成した中央の開口部５１の周囲にガラス基板３の裏面側外周部を吸着保持する真空チャック部５４をそれぞれ設け、ダミー部材６０に高さ、傾き調整用のねじ６４、６５を設けた。 （もっと読む）

【課題】液晶表示パネルに用いられるガラス基板などの基板を薬液や純水などの処理液を供給して処理する際の各処理液の温度の差が大きいことにより基板が撓んでしまうことが抑制される基板処理方法を提供すること。
【解決手段】一定方向に搬送される基板の処理面に薬液を供給して薬液処理するに際し、隔壁で仕切られる複数の薬液処理室の各薬液処理室にて前記基板に供給される各薬液の温度を前記基板の搬送方向の上流側から下流側に向けて段階的に下げるようにした。 （もっと読む）

薄基板１６を搬送するためのローラ組であって、それぞれ上下二つのローラシャフト１０に固定された上ローラ１２と下ローラ１８とを備え、前記上ローラと下ローラのそれぞれが同一の線速度で時計回り方向と逆時計回り方向に沿って相対回転することで、薄基板を一方向に向かって搬送するローラ組である。前記上ローラは、固定ローラと該固定ローラにその外周面を囲むように固定された弾性片とを備える。上記薄基板搬送用ローラ組を用いてケミカル処理を施す方法であって、具体的に、一組又は一組以上のローラ組を用いて、前記薄基板を一方向に沿って連続移動させることによって、溶液で前記薄基板に対して連続ウェットケミカル処理を施す方法である。連続ウェットケミカル処理を施すために、上ローラは、如何なる状況においても、例え薄基板が下ローラから脱離されても安定に移動させるように構成されている。 （もっと読む）