【課題】保護回路の数が少ない半導体装置を提供する。
【解決手段】この半導体装置では、電源線ＶＬ１に保護回路４を接続し、電源線ＶＬ１，ＶＬ２の長さ方向に複数のダイオード対回路６を分散配置し、保護回路４から遠ざかるに従ってダイオード対回路６の密度を高める。各ダイオード対回路６は、電源線ＶＬ１，ＶＬ２間に互いに逆並列に接続された２つのダイオードＤ１，Ｄ２を含む。したがって、電源線ＶＬ１，ＶＬ２で保護回路４を共用するので、保護回路４の数が少なくて済む。 （もっと読む）

【課題】積層されたチップの面積を効率的に使用し、リペア動作のための非同期パラメータを減少させることができるようにした半導体集積回路及びその制御方法を提供する。
【解決手段】半導体集積回路１００は、マスターチップである第１チップ及び第１チップに積層されたスレーブチップである第２チップを備え、第２チップに第１メモリ領域ＢＫ０〜ＢＫ７が形成されるとともに、第１チップに前記第１メモリ領域の不良をリペアするための第２メモリ領域ＢＫ０ＳＲＡＭ〜ＢＫ７ＳＲＡＭが形成される。 （もっと読む）

【課題】レイアウトの複雑化や面積増大を伴わずにオフリーク電流の抑制と高速化を両立した半導体回路の実現。
【解決手段】通常動作モードと、少なくとも一部の回路に供給する信号を固定して、少なくとも一部の回路の状態を固定する低消費電力モードと、を備え、少なくとも一部の回路20において、低消費電力モード時にオン状態になるトランジスタPT1,PT3,NT2,NT4の閾値電圧が、低消費電力モード時にオフ状態になるトランジスタPT2,PT4,NT1,NT3の閾値電圧より小さい。 （もっと読む）

【課題】ＥＳＤ保護回路および入出力回路を持たない構造の集積回路チップ間のチップ間通信を行う多重集積回路チップ構造を提供する。
【解決手段】多重集積回路チップ構造は、テストおよびバーン・イン手順中に外部テスト・システムと通信するためのＥＳＤ保護回路３８７および入出力回路３８９を有するインターフェース回路３８５をテストするため集積回路の内部回路を選択的に接続するチップ間インターフェース回路３６０を有する。多重配線集積回路チップ構造は、集積回路チップを相互に物理的かつ電気的に接続するため１つ以上の第２の集積回路チップ３１０へ取付けられた第１の集積回路チップ３０５を有する。 （もっと読む）

【課題】兼用パッドのサイズを専用パッドよりも大きくするとともに、半導体装置のサイズ増大を抑制する。
【解決手段】半導体装置は、第１の方向に延伸された第１のエッジＥ１と、第１の方向と実質的に直交する第２の方向に延伸された第２のエッジＥ２とを含む半導体チップ１０と、半導体チップ上に形成され、互いに第２の方向に沿った長さが実質的に等しい複数の第１グループパッドＧＰ１と、半導体チップ上に形成され、第２の方向に沿った長さが、複数の第１グループパッドの第２の方向に沿った長さよりも長い、第２グループパッドＧＰ２と、を備える。複数の第１グループパッドと第２グループパッドとは、第２グループパッドと第２のエッジとの間に複数の第１グループパッドのいずれをも含まずに、第１の方向に沿って一列に並んで配置されている。 （もっと読む）

【課題】半導体集積回路に内蔵されたアナログ／デジタル変換器をテストするためのテスト信号発生器として半導体集積回路に内蔵されたデジタル／アナログ変換器を使用する際に、デジタル／アナログ変換器が正常なデジタル／アナログ変換動作を実行可能であるか否か動作検証することを可能とすること。
【解決手段】半導体集積回路１は、アナログ／デジタル変換器(ＡＤＣ)５とデジタル／アナログ変換器(ＤＡＣ)６とを内蔵する。ＤＡＣ６は、ＡＤＣ５をテストするためのテスト信号生成器として使用可能とされる。半導体集積回路１は、ＤＡＣ６の出力端子とＡＤＣ５の入力端子の間に入力端子と出力端子とが接続されたバッファ増幅器７を更に具備する。バッファ増幅器７の出力端子とＡＤＣ５の入力端子のいずれか一方は、半導体集積回路１の外部端子(Ｔ_１、Ｔ_２)として外部に導出される。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体膜をチャネル形成領域に用いたトランジスタにおいて、短チャネル効果による電気特性の変動を抑制し、微細化した半導体装置を提供する。また、オン電流を向上させた半導体装置を提供する。
【解決手段】非晶質領域である一対の第２の酸化物半導体領域と、一対の第２の酸化物半導体領域に挟まれた第１の酸化物半導体領域と、を有する酸化物半導体膜と、ゲート絶縁膜と、ゲート絶縁膜を介して第１の酸化物半導体領域上に設けられるゲート電極と、を有する半導体装置において、第２の酸化物半導体領域には、窒素、リン、又は砒素など１５族元素のいずれか一以上の元素が添加されている。 （もっと読む）

【課題】レジュームモードからノーマルモードに復帰する際のラッシュカレント（突入電流）のピーク電流を低減することができる半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置は、複数のディジーチェン接続されたメモリモジュールを備える。各メモリモジュール７７−ｉは、メモリアレイ４と、レジュームモードにおいて、メモリモジュール内の構成要素への電源電圧の供給を制御するスイッチ１６と、レジュームモードからノーマルモードへの移行を指示するレジューム制御信号を受けて、次段のメモリモジュールへ、入力されたレジューム制御信号よりもタイミングが遅延したレジューム制御信号を次段のメモリモジュールへ出力する遅延回路４２とを含む。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体膜をチャネル形成領域に用いたトランジスタにおいて、短チャネル効果による電気特性の変動を抑制し、微細化した半導体装置を提供する。また、オン電流を向上させた半導体装置を提供する。
【解決手段】非晶質領域である一対の第２の酸化物半導体領域と、一対の第２の酸化物半導体領域に挟まれた第１の酸化物半導体領域と、を有する酸化物半導体膜と、ゲート絶縁膜と、ゲート絶縁膜を介して第１の酸化物半導体領域上に設けられるゲート電極と、を有する半導体装置において、第２の酸化物半導体領域には、水素または希ガスのいずれかの元素が添加されている。 （もっと読む）

【課題】記憶保持期間において、電力が供給されない状況でも記憶内容の保持が可能で、かつ、書き込み回数にも制限が無い、新たな構造の半導体装置を提供すること。
【解決手段】トランジスタと、容量素子と、を有し、トランジスタは、第１の酸化物半導体層と、第１の酸化物半導体層と接するソース電極およびドレイン電極と、第１の酸化物半導体層と重なるゲート電極と、第１の酸化物半導体層とゲート電極との間に設けられたゲート絶縁層と、を有し、容量素子は、ソース電極またはドレイン電極と、ソース電極またはドレイン電極と接する第２の酸化物半導体層と、第２の酸化物半導体層と接する容量素子電極と、を有する半導体装置である。 （もっと読む）

【課題】ヒューズ（ＦＵＳＥ）を備えた半導体装置の信頼性を向上する。
【解決手段】半導体基板１１の主面上に形成にされた多層配線を構成する層Ｍ１〜Ｍ６のうちの層Ｍ４に設けられた電気溶断型の救済用のヒューズ４ａおよび試験用のヒューズ４ｂと、ヒューズ４ａの近傍であって層Ｍ２および層Ｍ６に設けられた一対の導電板１０ａと、ヒューズ４ｂの近傍であって層Ｍ３および層Ｍ５に設けられた一対の導電板１０ｂとから構成する。ヒューズ４ｂと導電板１０ｂとの間が、ヒューズ４ａと導電板１０ａとの間より近いものとする。 （もっと読む）

【課題】大量生産が可能で、かつ従来の小型素子とは異なる構造を有する半導体装置を提供する。また、強度を向上させることが可能であり、作製段階における素子の破壊を抑制することができ、信頼性及び歩留まりの高い半導体装置の構造、及び半導体装置の作製方法を提供することを目的としている。
【解決手段】集積回路を有する層と、集積回路を有する層上に形成され、集積回路を有する層と電気的に接続された第１の端子と、第１の端子上に形成され、第１の端子と電気的に接続されたアンテナとして機能する導電層と、集積回路を有する層上に形成され、集積回路を有する層と、アンテナとして機能する導電層と、第１の端子と電気的に接続されていない第２の端子を有する。 （もっと読む）

【課題】トランジスタのしきい値電圧を最適な値に保持可能な半導体回路を提供すること。またトランジスタのしきい値電圧を制御可能な半導体回路、及びその駆動方法を提供すること。また上記半導体回路を適用した記憶装置、表示装置、及び電子機器を提供すること。
【解決手段】被制御トランジスタのバックゲートに接続されるノードに、ダイオードと第１の容量素子を設け、トランジスタのしきい値電圧が最適になるように所望の電圧を印加可能で且つその電圧を保持することができる構成とし、さらにダイオードに並列に接続された第２の容量素子を設け、当該ノードの電圧を一時的に変化させられる構成とすればよい。 （もっと読む）

【課題】メーカーの設計負担を増加させることなくセルタイプの異なるＩＣを実現することができるとともに、チップサイズおよび消費電力並びに動作速度が最適化された半導体集積回路を容易に実現可能な設計技術を提供する。
【解決手段】所望の機能を有する回路セルの設計情報を目的別にオブジェクトとして記述し、所定のオブジェクトの情報の削除もしくは追加のみで基体電位固定型セルと基体電位可変型セルのいずれをも構成可能なセル情報として、セルライブラリに登録するようにした。 （もっと読む）

【課題】貫通電極を有する積層構造の半導体装置、半導体メモリ装置、半導体メモリ・システム及びその動作方法を提供する。
【解決手段】複数の半導体レイヤ間で伝送される情報の衝突を防止する構造を有する半導体装置であり、該半導体装置は、第１温度情報を出力する第１温度センサ回路を含む少なくとも１つの第１半導体チップと、貫通電極に電気的に連結されずに、第１温度センサ回路に電気的に連結される第１バンプと、第１半導体チップの貫通電極に電気的に連結される第２バンプと、を具備する半導体装置であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】広範囲、光分解能に周波数を可変することのできるクロック信号を生成する。
【解決手段】オペアンプＡＭＰ１は、正入力部と負入力部が等しい電圧となるようフィードバックがかかり、回路ノードｆｂｃｋは、参照電圧ＶＲＥＦＩに等しい電圧となる。デコーダＤＥＣは、制御信号ＣＮＴ７，ＣＮＴ６をデコードし、トランジスタＴ２〜Ｔ５のいずれか１つをオンさせる。この構成によって、回路ノードｆｂｃｋが、参照電圧ＶＲＥＦＩと同電位となるようフィードバック制御がかかるため、トランジスタＴ２〜Ｔ５のＯＮ抵抗を大幅に低減することができ、周波数精度の悪化を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】半導体装置を高集積化する。
【解決手段】本実施形態の半導体装置は、絶縁体内に設けられ、半導体集積回路を含んでいる半導体基板７０と、絶縁体の開口部ＰＯＰを介してその上面が露出するパッド９０と、パッド９０下方において半導体基板７０のキャパシタ領域９１内に設けられる複数のキャパシタ１と、を具備し、キャパシタ１は、所定の被覆率を満たすように、パッド９０下方のキャパシタ領域９１内に設けられ、キャパシタ１の２つの電極にそれぞれ接続されるコンタクト１８Ａ，１８Ｇは、開口部ＰＯＰと上下に重ならない位置に設けられている。 （もっと読む）

【課題】複数の電圧レベルの電源電圧が供給される入出力バッファ回路に対して、従来よりも少ない電源配線スペースで十分な電源供給を可能にする。
【解決手段】半導体装置３において、入出力バッファ回路ＢＦは電圧レベルの変換を行なう。第１の電源配線ＨＶＬは、入出力バッファ回路ＢＦの第１の回路部分ＨＣと接続され、第１の回路部分ＨＣに第１の電源電圧ＶＣＣ１を供給する。第２の電源配線ＬＶＬは、入出力バッファ回路ＢＦの第２の回路部分ＬＣと接続され、第２の回路部分ＬＣに第２の電源電圧ＶＣＣ２を供給する。複数のスイッチ部ＳＷは、第３の電源配線ＳＶＬに沿った複数箇所にそれぞれ設けられる。複数のスイッチ部ＳＷの各々は、内部回路１０から出力された制御信号に応じて、第１および第２の電源配線ＨＶＬ，ＬＶＬのうち選択された一方の電源配線と第３の電源配線ＳＶＬとを接続する。 （もっと読む）

【課題】浅いトレンチ分離および基板貫通ビアの集積回路設計への統合を提供すること。
【解決手段】ＩＣを製造する方法は、第１の側、および第２の対向する側を有する基板を用意すること、基板の第１の側にＳＴＩ開口を形成すること、および基板の第１の側に部分的ＴＳＶ開口を形成すること、および部分的ＴＳＶ開口を延長することを含む。延長された部分的ＴＳＶ開口は、ＳＴＩ開口より基板内への深さが深い。方法はまた、ＳＴＩ開口を第１の固体材料で充填すること、および延長された部分的ＴＳＶ開口を第２の固体材料で充填することを含む。ＳＴＩ開口、部分的ＴＳＶ開口、または延長された部分的ＴＳＶ開口のいずれも、基板の第２の側の外面を貫通しない。少なくとも、ＳＴＩ開口および部分的ＴＳＶ開口は同時に形成され、またはＳＴＩ開口および延長された部分的ＴＳＶ開口は同時に充填される。 （もっと読む）