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Fターム[5F041CA74]の内容

発光ダイオード (162,814) | LED形式 (36,241) | 製造方法 (9,002) | エッチング (2,018)

Fターム[5F041CA74]に分類される特許

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【課題】発光デバイスにおいて、多重量子井戸での発熱を抑制する。
【解決手段】発光デバイスは、n型層と、p型層と、活性領域と、基板とを含む。n型層は、活性領域に横方向で電子を注入するために、活性領域に実質的に垂直な第1の接触領域で活性領域と接している。基板は、GaN、サファイア、シリコン、シリコンカーバイド、石英、酸化亜鉛、ガラスおよびガリウムヒ素を含むグループから選択される材料からなる。 (もっと読む)


【課題】本発明は偏光性を有する半導体発光素子に関する。
【解決手段】半導体発光素子40は、第1導電型半導体層44、活性層46及び第2導電型半導体層48が積層された半導体構造物を含む半導体発光素子において、上記半導体構造物は上記第2導電型半導体層から少なくとも活性層に至るまでの深さを有するように一定方向に沿って配列された複数の溝領域により形成された複数の光ガイド部Gを含み、上記複数の光ガイド部は長さ方向に該当する偏光成分が選択的に放出されるようにその幅より大きい長さを有する。 (もっと読む)


【課題】 発光効率が高く信頼性の高い窒化物半導体発光素子を提供する。
【解決手段】本発明の実施の形態の窒化物半導体素子は、第1の主面上の面内方向に形成された複数の凸部1aと、隣接する前記凸部の間の凹部1bと、を有する基板1と、前記基板1の前記凹部1a及び前記凸部1b上に形成されたAlx1Ga1−x1N(0≦x1≦1)第1埋込層2と、前記第1埋込層2上に形成されたInAlGa1−y−zN(0<y≦1、0≦z≦1)埋込層3と、前記埋込層3上に形成されたAlx2Ga1−x2N(0≦x2≦1)第2埋込層4と、を備える。前記第1埋込層2の前記凹部1bの上に形成された部分と、前記第1埋込層2の前記凸部1aの上に形成された部分とは、互いに結合しない。前記埋込層3の前記凹部1bの上に形成された部分と、前記埋込層3の前記凸部1aの上に形成された部分とは、互いに結合している。 (もっと読む)


【課題】所望のパターンが形成でき、製造工程の迅速化を図ることが可能なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本実施形態のパターン形成方法は、下地10の上に第1の膜11を選択的に形成する工程と、前記第1の膜11および前記第1の膜に覆われていない前記下地10の上に、第2の膜13を形成する工程と、前記第2の膜13の平均結晶粒径を前記第2の膜13の膜厚以上に調整する工程と、前記第1の膜11のエッチャントを前記第2の膜13の表面に晒し、前記第1の膜11の上に形成された前記第2の膜13を前記下地上から選択的に除去する工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】厚み方向の一面側からの光取り出し効率の向上を図れる紫外半導体発光素子を提供する。
【解決手段】n形窒化物半導体層3とp形窒化物半導体層5との間に発光層4を有するとともに、n形窒化物半導体層3に接触するn電極6と、p形窒化物半導体層5に接触するp電極7とを有し、p形窒化物半導体層5が、発光層4よりもバンドギャップが小さくp電極7との接触がオーミック接触となるp形コンタクト層5bを備えている。p形窒化物半導体層5における発光層4とは反対側の表面に、p電極7の形成領域を避けて凹部8が形成され、凹部8の内底面8aに、発光層4から放射される紫外光を反射する反射膜9が形成されている。 (もっと読む)


【課題】大発光量、高発光効率、均一面発光を実現し得るコストの安価な発光ダイオード、それを用いた発光装置、照明装置及びディスプレイを提供する。
【解決手段】n型半導体層21及びp型半導体層23は、支持層1の一面上で積層されている。p側電極4は、支持層1側に位置するn型半導体層21を、支持層1の側から貫通し、先端がp型半導体層23に達している。n側電極は、n型半導体層21の、支持層1の側に位置する面に形成された薄膜電極3である。 (もっと読む)


【課題】半導体層に加わる応力を緩和し、発光効率の向上が可能な半導体発光装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、発光部10dと第1導電部30aと第2導電部30bと第1絶縁層21と封止部50と光学層60とを備えた半導体発光装置が提供される。発光部は、第1主面10bと第2主面10aとを有する半導体積層体10と、第2主面に設けられた第1、第2電極と、を含む。第1、第2導電部は、それぞれ第1、第2電極に接続され、第2主面に立設された第1、第2柱部を含む。第1絶縁層は第1、第2柱部の少なくとも一部と半導体積層体との間に設けられる。封止部は第1、第2導電部の側面を覆う。光学層は、半導体積層体の第1主面に設けられ発光部10dから放出された発光光の波長を変換する波長変換部を含む。 (もっと読む)


【課題】電極の接続性を高く維持し、小型化に適した半導体発光装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、発光部10dと第1導電部30aと絶縁層20と第2導電部30bと封止部50と光学層60とを備えた半導体発光装置が提供される。発光部は、第1半導体層、発光層及び第2半導体層を含む半導体積層体10と、第2主面10aの側で第1、第2半導体層に接続された第1、第2電極14、15と、を含む。第1導電部は、第1電極に接続され、第2半導体層と離間しつつ第2半導体層の一部12pを覆う第1柱部31aを含む。絶縁層20は第2半導体層と第1柱部との間に設けられる。第2導電部は第2電極に接続され第2主面の上に立設される。封止部は第1、第2導電部の側面を覆う。光学層は、半導体積層体の第1主面10bに設けられ、波長変換部を含む。 (もっと読む)


【課題】発光素子の耐久性および発光効率を向上させ、小型化を図る。
【解決手段】発光素子は、基板と、第1の半導体層、前記第1の半導体層上に設けられた発光層、および前記発光層の上に設けられた第2の半導体層を有し、前記基板の第1の主面側に設けられた半導体多層構造体と、前記半導体多層構造体の前記第2の半導体層上に設けられた電極と、前記基板を貫通して前記第1の半導体層に接続し、前記基板の第2の主面側に設けられた第1のビア電極と、前記基板および前記半導体多層構造体を貫通して前記電極に接続し、前記基板の前記第2の主面側に設けられた第2のビア電極と、を備え、前記第1のビア電極および前記第2のビア電極の少なくともいずれかのビア電極であって、前記第2の主面側の一部に、凹みが設けられている。 (もっと読む)


【課題】発光効率の高い発光装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る発光装置100では、微細壁状部材112,113は、第1面104aに隣接した第3層114と、第2面106aに隣接した第4層116と、第3層114と第4層116とに挟まれた第5層と、を有し、半導体部材118は、微細壁状部材112,113に挟まれており、第1層104および第2層106の材質は、GaNであり、第3層114、第4層116、第5層、および半導体部材118の材質は、InGa1−xN(0<x<1)であり、第5層のxの値は、第3層114のxの値、第4層116のxの値、および半導体部材118のxの値より大きく、第5層は、光を発生させ、かつ光を導波させる層であり、第3層114および第4層116は、第5層で発生した光を導波させる層であり、第1層104および第2層106は、第5層で発生した光の漏れを抑制する層である。 (もっと読む)


【課題】半導体層とメッキ基板との反りを低減して量産性にすぐれて簡単な半導体発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体発光素子の製造方法は、成長基板30上に窒化物半導体層10を形成する工程と、窒化物半導体層10の上面であるp側表面をp電極層4とp保護層7とで被覆する工程と、p電極層4およびp保護層7の上にシード層9を形成する工程と、シード層9の上面において素子間の境界線上の一部に絶縁層20を形成する工程と、シード層9の上にメッキ層を形成する工程と、絶縁層20を除去して素子間の境界線上におけるメッキ層の一部に隙間部40を形成してメッキ基板8とする工程と、成長基板30を剥離する工程と、成長基板30を剥離して現れた窒化物半導体層10のn側表面に、素子間の境界線に沿って溝35を形成する工程と、n側電極5を形成する工程と、メッキ基板8を素子間の境界線に沿って切断する工程とを行う。 (もっと読む)


【課題】小型半導体発光装置を用いた放熱性が高い光源装置を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、半導体発光装置110と、実装基板250と、第1接続材230aと、第2接続材230bと、を備えた光源装置が提供される。半導体発光装置は、発光部10dと、第1導電部30aと、第2導電部30bと、封止部50と、光学層60と、を含む。実装基板は、基体201と、第1基板電極210a及び第2基板電極210bと、を含む。接続材は、導電部と基板電極とを電気的に接続する。第1、第2導電部は、発光部の電極に電気的に接続され、第2主面の上に立設された第1、第2柱部を含む。封止部は第1、第2導電部の側面を覆う。光学層は波長変換部を含み半導体積層体の第2主面とは反対側に設けられる。第2基板電極の面積は、第2柱部の断面積の100倍以上である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、発光ダイオードに関する。
【解決手段】本発明の発光ダイオードは、基板と、第一半導体層と、第二半導体層と、活性層と、第一電極と、第二電極と、三次元ナノ構造体アレイと、を含む。前記第一半導体層、前記活性層、及び前記第二半導体層は、前記基板から離れる方向に順次的に前記基板に積層されている。前記第一電極は、前記第一半導体層に電気的に接続され、前記第二電極は、前記第二半導体層に電気的に接続される。前記三次元ナノ構造体アレイは、前記第二半導体層の前記活性層と隣接する表面とは反対の表面に配置される。前記三次元ナノ構造体アレイは複数のナノ構造体を含み、前記ナノ構造体は梯形三次元ナノ構造体である。 (もっと読む)


【課題】発光面内での電流密度及び輝度のばらつきを低減した半導体発光装置を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、半導体発光装置は、半導体層と、第1の電極と、第2の電極と、第1の絶縁層と、第1の配線層と、第2の配線層と、第1の金属ピラーと、前記第2の金属ピラーと、第2の絶縁層と、を備えた。前記半導体層は、第1の主面と、その反対側に形成された第2の主面と、発光層とを含む。前記第1の電極は、前記第2の主面における前記発光層を有する領域に設けられた。前記第2の電極は、前記第2の主面に設けられ、平面視で前記第1の電極に挟まれている。 (もっと読む)


【課題】発光効率の高い発光装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る発光装置100では、第5層は、光を発生させ、かつ光を導波させる層であり、第3層114および第4層116は、第5層で発生した光を導波させる層であり、第1層104および第2層106は、第5層で発生した光の漏れを抑制する層であり、構造体110は、第1面104aおよび第2面106aと接続する第3面110aと、第1面104aおよび第2面106aと接続し、第3面110aと対向する第4面110bと、を備え、微細壁状部材112,113は、第1面104aの垂線方向から平面視して、第3面110aから第4面110bまで設けられ、第3面110aおよび第4面110bの少なくとも一方には、出射面が設けられ、微細壁状部材112,113の少なくとも一方と、半導体部材118とは、出射面の少なくとも一部を構成し、出射面は、第5層で発生した光を出射する。 (もっと読む)


【課題】発光特性及び注入電流均一性に優れ、十分な耐性を有する窒化物半導体発光素子を提供する。
【解決手段】第一の主面101aと第二の主面101bを有し、窒化物半導体基板101と、第一の主面101aに接して形成された第一の窒化物半導体層102と、第一の窒化物半導体層102の第一の主面101aと接する側とは反対側に形成された、n型窒化物半導体層103、活性層104及びp型窒化物半導体層105を含む積層体と、n型窒化物半導体層103に電気的に接続されたn側電極106と、p型窒化物半導体層105に電気的に接続されたp側電極107とを備える。第一の窒化物半導体層102は、アンドープの窒化物半導体層である。また、第二の主面101bが光取り出し面とする窒化物半導体発光素子である。 (もっと読む)


【課題】LEDや高電子移動度トランジスタなどのデバイス用として有用なIII−V族窒化物品の提供。
【解決手段】自立III−V族窒化物基板上に堆積したIII−V族窒化物ホモエピタキシャル層を含むホモエピタキシャルIII−V族窒化物品であって、前記III−V族窒化物ホモエピタキシャル層が1E6/cm2未満の転位密度を有しており、(i)前記III−V族窒化物ホモエピタキシャル層と前記自立III−V族窒化物基板の間に酸化物を有するか、(ii)前記III−V族窒化物ホモエピタキシャル層と前記自立III−V族窒化物基板の間にエピ中間層を有するか、
(iii)前記自立III−V族窒化物基板がオフカットされており、前記III−V族窒化物ホモエピタキシャル層が非(0001)ホモエピタキシャルステップフロー成長結晶を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】従来の化合物半導体基板に比べて反りが小さく、これによって割れにくく、またハンドリングが容易であるという化合物半導体基板の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、GaAs基板11上に発光層13をエピタキシャル成長させる工程と、該発光層の前記GaAs基板と反対側となる片方の主表面(第一主面)にp型GaP窓層14を気相成長させる工程とを有する化合物半導体基板の製造方法において、前記p型GaP窓層を気相成長させた後に、該p型GaP窓層の表面上に厚さ1μm以上のGaAs層15を気相成長させることを特徴とする化合物半導体基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】従来よりも簡便な工程により、横モードが安定した窒化物半導体からなる半導体発光素子を製造できるようにする。
【解決手段】半導体発光素子は、第1のクラッド層111、活性層113及び第2のクラッド層116を有する窒化物半導体層101と、活性層113に選択的に電流を注入する電流ブロック層121とを備えている。第2のクラッド層116は、ストライプ状のリッジ部116a有している。電流ブロック層121は、リッジ部116aの両側方の領域にそれぞれ形成され、結晶構造を有する酸化亜鉛からなる。 (もっと読む)


【課題】信頼性に優れた半導体発光装置を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、半導体発光装置は、半導体層と、第1の電極と、第2の電極と、絶縁層と、第1の配線層と、第2の配線層と、第1の金属ピラーと、第2の金属ピラーと、樹脂層と、導電材と、を備えた。樹脂層は、第1の金属ピラーの側面と第2の金属ピラーの側面との間に設けられ、導電材は、樹脂層における第1の金属ピラーと第2の金属ピラーとの間の表面に設けられ、第1の金属ピラーと第2の金属ピラーとを電気的に接続する。 (もっと読む)


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