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絶縁シート、積層板及び多層積層板
【課題】硬化物の熱伝導性が高く、従って硬化物の放熱性を高めることができ、さらに硬化物の表面に導体層が形成されたときに、硬化物と導体層との接着強度を高めることができる絶縁シートを提供する。
【解決手段】ビスフェノールS骨格を有し、かつ重量平均分子量が1万以上であるフェノキシ樹脂(A)と、重量平均分子量が1万未満であるエポキシ樹脂(B1)及び重量平均分子量が1万未満であるオキセタン樹脂(B2)の内の少なくとも一方の樹脂(B)と、硬化剤(C)と、熱伝導率が10W/m・K以上であるフィラー(D)とを含み、前記フィラー(D)の含有量が20〜90体積%の範囲内である、絶縁シート。
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絶縁シート及び積層構造体
【課題】未硬化状態でのハンドリング性に優れており、積層プレス時に過度の流動を抑制でき、かつ熱伝導性、加工性及び耐熱性に優れた硬化物を与える絶縁シートを提供する。
【解決手段】芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量1万以上のポリマー(A)と、重量平均分子量1万未満のエポキシ樹脂(B1)及びオキセタン樹脂(B2)の内の少なくとも一方の樹脂(B)と、硬化剤(C)と、熱伝導率が10W/m・K以上であり、かつ新モース硬度3.1以上の第1の無機フィラー(D)と、有機樹脂フィラー(E1)及び新モース硬度3以下の第2の無機フィラー(E2)の内の少なくとも一方の物質(E)とを含有し、第1の無機フィラー(D)の含有量が20〜60体積%、かつ物質(E)の含有量が1〜40体積%である絶縁シート。
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誘電体セラミックおよび積層セラミックコンデンサ
【課題】 誘電率の温度係数が正でありながら、誘電率の高い、温度補償用セラミックコンデンサに好適な誘電体セラミックを提供する。
【解決手段】 SnmNb2O6(0.7≦m≦1.3)を主成分とする。
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高熱膨張率及び低熱伝導率を有する絶縁基板
【課題】高熱膨張率及び低熱伝導率を有する絶縁基板用絶縁材料、その製造方法及びその応用製品を提供する。
【解決手段】化学組成KAlSi2+xO6+2x(0.5≦x≦1.8)を有するケイ酸アルミ焼結体からなる、熱電発電素子を構成する絶縁基板用絶縁材料であって、相対密度が95%以上の緻密なケイ酸アルミニウムセラミックからなり、熱疲労による発電能力の低下が抑制された特性を有することを特徴とする熱電発電素子を構成する絶縁基板用絶縁材料、その製造方法、絶縁基板及びその応用製品。
【効果】高熱膨張率及び低熱伝導率を有する絶縁基板を提供すると共に、該絶縁基板を用いた熱疲労に優れ出力特性の高い熱電素子を提供することができる。
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誘電体セラミック及び積層セラミックコンデンサ
【課題】誘電体セラミック層が1μmまで薄層化した場合でも積層セラミックコンデンサの信頼性を確保。
【解決手段】組成式が100(Ba1−xCax)mTiO3+aMnO+bCuO+cSiO2+dMgO+eRO(但し、係数100、a、b、c、d、eはモル比、mは(Ba1−xCax)のTiに対するモル比、ROはY2O3、La2O3、2CeO2、Nd2O3、Sm2O3、Eu2O3、Gd2O3、Tb2O3、Dy2O3、Ho2O3、Er2O3、Tm2O3、Yb2O3、Lu2O3から選択される希土類元素酸化物)で表される誘電体セラミックであって、上記組成式のm、x、a、b、c、d、eは、それぞれ、0.998≦m≦1.030、0≦x<0.04、0.01≦a≦5、0.05≦b≦5、0.2≦c≦8、0.05≦d≦3.0、0.05≦e≦2.5の関係を満足し、且つ平均粒径が0.35μm以上、0.65μm以下である。
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誘電体セラミックおよび積層セラミックコンデンサ
【課題】ABO3(Aは、Baを必ず含み、さらにCaおよびSrの少なくとも一方を含むことがある。Bは、Tiを必ず含み、さらにZrおよびHfの少なくとも一方を含むことがある。)を主成分とし、副成分として、Siを含む、誘電体セラミックについて、その誘電率を高める。
【解決手段】誘電体セラミック11は、ABO3系の主成分からなる主相粒子12と、主相粒子12とは異なる組成を有する二次相粒子13とを含む。この誘電体セラミック11中のSiの全含有量に対する、二次相粒子13中のSi含有量の割合を40%以上とし、Siの分布を二次相粒子13により多く集中させる。二次相粒子中のSi含有量は30モル%以上であることが好ましい。
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誘電体セラミックおよび積層セラミックコンデンサ
【課題】SrTiO3系誘電体セラミックは一般に誘電率が低いとされるが、SrTiO3系誘電体セラミックにおいて、より高い誘電率が得られるようにし、これを用いた積層セラミックコンデンサの小型化を図れるようにする。
【解決手段】誘電体セラミック層2を構成する誘電体セラミックとして、主成分が組成式:(Sr1−x−ySnxBay)TiO3で表わされ、かつこの組成式において、xが0.005≦x≦0.24、yが0≦y≦0.25である、誘電体セラミックを用いる。上記主成分100モルに対して、M(Mは、MnおよびVの少なくとも一方)を、MOに換算して、0.01モル〜5モル、および/または、Siを、SiO2に換算して、0.2モル〜5モル含むことが好ましく、さらに、上記主成分100モルに対して、Caを、CaOに換算して、0.1モル〜25モル含むことがより好ましい。
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絶縁被覆方法、絶縁体及び、電圧機器
【課題】電圧機器の導電部材の絶縁処理において地球環境保全に貢献すると共に、ヒートサイクル後にも十分な耐久性(例えば、強度、耐劣化性等)や電気的特性を有する絶縁被覆方法及び絶縁体を提供する。
【解決手段】生物由来物質(生分解性樹脂等)を基材とする高分子材料に対しシリカ粉末を添加し混練して得られる高分子組成物を得る。この高分子組成物をバイオポリマーコンパウンドとし、バイオポリマーコンパウンドを微紛化して得られる絶縁性粉体を電圧機器の導電部材にパウダーコーティングすることにより、該導電部材の被絶縁処理部位に対して生物由来絶縁部材を被覆する。
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焼結助剤用ホウケイ酸塩系ガラス組成物、誘電体組成物、及びこれを利用した積層セラミックキャパシタ
【課題】セラミック誘電体を低温で焼結することができ、積層セラミックキャパシタの高温絶縁抵抗特性を向上させることのできる焼結助剤用ホウケイ酸塩系ガラス組成物を提供し、これを含む誘電体組成物、及びこれを利用した積層セラミックキャパシタを提供する。
【解決手段】本発明による焼結助剤用ホウケイ酸塩系ガラス組成物は、アルカリ酸化物、アルカリ土類酸化物、及び希土類酸化物を含むもので、セラミック誘電体を低温で焼結することができ、積層セラミックキャパシタの高温絶縁抵抗特性を向上させる。これにより、これを含む誘電体組成物及びこれを利用した積層セラミックキャパシタは、1100℃以下の低温焼結が可能であり、高容量を有し、電気的特性及び高温絶縁抵抗(Hot IR)特性に優れて高信頼性が確保される。
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磁気組成物及びインダクタ並びに電子回路用基板
【課題】 800℃から850℃程度の低温で焼結が行える磁気組成物を提供すること
【解決手段】 40〜50mol%のFe2O3,15〜25mol%のNiO,5〜20mol%のCuO,15〜25mol%のZnOからなるフェライト材料に、下記組成のビスマス系ガラスを1〜10vol%を混合して形成される組成とし、当該ビスマス系ガラスの成分は、Bi2O3を40〜96wt%,ZnOを0〜30wt%,SiO2を0wt%〜20wt%,B2O3を0wt%〜25wt%,BaOを0wt%〜8wt%,Al2O3を0〜8wt%という関係を満たす組成配分とした。目的とする低温で焼結が行えるようになり、誘電率も50以上の値を得ることができる。
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低温焼成用低誘電率セラミック誘電体組成物及び低誘電率セラミック誘電体
【課題】800℃〜950℃の低温焼成が可能であり、4.5〜6.0(1MHz)の低い誘電率及び低い誘電損失率を有する低温焼成用低誘電率セラミック誘電体組成物及びこれを低温で焼成して製造した低誘電率セラミック誘電体を提供する。
【解決手段】低温焼成用低誘電率セラミック誘電体組成物において、SiO2、B2O3、Al2O3、アルカリ土類酸化物及びアルカリ金属酸化物を含有するホウケイ酸塩ガラスフリット44重量%〜65重量%、充填材34重量%〜55重量%、及びZrO2、TiO2、La2O3及びWO3の中から選択された1種又は2種以上の核形成剤0.1重量%〜5重量%とを含むことを特徴とする。
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電線用低誘電率材料及び電線
【課題】良好な柔軟性を維持しながら十分に低い誘電率を有する成型品を形成することが可能な電線用低誘電率材料を提供すること。
【解決手段】高分子バインダー10と、高分子バインダー10中に分散している中空ガラス粒子20とを含有する電線用低誘電率材料。高分子バインダー10は、結晶性高分子相11及び結晶高分子相11中に分散している島状のゴム相12から構成される海島構造を形成している。中空ガラス粒子20の割合は、高分子バインダー10及び中空ガラス粒子20の合計量を基準として60質量%以下である。中空ガラス粒子20は、50μm以下の平均粒径と0.4μm以上の真比重とを有している。
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ガラスセラミックス焼結体
【課題】安価に安定した品質で製造でき、アノーサイト結晶を析出するガラスセラミックス誘電体材料を提供する。
【解決手段】SiO2−Al2O3−CaO−B2O3系ガラス粉末とAl2O3粉末からなるガラスセラミックス誘電体材料を焼成してなり、1〜20GHz以上の領域において比誘電率が6〜8であるガラスセラミックス焼結体において、ガラス粉末が、B2O3を5〜9質量%含有し、かつB2O3の全量をSiO2に置換したときのSiO2、Al2O3及びCaOの組成比が、SiO2−Al2O3−CaO三成分系組成図におけるA点(SiO2 64.4質量部、Al2O3 16.9質量部、CaO 18.7質量部)、B点(SiO2 62.1質量部、Al2O3 9.9質量部、CaO 28.0質量部)、及びC点(SiO2 47.3質量部、Al2O3 19.0質量部、CaO 33.7質量部)を頂点とする三角形の領域内にあることを特徴とすることを特徴とするガラスセラミックス焼結体。
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無機充填剤含有重合性組成物、プリプレグ、積層体、及び誘電体デバイス
【課題】高比誘電率かつ低誘電正接であり、比誘電率の温度変化が小さく、しかも耐熱性、及び冷熱衝撃試験での耐クラック性に優れた積層体の製造に有用な、重合性組成物及びプリプレグ、並びに該積層体、さらに該積層体を用いてなる誘電体デバイスを提供すること。
【解決手段】シクロオレフィンモノマー、重合触媒、架橋剤、架橋助剤、及び比誘電率が15以上で、かつ比誘電率の温度変化率が正である無機充填剤を含有してなる重合性組成物、前記重合性組成物を強化繊維に含浸させた後に重合してなるプリプレグ、前記プリプレグと、当該プリプレグ及び/又は他の材料とを積層した後、硬化してなる積層体、並びに該積層体を用いてなる誘電体デバイス。
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グリーンシート用セラミック粉末および多層セラミック基板並びに多層セラミック基板の製造方法
【課題】900℃以下での低温焼成が可能であると共に、高周波帯(マイクロ波やミリ波帯)での誘電特性に優れ、吸湿性が低く、且つ銀系導体ペーストと同時焼成した際に反りや皺が小さい低温焼成セラミック基板を与えるグリーンシート用セラミック粉末を提供する。
【解決手段】ガラス粉末とアルミナ粉末とを含有するグリーンシート用セラミック粉末であって、前記ガラス粉末が、35〜39重量%のSiO2と、9〜17重量%のAl2O3と、21〜40重量%のB2O3と、10〜20重量%のR’O(但し、R’は、Mg、Ca及びBaからなる群より選択された少なくとも1種である)と、0.2〜2重量%のLi2Oと、0.5〜2重量%のMO2(但し、Mは、Ti及びZrからなる群から選択される少なくとも1種である)とを含み、全体で100重量%であり、前記アルミナ粉末の中心粒子径が、1.3μm以上5μm以下である。
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配線基板用ガラスセラミックス組成物及びガラスセラミックス焼結体
【課題】結晶化度が高いにもかかわらず、緻密な焼結体を得ることが可能な配線基板用ガラスセラミックス組成物及びガラスセラミックス焼結体を提供する。
【解決手段】焼成すると主結晶としてディオプサイド(CaMgSiO6)、コージェライト(Mg2Al4Si5O18)、又はフォルステライト(Mg2SiO4)を析出する性質を有する結晶性ガラス粉末を含む配線基板用ガラスセラミックス組成物であって、ガラス組成中にアニオン成分としてフッ素(F)を0.1〜3モル%含有することを特徴とする。
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窒化珪素質焼結体およびその製法ならびに回路基板、パワー半導体モジュール
【課題】 高強度高靱性化を図ることができるとともに、放熱性を向上することができる窒化珪素質焼結体およびその製法ならびに回路基板、パワー半導体モジュールを提供する。
【解決手段】 β−Si3N4及びβ−サイアロンのうち少なくとも1種の結晶粒子1と粒界相3とからなる窒化珪素質焼結体であって、結晶粒子1内に、該結晶粒子1の他の部分4よりもAl存在量が多いAl多領域部5を有するとともに、該Al多領域部5が希土類元素を含有する被覆層6で覆われていることを特徴とする。これにより、焼結体の強度と靱性を向上できるとともに、焼結体の熱伝導率を高くすることができ、放熱性を向上できる。
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セラミック組成物、セラミックグリーンシート、及びセラミック電子部品
【課題】焼成時の収縮挙動を抑制しつつ、誘電特性を従来と比べて飛躍的に向上させることができ、しかも信頼性を確保できるようにした。
【解決手段】セラミック組成物は、B2O3−SiO2−Al2O3−MO系ガラス組成物(ただし、MはCa、Mg、Sr、及びBaの中から選択された少なくとも1種を示し、B2O3:4〜17.5重量%、SiO2:28〜50重量%、Al2O3:0〜20重量%、MO:36〜50重量%である。)を26〜60重量%含有すると共に、SrTiO3及びCaTiO3のうちの少なくとも1種を30〜65重量%含有し、かつ、Cu、Mn、Zn、及びCaの中から選択された少なくとも1種を含む金属酸化物が10重量%以下(ただし、0重量%を含む。)に調製されている。このセラミック組成物を焼成してセラミック焼結体2を作製し、該セラミック焼結体2を有する複合LC部品20を得る。
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絶縁シート及び積層構造体
【課題】熱伝導率が10W/m・K以上の熱伝導体を導電層に接着するのに用いられ、未硬化状態でのハンドリング性に優れており、加工性に優れた硬化物を得ることができ、さらに絶縁破壊特性、熱伝導性及び耐熱性に優れた硬化物を得ることができる絶縁シートを提供する。
【解決手段】熱伝導率が10W/m・K以上の熱伝導体4を導電層2に接着するのに用いられ、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量3万以上のポリマー(A)と、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量600以下のエポキシモノマー(B1)及びオキセタンモノマー(B2)の内の少なくとも一方のモノマー(B)と、硬化剤(C)と、無機フィラー(D)と、有機フィラー(E)とを含有する絶縁シート3。
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セラミック組成物及びセラミック焼結体
【課題】低温焼結が可能で、強度が高く、高周波領域における誘電損失が低く、高精度な温度特性の制御が可能なセラミック組成物及びセラミック焼結体を提供する。
【解決手段】(a)固相反応法により合成されたディオプサイド結晶粉末と、(b)チタン酸ストロンチウム粉末及び/又はチタン酸カルシウム粉末と、(c)アルカリ化合物、アルカリ土類化合物、ホウ素化合物、遷移金属化合物、リン化合物、亜鉛化合物から選ばれた、リチウム化合物及びホウ素化合物を含む2種以上の化合物の粉末を含有するセラミック組成物を成形し、焼結してセラミック焼結体を得る。
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