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Fターム[5G435KK10]の内容

要素組合せによる可変情報用表示装置 (89,878) | 製造 (8,105) | 製造装置、工具(保守、修理を含む) (2,502)

Fターム[5G435KK10]に分類される特許

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【課題】パターンに起因するノイズ粒状感を低減可能であり、観察対象物の視認性を大幅に向上可能な導電シートの製造方法、この方法を用いて製造された導電シート、タッチパネル及び表示装置、並びにプログラムを提供する。
【解決手段】平面領域100の中から選択された複数の位置(シード点SD)に基づいてメッシュパターン20の模様を表す画像データImgを作成する。画像データImgに基づいて、メッシュパターン20のノイズ特性について定量化した評価値EVPを算出する。評価値EVPと所定の評価条件とに基づいて決定された出力用画像データImgOutから、透明基体12の一主面側での模様を表す第1画像データを切り出すとともに、透明基体12の他主面側での模様を表す第2画像データを切り出す。 (もっと読む)


【課題】基材フィルムとハードコート層との密着性に優れるとともに、干渉縞が発生することがなく、更に、耐湿熱性、平滑性に優れ、シワの発生を好適に防止することができるハードコートフィルムを提供する。
【解決手段】(メタ)アクリル系樹脂からなる基材フィルムと、上記基材フィルムの一方の面上に形成されたハードコート層とを有するハードコートフィルムであって、上記ハードコート層は、5員環構造を有する環構造成分を含有するハードコート層用組成物を用いて形成されたものであり、上記環構造成分は、窒素原子及び/又は酸素原子を単位構造中に少なくとも一つ含むことを特徴とするハードコートフィルム。 (もっと読む)


【課題】外部配線を直接接続しない基板の「割れ」、「欠け」等を簡単に検出することができる表示装置用パネルおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】表示装置用パネルは、第1電極部11、および該第1電極部11を外部配線に対して電気的に接続する接続部12を含む第1基板10と、第1基板10と対向して設けられた、第2電極部21を含む第2基板20と、第1電極部11と第2電極部21とを電気的に接続するコモン転移材30とを備える。第2電極部21は、第2基板20の損傷を検出するための検出部分を含み、検出部分は、コモン転移材30を介して第1電極部11および外部配線に対して電気的に接続される。 (もっと読む)


【課題】歪みの発生を抑えつつ基板を搬送すること。
【解決手段】帯状のシート基板FBを搬送する搬送装置30であって、シート基板FBを案内する表面を有し、表面とシート基板FBとの間に液状媒体LQを介してシート基板FBを案内するローラー部材Rを備える。ローラー部材Rは、外周面Ra上のうち支持領域Rbで基板FBの裏面を支持した状態で、基板FBを案内する。この場合、基板FBとローラー部材Rの外周面Raとの間に液状媒体LQが介在しているため、液状媒体LQの表面が基板FBを案内する案内面となる。基板FBが液状媒体LQを介して案内されるため、基板FBとローラー部材Rとの間における摩擦力の発生が抑制される。 (もっと読む)


【課題】基板の清浄度を向上させること。
【解決手段】基板処理装置1は、基板Wを保持するスピンチャック3と、スピンチャック3に保持されている基板Wの外周より外側に配置されているカップ6とを含む。カップ6は、気体吐出口から基板W上に向けて気体を吐出することにより、基板Wの上面に沿って流れる気流を形成する。この気流によって基板Wの上面がパーティクルやミストから保護される。 (もっと読む)


【課題】本発明は、塗膜の白ぼけや白っぽさを低減しコントラストを低下させずに、実用上問題ないレベルの防眩性と高い透過率、高い像鮮明度、画像のギラツキを抑制し、ディスプレイの視認性を向上させた防眩ハードコートフィルムを提供することを目的とする。
【解決手段】透明フィルム上に、有機微粒子および樹脂を含有する防眩ハードコート層を設けてなるヘイズ値が0.1〜5.0%である防眩ハードコートフィルムであって、該防眩ハードコートフィルムの表面の評価領域内の高さの平均値をゼロ(零)としたときの、評価領域内の高さ最大値と評価領域内の高さ最小値との差で表わす最大断面高さが0.6μm以下、且つ該防眩ハードコートフィルムの内部ヘイズ値が0〜2.0%、全ヘイズ値に対する内部ヘイズ値の割合が40%以下であることを特徴とする防眩ハードコートフィルム。 (もっと読む)


【課題】排気効率およびスペース効率を改善し、液切り乾燥直後の乾いた基板にミストが付着するのを十全に防止する。
【解決手段】上部および下部エアナイフ122U,122Lがそれらの間を通過する基板Gに対してナイフ状の鋭利な高圧エア流を吹き付けることにより、両エアナイフ122U,122Lの上流側の空間に多量のミストが発生する。基板Gの上で発生したミストの大部分は、下流側のFFU136から隙間Kを通って廻ってくる空気および入口118から入ってくる空気と一緒に上部排気口124に吸い込まれる。基板Gの下で発生したミストは、その全部がFFU136から廻ってくる空気および入口118から入ってくる空気と一緒に下部排気口126,128に吸い込まれる。 (もっと読む)


【課題】微細な画素欠陥に対応した微細且つ高精度な遮光膜を効率的に形成する。
【解決手段】画素欠陥25の位置に対応する透明基板12の外表面にレジスト45を塗布した後、レジスト45にレーザーを照射して画素欠陥25のサイズに対応した穴46を形成し、その穴46に遮光材料41を充填することで遮光膜40を形成する。レジスト45は、遮光膜40の形成後に除去するか、透光性材料であれば除去せずにそのまま残しておいてもよい。 (もっと読む)


【課題】フリンジフィールドスイッチングモードで駆動する液晶表示装置の作製方法において、フォトマスク数を削減することで製造工程の簡略化及び製造コストの削減をする。
【解決手段】透光性を有する絶縁基板上に第1の透明導電膜及び第1の金属膜を順に成膜し積層し、第1のフォトマスクである多階調マスクを用いて第1の透明導電膜及び第1の金属膜を形状加工し、絶縁膜、第1の半導体膜、第2の半導体膜、第2の金属膜を順に成膜し積層し、第2のフォトマスクである多階調マスクを用いて第2の金属膜、第2の半導体膜を形状加工し、保護膜を成膜し、第3のフォトマスクを用いて保護膜を形状加工し、第2の透明導電膜を成膜し、第4のフォトマスクを用いて第2の透明導電膜を形状加工する。 (もっと読む)


【課題】 グレイトーンマスクを用いたTFT基板の製造工程において、高画質かつ低価格の液晶パネルを高い歩留まりで生産し続けることが可能な露光装置および露光方法を提供すること。
【解決手段】 照明光学系と投影光学系を有する露光装置において、照明光学系内部に有効光源形状を変化させる有効光源形状調整手段と、投影光学系内部に静止ディストーションのばらつきを変化させる静止ディストーションばらつき調整手段と、プレートステージ上にあってマスク上のパターンを結像する2次元センサと、2次元センサが撮像した結果に基づき前記有効光源形状調整手段もしくは前記静止ディストーションばらつき調整手段のうち、少なくとも一つを調整する調整部を持つ。調整部は同一パターン内の光強度分布を調整することにより有効光源形状調整手段もしくは静止ディストーションばらつき調整手段を調整する。 (もっと読む)


【課題】金属配線の下層を加工または損傷させることなく、金属配線がショート不良となることを未然に防止できるレーザー修正工程を有する表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】複数の画素を備えた表示部を有する表示装置の製造方法は、当該表示部が有するガラス基板11上に形成された駆動回路層12の表面を平坦化する平坦化膜13と、平坦化膜13上に積層された上部電極層14Pと、上部電極層14P上に形成され上部電極層14Pを画素形成領域ごとに配置された上部電極14として分離形成するためのパターニングされたレジスト20とを準備する第1工程と、隣接する画素形成領域の間の領域に残存するレジスト残り20Nに対し、266nmの波長を有するレーザーを照射することにより、レジスト残り20Nを除去する第2工程と、当該第2工程の完了後、全ての画素に対して、レジスト20をマスクとしてエッチングする第3工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体を使用する薄膜トランジスタの特性を向上させることができる薄膜トランジスタ表示板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】薄膜トランジスタ表示板を提供する。本発明の一実施形態に係る薄膜トランジスタ表示板は、基板の上に配置するゲート配線層、前記ゲート配線層の上に配置する酸化物半導体層、及び前記酸化物半導体層の上に配置して、前記ゲート配線層と交差するデータ配線層を含み、前記データ配線層は銅を含む主配線層、及び前記主配線層の上に配置して、銅合金を含むキャッピング層を含む。 (もっと読む)


【課題】高精度な駆動回路又は薄膜トランジスタを可撓性の基板に形成する表示素子用の製造装置を提供する。
【解決手段】表示素子の製造装置(100)は、可撓性の基板(FB)を第1方向に搬送する搬送部(RL)と、可撓性の基板に基準マークを形成するマーク形成部(10)と、可撓性の基板に隔壁を形成する隔壁形成部(10)と、基準マークに基づいて隔壁に対して所定の位置に導電部材を塗布する塗布部(20)と、を有する。 (もっと読む)


【課題】チップに切り屑が付着している場合でもチップを確実に吸着することができるコレット、ピックアップ装置、チップのピックアップ方法、および電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】ピックアップ装置500において、コレット50の吸着部55では、外周縁から内側に離間した位置で圧縮気体噴出口51が開口しており、かかる圧縮気体噴出口51は、真空吸着の際に吸気口として利用される。吸着部55は、吸着部55の外周縁に沿って延在する突条部56を備えている。このため、圧縮気体噴出口51から気体を噴出した際、突条部56と液晶パネル3との間を圧縮気体が通過する際の流速が高いので、液晶パネル3において突条部56が接する部分から切り屑Kを確実に除去した後、コレット50によって液晶パネル3を吸着することができる。 (もっと読む)


【課題】光照射時のTFT特性を安定化する。
【解決手段】ゲート電極14上に配置されたゲート絶縁層16上に、第一の酸化物半導体膜24を成膜する第一工程と、第一の酸化物半導体膜24とカチオン組成が異なり、且つ第一の酸化物半導体膜24より低い電気伝導度を有する第二の酸化物半導体膜26を成膜する第二工程と、酸化性雰囲気の下300℃超で熱処理する第三工程と、第一の酸化物半導体膜24とカチオン組成が異なり、且つ第一の酸化物半導体膜24より低い電気伝導度を有する第三の酸化物半導体膜28を成膜する第四工程と、酸化性雰囲気の下300℃超で熱処理する第五工程と、第三の酸化物半導体膜28上に、ソース電極20及びドレイン電極22を形成する電極形成工程と、を有している。 (もっと読む)


【課題】従来と比べてより適切なむら検査を行うことが可能なむら検査装置等を提供する。
【解決手段】むら検査装置は、検査対象の撮像画像を取得するための撮像部と、撮像画像に基づいて、色むら検査用画像および輝度むら検査用画像をそれぞれ生成する画像生成部と、色むら検査用画像および輝度むら検査用画像の双方を用いて、評価パラメータを算出する算出部と、算出された評価パラメータを用いてむら検査を行う検査部とを備えている。算出部は、色および輝度の双方に対するむら視感度を考慮して、評価パラメータを算出する。 (もっと読む)


【課題】表示部の外側の外枠部を表示部と段差のない方法で形成した液晶表示パネル部材の作成方法及び液晶表示パネル部材を提供する。
【解決手段】液晶表示パネルに用いられる部材の作成方法において、表示パネルの中央部の表示部の外側に設ける外枠部を作成する方法であって、表示パネル基材14の裏面に、表示部形状のマスクを介して、隠蔽性を有する蒸着層を単層または複数層形成し、蒸着層の表示部側をレーザー加工してザラツキのない内端を有する外枠部を作成することを特徴とする液晶表示パネル用部材の作成方法。 (もっと読む)


【課題】2枚の基板を貼り合わせるためのシール剤の塗布パターンを硬化処理するに際して、効率的に硬化処理を行ってシール工程全体の所要時間を短縮させることができる。
【解決手段】シール剤の塗布パターンの一方向に沿った辺上に第1硬化処理ユニット3の処理部3Aが位置するように、第1硬化処理ユニット3を基板の一端側から他端側に向けて順次相対的に移動させ、第1硬化処理ユニット3が塗布パターンの半分位置まで移動する迄の間、塗布パターンの他方向に沿った辺上に第2硬化処理ユニット4の処理部4Aが位置するように、第2硬化処理ユニット2を基板の一端側から他端側に向けて順次移動させ、第1硬化処理ユニット3が塗布パターンの半分位置まで移動した後は、塗布パターンの他方向に沿った辺上に第3硬化処理ユニット5の処理部5Aが位置するように、第3硬化処理ユニット5を基板の一端側から他端側に向けて順次移動させる。 (もっと読む)


【課題】2枚の基板を貼り合わせるためのシール剤の塗布パターンを硬化処理するに際して、効率的に硬化処理を行ってシール工程全体の所要時間を短縮させることができる。
【解決手段】2枚の基板Sの一面側に第1硬化処理ユニット3を配置し、2枚の基板Sの他面側に第2硬化処理ユニット4は配置する。第1硬化処理ユニット3の直線状の処理部3Aを平行移動することによって基板Sに形成された塗布パターンの一方向の辺を順次硬化処理し、第2硬化処理ユニット4の直線状の処理部4Aを平行移動することによって基板Sに形成された塗布パターンの他方向の辺を順次硬化処理する。第1硬化処理ユニット3による処理と第2硬化処理ユニット4の処理を同工程で行う。 (もっと読む)


【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO 40〜70%、Al 12〜21%、B 0〜6%、LiO 0〜1%、NaO 7〜20%、KO 0〜4%を含有し、質量比KO/NaOが0〜0.2であり、且つ圧縮応力層の厚みが10μm以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


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