【課題】光学表示装置の製造時間を短縮することができる光学表示装置の製造システムを提供する。
【解決手段】製造システム１００は、液晶パネル２を搬送する搬送機構１２と、液晶パネル２の下面に偏光フィルムを貼合する２つの貼合機構とを備え、上記貼合機構は、偏光フィルム１０ｂを巻出す巻出部１と、偏光フィルム１０ｂに連結される補充用の偏光フィルム１０ｂを巻き出す巻出部１ａと、保護フィルム１０ａを剥離するナイフエッジ２３と、偏光フィルム１０ｂを液晶パネル２の下面に貼合するニップローラ２４・２４ａと、保護フィルム１０ａを巻取る巻取部２５とを含み、搬送機構１２には、液晶パネル２を反転させる反転部２６が備えられており、巻出部１および巻出部１ａは、偏光フィルム１０ｂの巻芯方向に対して水平に移動可能であり、巻出部１および巻出部１ａは、互いに並設されている。 （もっと読む）

【課題】より短波長領域、特に６４０〜７５０ｎｍ付近に最大吸収波長を有するフタロシアニン化合物を提供する。
【解決手段】特定構造を有するフタロシアニン化合物。該フタロシアニン核のα位の置換基は、それぞれ独立して、ハロゲン原子または下記式で示される２，６−置換フェノキシ基を表わし、この際、８個のうち４個は、ハロゲン原子を表わし、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、メチル基、エチル基またはハロゲン原子を表わす。


該フタロシアニン核のβ位の置換基は、それぞれ独立して、ハロゲン原子による置換フェノキシ基を有し、フタロシアニン化合物の中心金属は、無金属、金属、金属酸化物または金属ハロゲン化物であって良い。 （もっと読む）

【課題】貼り合わせた一対の基板の一方からのみレーザ光を照射することで、基板を冷却材等で汚染することなく、一対の基板を一度に分割する。
【解決手段】局所加熱光を第１及び第２のガラス基板１０１、１０２の間に配置された封止用接合材１０４及び分割用接合材１０５に照射して加熱溶融させ、第１のガラス基板１０１と第２のガラス基板１０２とを接合する工程と、分割用接合材１０５の延在方向の端部に局所加熱光の有効ビーム径のスポットが重なるように照射し、第１及び第２のガラス基板１０１、１０２の一端部に亀裂を生じさせた後に、第１及び第２のガラス基板１０１、１０２の他端部まで分割用接合材１０５に沿って局所加熱光を走査することによって、分割用接合材１０５を介して第１及び第２のガラス基板１０１、１０２を分割する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】アライメントマーク画像の近隣に類似画像が存在する場合であっても、アライメントマーク画像の「よごれ」、「欠け」、「輝度ムラ」等によって類似画像位置を正規のアライメントマークとして誤検出することを防止する位置合わせ手段を有するＦＰＤ実装装置および位置合わせ画像検出方法を提供する。
【解決手段】本発明は、セカンドアライメントマーク画像や補助マーク画像を用いることなく、相関係数を低く設定してアライメントマーク画像位置と類似画像位置を含めて取得し、位置相関からアライメントマーク画像位置を認識することで、アライメントマーク画像の「よごれ」、「欠け」、「輝度ムラ」等により相関率が低下した場合であってもアライメントマーク画像位置を正確に検出することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来のステージ装置では、ワークに対する処理精度を維持することが困難である。
【解決手段】ワークＷを支持するワークテーブル２５と、ワークテーブル２５の移動を案内する第１ガイド部８１と、第１ガイド部８１につなぎ合わされており、ワークテーブル２５の移動経路を延長する第２ガイド部８２と、つなぎ合わされた第１ガイド部８１と第２ガイド部８２との間の精度を監視する監視装置８７と、を有する、ことを特徴とするステージ装置。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置に安定した電気的特性を付与し、高信頼性化す
ることを目的の一とする。
【解決手段】酸化物半導体膜を有するボトムゲート構造のトランジスタの作製工程におい
て、熱処理による脱水化または脱水素化処理、及び酸素ドープ処理を行う。酸素ドープ処
理されたゲート絶縁膜、熱処理による脱水化または脱水素化処理された酸化物半導体膜を
有するトランジスタは、バイアス−熱ストレス試験（ＢＴ試験）前後においてもトランジ
スタのしきい値電圧の変化量が低減できており、信頼性の高いトランジスタとすることが
できる。 （もっと読む）

【課題】可動シャッタ方式のディスプレイにおいて、可動シャッタを、低応力で安定したアモルファスシリコン膜で形成する。
【解決手段】第１基板と、第２基板とを有する表示パネルを有し、前記表示パネルは、複数の画素を有し、前記各画素は、可動シャッタと、前記可動シャッタを駆動する駆動回路とを有し、前記可動シャッタは、アモルファスシリコンで構成される表示装置であって、前記可動シャッタの前記アモルファスシリコンは、少なくとも２つのアモルファスシリコン膜で構成され、前記少なくとも２つのアモルファスシリコン膜の中で、互いに隣接する２つのアモルファスシリコン膜を、アモルファスシリコン膜Ａと、前記アモルファスシリコン層Ａ上に積層されるアモルファスシリコン膜Ｂとするとき、アモルファスシリコン膜Ａと前記モルファスシリコン膜Ｂとは、特性値が異なっている。 （もっと読む）

【課題】欠陥修正装置内の任意の位置にある塗布機構に対して液体容器を着脱することができる、液体容器着脱装置および当該液体容器着脱装置を備える欠陥修正装置を提供する。
【解決手段】取り付け用インク容器交換装置２０Ａは、基板上に形成されたパターンの欠陥部にインクを塗布して修正するインク塗布機構１０を備えた欠陥修正装置１において、インク塗布機構１０にインクを保持するインク容器１８を着脱するための取り付け用インク容器交換装置であって、インク容器１８を保持可能な取り付けホルダ２２と、インク塗布機構１０との位置関係が固定されるように取り付けホルダ２２を支持可能なホルダ保持台８１Ｂとを備え、インク塗布機構１０の可動範囲に対応して移動可能となっている。 （もっと読む）

【課題】化学強化後のガラス基板の平坦度のばらつきを抑制できる電子機器用カバーガラスの製造方法およびガラス基板保持具を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる電子機器用カバーガラスの製造方法は、四角形状のガラス基板１００を、化学強化塩を加熱溶融した化学強化処理液に浸漬させることにより、ガラス基板を化学強化処理する化学強化工程と、化学強化工程後に、ガラス基板を化学強化処理液から取出した後、ガラス基板の温度を下げる冷却工程と、を含み、冷却工程では、化学強化処理液がガラス基板表面で固化しないように、ガラス基板表面から排出させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置に安定した電気的特性を付与し、高信頼性化することを目的の一とする。
【解決手段】第１の絶縁膜を形成し、第１の絶縁膜上に、ソース電極およびドレイン電極、ならびに、ソース電極およびドレイン電極と電気的に接続する酸化物半導体膜を形成し、酸化物半導体膜に熱処理を行って、酸化物半導体膜中の水素原子を除去し、水素原子が除去された酸化物半導体膜に酸素ドープ処理を行って、酸化物半導体膜中に酸素原子を供給し、酸素原子が供給された酸化物半導体膜上に、第２の絶縁膜を形成し、第２の絶縁膜上の酸化物半導体膜と重畳する領域にゲート電極を形成する半導体装置の作製方法である。 （もっと読む）

【課題】外力が発生しても高い気密性を保持できる、信頼性の高い気密容器を製造する。
【解決手段】粘度が負の温度係数を有し、第１および第２のガラス基材１，２よりも軟化点が低い接合材４を、第２のガラス基材２の上に枠状に形成し、第１のガラス基材１を、接合材４と接触させるように、接合材４が形成された第２のガラス基材２に対向配置する。接合材４が延びる方向から見たとき、局所加熱光９の照射は、接合材４と、第２のガラス基材２の側端部６とが照射範囲に含まれるように行われるとともに、接合材４の両端部からそれぞれ、第２のガラス基材２の側端部６までの距離をＡ、第２のガラス基材２の側端部６と反対側の、照射範囲の境界までの距離をＢとすると、Ｂ≧Ａの関係を満たすように行われる。 （もっと読む）

【課題】高い表示品位を有する表示装置用の薄膜トランジスタ基板およびこれらを生産効率よく実現することができる製造方法を提供する。
【解決手段】基板１上の複数の部分に配設された半導体膜２と、半導体膜２上に、該半導体膜２と接し互いに離間して配設されたソース電極およびドレイン電極４と、半導体膜２、ソース電極３およびドレイン電極４を覆うゲート絶縁膜６と、ゲート絶縁膜６を介して、ソース電極３およびドレイン電極４の間に跨るように配設された、ゲート電極７とを有した薄膜トランジスタ２０１と、半導体膜２上に、該半導体膜と接して配設された補助容量電極１０と、下層に半導体膜２を有してソース電極から延在するソース配線３１と、ゲート電極７から延在するゲート配線７１と、ドレイン電極４に電気的に接続された画素電極９と、隣り合う画素の補助容量電極１０どうしを電気的に接続する、補助容量電極接続配線１２とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 ２枚の基板の貼り合せ後に、該基板を基板保持部から確実に剥離させ、基板の貼り合せ精度を向上させること。
【解決手段】 チャンバ１２内にて対向して配置された第１と第２の基板保持部１５、１８の基板保持面１５ａ、１８ａにそれぞれ保持した２枚の基板１、２を貼り合せる基板の貼り合せ装置１０において、第１と第２の基板保持部１５、１８の少なくとも一方に前記基板保持面１５ａ、１８ａとは交差する方向に貫通して設けられた貫通孔２１に当該基板保持面１５ａ、１８ａに対して突没可能に挿通され、前記基板１、２を吸着保持する吸着部２３を備えた基板受渡しピン２２と、前記貫通孔２１と前記基板受渡しピン２２との間に配置され、前記基板保持面１５ａ、１８ａに保持された基板１、２との間で閉空間５１を形成するシール手段５０と、前記閉空間５１にガスを供給するガス供給手段６０と、を有してなるもの。 （もっと読む）

【課題】既に形成されている有機デバイスの素子が、後工程での焼成によって劣化することを避ける。
【解決手段】第１のインクを配置し、第１の温度で焼成することによりＨＴＬ１０３を成膜する工程と、第２のインクを配置し、第１の温度以下の第２の温度で焼成することによりＥＭＬ１０４を成膜する工程と、欠陥のある画素Ａを検出し、画素ＡのＨＴＬ１０３とＥＭＬ１０４を除去する工程と、第３のインクを画素Ａに配置し、第２の温度以下の第３の温度で焼成することにより再生後ＨＴＬ１０７を成膜する工程と、第４のインクを再生後ＨＴＬ１０７上に配置し、第３の温度以下の第４の温度で焼成することにより再生後ＥＭＬ１０８を成膜する工程と、を備え、第３のインクの沸点は第２のインクの沸点以下であり、第４のインクの沸点は第３のインクの沸点以下である。 （もっと読む）

【課題】製品の歩留まりおよび信頼性を向上させること。
【解決手段】２つの基板の積層装置は、固定具４０２、画像キャプチャデバイス５０８、位置調整プロセスを実行するモジュール５０４など、を備える、固定具４０２は、第１の基板１２を所定の位置に置く第１のポジショナ４０４と、第２の基板１４を所定の位置に置く第２のポジショナ４０６と、固定具４０２に関する第１の基板１２の位置を固定する補助装置と、を備え、第２の基板１４が第１の基板１２上に配置され、第１の基板１２および第２の基板１４の間に液体接着剤１６が分布されて自然に配置される。少なくとも１つの画像キャプチャデバイス５０８は、第２の基板１４に関する第１の基板１２の位置を取得するために使用される。モジュールは、第２の基板１４に関する第１の基板１２の位置に従って、位置調整プロセスを実行するために使用される。 （もっと読む）

【課題】高い生産性と歩留まりとを実現可能な電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本適用例の電気光学装置としての液晶装置の製造方法は、チップ状の素子基板１０とチップ状の対向基板２０とが貼り合わされてなる液晶装置を複数製造する液晶装置の製造方法であって、複数の対向基板２０を保持部２０１上に位置決めして保持する対向基板保持工程と、素子基板１０を複数切り出すことができるマザー基板１１０を用意し、マザー基板１１０の複数の素子基板１０となる領域に、複数の対向基板２０を同時に貼り合わせる貼り合わせ工程と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】印刷により、ストライプ状の従来より幅の広いライン電極を形状精度及び寸法精度良く形成することができるオフセット印刷による電極形成方法を提供する。
【解決手段】版に導電性インクを充填後、ドクターナイフによって余剰な導電性インクを掻き取るドクタリング工程を含むオフセット印刷により、印刷用基材上にストライプ状のライン電極を形成する電極形成方法において、オフセット印刷に用いる版として、形成するライン電極に対応し、版の導電性インクを充填する凹形状のパターン内に、各々が凹形状の複数の彫刻部１１を有し、形成するライン電極の面積に対する彫刻部の合計面積の比率ＴＳ（％）が、７０％≦ＴＳ＜１００％で、かつ、個々の彫刻部の面積Ｓ（μｍ^２）が、０＜Ｓ≦８００００μｍ^２を満足する版、を用いる。 （もっと読む）

【課題】撮像手段によって得られた撮像信号の画像範囲から位置合わせマークの座標を求めるときのサーチエリアを最小限に設定できるようにすること。
【解決手段】液晶セルもしくはＴＣＰに設けられた位置合わせマークを撮像する撮像カメラ１４，２５と、撮像カメラからの撮像信号に基いて位置合わせマークの位置を算出する演算処理部１６と、演算処理部によって算出された位置合わせマークの座標位置が格納蓄積される記憶部１８と、記憶部に格納蓄積された位置合わせマークの座標位置のバラツキに基いて撮像カメラの視野範囲における位置合わせマークをサーチするサーチエリアを設定する設定部１９を具備する。 （もっと読む）

【課題】オフセット印刷により、ストライプ状の従来より幅の広いライン電極を形状精度及び寸法精度良く形成することができるオフセット印刷による電極形成方法を提供する。
【解決手段】版に導電性インクを充填後、ドクターナイフによって余剰な導電性インクを掻き取るドクタリング工程を含むオフセット印刷により、印刷用基材上にストライプ状のライン電極を形成する電極形成方法において、オフセット印刷に用いる版として、形成するライン電極に対応し、版の導電性インクを充填する凹形状のパターン内に、各々が凸形状の複数のドット部１１を有し、形成するライン電極の面積に対するドット部の合計面積の比率ＴＳ（％）が、０＜ＴＳ≦３０％で、かつ、個々のドット部の面積Ｓ（μｍ^２）が、０＜Ｓ≦２５００μｍ^２を満足する版、を用いる。 （もっと読む）

【課題】従来よりもさらに正面方向の輝度の高い１軸延伸多層積層フィルムおよびそれからなる１軸延伸多層積層フィルム積層体を提供すること。
【解決手段】第１層と第２層とが交互に２５１層以上積層された１軸延伸多層積層フィルムであって、
１）第１層は２，６−ナフタレンジカルボン酸成分を含むポリエステルを構成成分とする厚み０．０１μｍ以上０．５μｍ以下の層であり、
２）第２層はシンジオタクティックポリスチレンを構成成分とする厚み０．０１μｍ以上０．５μｍ以下の層であり、
３）フィルム面を反射面とし、１軸延伸方向（Ｘ方向）を含む入射面に対して平行な偏光成分について入射角０度および５０度での該入射偏光に対する波長４００〜８００ｎｍの平均反射率がそれぞれ９０％以上、
４）フィルム面を反射面とし、Ｘ方向を含む入射面に対して垂直な偏光成分について、入射角０度での該入射偏光に対する波長４００〜８００ｎｍの平均反射率が１５％以下、入射角５０度での該入射偏光に対する波長４００〜８００ｎｍの平均反射率が５０％以上
である１軸延伸多層積層フィルム。 （もっと読む）