【課題】可変の流体圧力が作用したとき、流体の一定の流れを維持する。
【解決手段】可変流体圧力が加えられるときに、流体の一定の流れを維持する一定流れ調整器機構であって、流体が入ってくる入口管５０６と、ハウジング５００と、入口管に面し弾性力を受けた可動仕切り５０２とを備える。断面積が可変な流体通路５１０は、入口管と可動仕切りとの間に形成される。ハウジング及び可動仕切りは、内部コンパートメントの内側に入口管の流体圧力にほぼ等しい流体圧力を確立するため、入口管と流体が連通する内部コンパートメント５０４を形成する。可動仕切りのサイズは、使用において、流体通路断面積を減じるため入口管内の流体圧力が増加したとき、仕切りが弾性力に抗して入口管側へ移動するように、及びその逆にも動作し、それによって、一定の流体流れを維持するように、入口管のサイズよりも非常に大きい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、応答速度に優れた分流制御装置を提供することを目的としている。
【解決手段】単一の流路を流通するガスを複数の２次流路に夫々設けられた流量検出器および制御弁と、前記制御弁を操作するための情報が記憶された記憶手段を備え、前記流量検出器が検出した実流量に対応する検出信号が入力されるとともに前記２次流路における指令された目標分流比および前記検出信号に基づき、分流比の制御が開始された後の実分流比の立ち上がり時における立上初期、立上初期に引き続く立上中期、立上中期に引き続く立上終期の各時期で、前記制御弁の開度を操作する弁開度信号値を算出し、当該弁開度信号値を開度信号として前記制御弁に出力する制御部とを有する分流制御装置である。 （もっと読む）

【課題】 圧電アクチュエータの使用範囲温度を超える温度の流体でも制御可能な圧電駆動式バルブ及び圧電駆動式流体制御装置を提供する。
【解決手段】 流体流路１ｂを開閉するための弁体２と、圧電素子の伸張を利用して弁体２を開閉駆動するための圧電アクチュエータ１０と、圧電アクチュエータ１０を流体流路１ｂから遠ざけるように持上げ支持するとともに、流体流路１ｂを流れる流体から圧電アクチュエータ１０へ伝わる熱を放熱するための放熱スペーサ４０と、を備え、さらに、好ましくは、圧電アクチュエータ１０及び放熱スペーサ４０の双方を収容して支持する支持筒体２３Ａと、を有し、支持筒体２３Ａは、少なくとも放熱スペーサ４０を収容する部分が放熱スペーサ４０と同じ熱膨張係数を有する材料で形成されていることとした。 （もっと読む）

【課題】半導体製造装置のガスの流量制御は、マスフローコントローラによって行われている。ここで使用される流量調整バルブは、流量を調整することに重点が置かれているため、閉鎖時にも微小ながらガスが流出する。このため、流量調整バルブの出力側に閉鎖特性の良好な開閉バルブが挿入されている。しかし、流量調整バルブと開閉バルブ間の流路系には、一定の容量を有するため、流量調整バルブが閉鎖されている間に、この流路系の圧力が流量調整バルブのリークを介して、上昇するという問題がある。このような出力側バルブ間空間の圧力上昇は、次に、開閉バルブが開いたときに、ガス被供給系への余剰のガス供給の原因となる。
【解決手段】本願発明は、マスフローコントローラのガス排出側の流量制御バルブと開閉バルブ間の圧力を計測することで、流量制御バルブの閉鎖時のリークガス流量を検知可能とした半導体製造装置である。 （もっと読む）

【課題】小型でありながら大流量の流量制御弁を提供する。
【解決手段】弁座面４０１を有する弁座部材４と、弁座面４０１に着座する着座面６０１を有する弁体部材６と、を具備し、弁座面４０１又は着座面６０１の一方又は他方に複数の流入口が形成され、弁座面４０１又は着座面６０１の一方又は他方に複数の流出口が形成されており、それら流入口及び流出口が、着座状態において重ならないように形成され、入口が形成された部材の内部に、流入路及び流入口に連通する内部流入路４１が形成され、流出口が形成された部材の内部に、流出路及び流出口に連通する内部流出路が形成されている。 （もっと読む）

【課題】 コストを減少するとともに、スペースの減少も可能とした流体制御装置を提供する。
【解決手段】 流体制御装置1は、流体制御部2と流体導入部3とを有している。流体導入部3は、３つに分けられており、入口側に配置されてそれぞれ２×Ｎ／２個の開閉弁23からなる第１および第２入口側遮断開放部5,6と、４×Ｍ個の開閉弁23からなり、第１および第２入口側遮断開放部5,6と流体制御部2との間に配置された流体制御部側遮断開放部7とからなる。 （もっと読む）

【課題】大幅なコストの増大を伴わずに、流量を広範囲に制御することができる流量制御装置を提供する。
【解決手段】流量制御システム１０には、薬液の流量を検出する流量センサ１４と、その下流側において互いに並列に設けられた流量調整手段としてのパイロットレギュレータ２０及び流体の通過を許可又は禁止する第１開閉弁４０とが備えられている。流量センサ１４の下流側における吐出配管１３の下流側端部は、第１分岐配管１５と第２分岐配管１６とに接続されており、そのうち第１分岐配管１５にパイロットレギュレータ２０が設けられ、第２分岐配管１６に第１開閉弁４０が設けられている。コントローラ３０は、目標流量値及び流量センサ１４により検出された流量値に基づいて電空レギュレータ１８及び第１電磁弁１９を駆動させ、流体流量が目標流量値に一致するように流量フィードバック制御を実施する。 （もっと読む）

ガス流量調節器は、アクチュエータ、調整弁、および二次装置を含む。下流圧力フィードバックは、調整弁の出口の中に置かれるピトー管を介してアクチュエータおよび二次装置に提供される。ピトー管は、アクチュエータに接続され、アクチュエータ制御空洞およびダイヤフラムを出口の中の下流圧力と流体連通させ、アクチュエータ設定点圧力で出口圧力を維持する端部を有する第１の分枝を有する。また、ピトー管は、二次装置に接続され、二次装置の内部を出口の中の下流圧力と流体連通させ、出口圧力が所定の通常の運転圧力範囲から分岐するときに、前記下流圧力の変化に対応する第２の分枝も有する。
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【課題】 半導体製造装置等の稼働中において、流路を流れるプロセスガスの流量制御の検定処理を行なうことができる流量制御装置及びその検定方法を提供する。
【解決手段】 流路４の流量を流量設定値になるように流量を制御しているときに、プロセスガスの流量検出値と、圧力検出値と、流量制御弁機構７に出力したバルブ駆動制御情報とから構成される検定サンプリング情報の所定数を収集してこの流量設定値と関連付けて記憶する。そして、検定サンプリング情報として記憶された所定数の流量検出値とバルブ駆動制御情報について、その関連を示す関連係数（Ａ）を順次求め、この関連係数（Ａ）の値が予め設定した閾値の範囲を超えていると、新たに入力した流量検出値に基づいて求めてバルブ駆動制御情報と、予め検定処理用に登録したバルブ特性情報テーブルＫ１を参照して求めた基準となるバルブ駆動制御情報との差異量を求め、この差異量を検定情報としている。 （もっと読む）

【課題】応答性に優れ、かつ高精度・広範囲に流量を制御することができる流量制御装置を提供する。
【解決手段】流量制御装置１０は、圧力調整手段としてのパイロットレギュレータ２０とその下流側に配置されたエアオペレートバルブ４０とを備えている。エアオペレートバルブ４０は、カバー４１、シリンダ４２、ボディ４３からなる。ボディ４３には吸入通路５８と、排出通路５９と、各通路５８，５９を連通する円形溝６７と、吸入通路５８と円形溝６７とを連通する固定オリフィス６４とが形成されている。吸入通路５８の円形溝６７側端部は弁座オリフィス５８ａとなっており、その開口部周囲は弁座６３となっている。ダイアフラム弁体５５は圧縮コイルバネ４８の付勢力により常時弁座６３に着座されており、圧力制御室５１が操作エアにより加圧されると弁座６３から離れる。 （もっと読む）

【課題】複数の流体を択一的に選択切換して供給する際に、簡易な構成で連続して流体を供給することができる流体の切換制御方法及び切換制御装置を提供する。
【解決手段】複数の流体を切換手段によって択一的に選択切換して流体使用部１２に所定の流量を供給する方法において、複数の流体のうち選択切換されて使用部１２に流通している流体の流量を測定して圧力調整手段９０による制御信号を当該流体の圧力制御弁部２０（２０ｘ，２０ｙ，２０ｚ）に送り所定の流量の制御をなすとともに、複数の流体のうち選択切換されず使用部１２に流通していない他の流体の圧力制御弁部に対しても圧力調整手段９０による制御信号を送り、選択切換時に即時に所定の流量を確保できる待機状態となるようにしたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】半導体製造装置等の稼働中において、流路を流れる流体の流量制御の精度を検定することが可能な流量制御装置を提供する。
【解決手段】流路４の流量を流量設定値になるようにバルブ駆動制御情報を流量制御弁機構７に出力する制御手段８と、流体の流量を検出する流量検出手段５と、流体の圧力を検出する圧力検出手段６とを備えている。制御手段８は、流量制御弁機構７にバルブ駆動制御情報を出力したときに、出力したバルブ駆動制御情報と流路の流量との関係を示す情報を、流路の流体の圧力に関連付けして記憶したバルブ特性情報Ｋを予め備えている。流量の制御中に、流量設定値と圧力検出手段６が検出した圧力値とに関連付けされる基準となるバルブ駆動制御情報を、バルブ特性情報Ｋを参照して求め、この求めたバルブ駆動制御情報と制御手段８が流量制御弁機構７に出力したバルブ駆動制御情報との差異量を流量制御の検定情報としている。 （もっと読む）

【課題】圧力及び質量流量の両方を反映させるとともにタンク容積の変化も考慮した高精度の検定を行う質量流量制御装置を提供する。
【解決手段】流路6の最上流に設けられた検定用バルブ42と、質量流量制御バルブ機構10と、質量流量制御バルブ機構10より上流側の流路6に設けられたタンク44と、質量流量検出手段8と、圧力検出手段46と、質量流量制御バルブ機構10を制御する手段18と、質量流量検定制御手段48とを有する質量流量制御装置を検定する方法であって、(1) 流路6に設定質量流量の流体を流し、(2) 流体の質量流量が設定質量流量と一致するように質量流量制御バルブ機構10の開度を保持し、(3) 検定用バルブ42を閉じ、(4) タンク44から流出する流体の流れが安定化した後で流体の圧力及び質量流量を測定し、(5) 初期状態において同じ手順で測定しておいた基準の圧力及び質量流量に対する圧力及び質量流量の変化率を求め、(6) 変化率に応じて検定を行う方法。 （もっと読む）

【課題】 圧力変動を吸収することができて流量の制御性が高い流量制御装置を提供する。
【解決手段】 流体を流す流路６に、流量を検出して流量信号を出力する流量検出手段８と、バルブ駆動信号により弁開度を変えることによって流量を制御する流量制御弁機構１０とを設ける。そして、外部から入力される流量設定信号Ｓ０と流量信号Ｓ１とに基づいて流量制御弁機構を制御する制御手段４４を設けてなる流量制御装置において、流路に流体の圧力を検出して圧力検出信号を出力する圧力検出手段４２を設ける。前記制御手段は流量検出手段から得られる流量信号に基づいて、圧力検出信号を用いることなく流量信号と流量設定信号とに基づいて流量制御を行う第１制御モードがある。そして、圧力検出信号と流量設定信号とに基づいて流量制御を行う第２制御モードとを選択的に切り替える。 （もっと読む）

【課題】 流量制御のオーバーシュート現象を解消し、且つ集積ユニット化を可能とするコンパクトな質量流量制御装置と、この質量流量制御装置を備えたコンパクトなガス供給ユニットを提供する。
【解決手段】 質量流量を制御する流量制御弁機構１０と、前記流量制御弁機構に前記バルブ駆動信号を出力する流量制御弁制御手段１８と、を設けてなる質量流量制御装置５０において、前記流量制御弁機構１０の上流側及び／又は下流側に、遮断弁機構５２、５４を介設し、遮断弁機構５２、５４の給排気口をソレノイド弁機構１０２と直接連通させるように、弁ブロック体８０と一体として設け、且つ前記流量制御弁制御手段１８は、前記ソレノイド弁機構１０２を動作させるソレノイド弁駆動信号Ｓ３、Ｓ４を出力するとともに、前記バルブ駆動信号Ｓ２と、前記ソレノイド弁駆動信号Ｓ３、Ｓ４とを同期させる。 （もっと読む）

【課題】 バルブ等の他の構成部材と同じベース取付け部を有することでガス供給ラインを小型化できる集積タイプのマスフローコントローラを提供することである。
【解決手段】 本体ブロック１に流体入口８ａと流体出口８ｂを形成し、これら流体入口８ａと流体出口８ｂを接続する流体流路１１中に制御バルブ３１を設け、更に、流体入口８ａと制御バルブ３１との間に、流体Ｇをバイパスさせるバイパス素子７と、流体Ｇの流量測定を行う流量センサ部１０とを並列的に設け、前記流量センサ部１０からの流量測定信号と流量設定信号とを比較制御回路において比較し、この比較制御回路から出力される制御信号に基づいて制御バルブ３１の開度を制御するようにしたマスフローコントローラ３であって、前記本体ブロック１内に前記バイパス素子７を設けるとともに、前記本体ブロック１の側面ｎに前記流量センサ部１０を設ける一方、前記本体ブロック１の上面ｓに前記制御バルブ３１を設けている。 （もっと読む）

【課題】構成の簡易化を図りつつ、しかも外乱に強い流量制御を実現する。
【解決手段】流体制御弁１０は、吸入通路２３と排出通路２４とを開通する流路面積を調整するための弁部材３１を有するとともに、弁部材３１に連結され二次側圧力とパイロット圧との圧力バランスにより作動するダイアフラム部材３８を有する。コントローラ５０は、電空レギュレータ４５によるパイロット圧を調整することで弁部材３１を変位させ流体流量を制御する。また、コントローラ５０は、電空レギュレータ４５によるパイロット圧調整値に基づいて二次側圧力を推定するとともに、一次側圧力と二次側圧力との圧力差に基づいて流体流量を算出する。 （もっと読む）

【課題】検出手段の取付精度による弁開度の個体差を減少させて、高精度な流量制御を可能にした流量制御弁の制御方法を提供すること。
【解決手段】この流量制御弁１の制御方法では、ピストン２２が、弁閉に到達したことをオンからオフになること又はオフからオンになることで検出する検出手段２５を設け、検出手段２５がオンからオフになった又はオフからオンになったときの操作信号値と基準原点に対応する操作信号値との差を個体差値とし、基準曲線を、個体差値によって補整する。 （もっと読む）

【課題】各ラインの流体を任意の比率で混合させ、脈動した流体も流量制御することができ、コンパクトな構成で狭いスペースに設置可能であり、設置における配管及び配線接続が容易である流体混合装置の提供。
【解決手段】２つの供給ラインがそれぞれ第一、第二流体制御弁と、各ラインの実流量を計測し信号を出力する各流量計測器と、各流体制御弁を制御するための指令信号を出力する各制御部とを具備し、２つの供給ラインに流れる各々の流体を任意の比率で混合させる。第一流体制御弁は制御用流体の圧力操作により流体の圧力を制御し、第２流体制御弁は流路の開口面積を変化させて流体の流量を制御する。例えば、半導体製造用の洗浄液を得るためにフッ化水素酸または塩酸が１に対して純水が１０〜２００の比率で混合される。 （もっと読む）

【課題】流量制御装置の二次側流体の圧力変動が発生した場合であっても流体流量の安定化を高精度で実現することができる流量制御装置及びその方法を提供する。
【解決手段】流体供給部１１から所定の流体使用部１５に対して流通する流体の供給ラインＬに配される流量制御装置１０であって、流体供給部側に配置される第１圧力制御弁部２０と、第１圧力制御弁部と圧力損失部４０を介して流体使用部側に配置される第２圧力制御弁部６０とを含み、第１圧力制御弁部は、一次側流体の圧力変動に対して第１弁室２２内に配置された第１弁部３０が第１弁座２５に対して進退して二次側流体を所定の圧力に維持する第１圧力制御機構Ｃ１を備えており、第２圧力制御弁部は、二次側流体の圧力変動に対して第２弁室６２内に配置された第２弁部７０が第２弁座６５に対して進退して一次側流体を所定の圧力に維持する第２圧力制御機構Ｃ２を備えている。 （もっと読む）