【課題】紫外線照射装置の清掃部の清掃能力を長時間に亘って維持することが可能な紫外線照射装置を提供する。
【解決手段】実施形態の紫外線照射装置１００は、内部に被処理水Ａを満たすことが可能な処理槽１と、被処理水Ａに面するように設けられる紫外線透過部３１と、光取出口２４を備え、紫外線を光取出口２４から出光させて、紫外線透過部３１を介して、被処理水Ａに照射する紫外線照射ユニット２と、清掃部５１と移動機構５２を有し、移動機構５２により紫外線透過部３１の被処理水Ａ側の表面を清掃部５１で清掃可能な清掃機構５と、清掃開始前及び終了後の清掃部５１と光取出口２４とを最短距離で結んだ直線Ｂ上に、少なくとも一部が介在するように配置された第１の遮光部４１ａと、を具備する。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で複数の紫外線照射装置を適切に冷却できる紫外線照射システムを提供する。
【解決手段】実施形態によれば、紫外線照射システムは、複数の紫外線照射装置を有する紫外線照射モジュールと、複数の冷却ダクトと、複数のブロアと、制御装置とを備えている。紫外線照射モジュールは複数のグループにグループ分けされ、複数の冷却ダクトはグループごとに設けられている。同じグループに属する複数の紫外線照射装置のそれぞれのランプハウスの内部は、グループごとに設けられた共通の冷却ダクトに通じている。制御装置は、同じグループに属する複数の紫外線照射装置の中で熱負荷が最大の紫外線照射装置を検知して、熱負荷が最大の紫外線照射装置に合わせた風量制御をそれぞれのグループごとに実行する。 （もっと読む）

【課題】装置の大型化を抑制し、被照射面に凹部や凸部があったとしても、当該凹部や凸部に対応する被照射面に光を十分に照射することができるようにすること。
【解決手段】光照射装置１０は、接着シートＡＳの接着剤層により形成される被照射面Ｓ１に光を照射する装置である。被照射面Ｓ１は、第１照射面ＳＡと、この第１照射面ＳＡに設けられた凸部からなる第２照射面ＳＢとを有する。光照射装置１０は、接着シートＡＳを支持する支持手段１１と、被照射面Ｓ１に対向して所定波長の光を照射可能な発光ダイオード２７を有する発光手段１２と、接着シートＡＳと発光手段１２とを相対移動させる移動手段１３とを備えている。発光手段１２は、発光ダイオード２７の中心ＣＴと被照射面Ｓ１上の焦点ＦＣとを通る光軸ＡＸを第１照射面ＳＡに対して斜め方向に設定可能に設けられ、第２照射面ＳＢでの光照射量の増大を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】ＳｉＣやＧａＮ等の難加工性物質の加工速度を向上できる光触媒反応型化学的加工方法を提供する。
【解決手段】光触媒薄膜１を被加工物３の表面１４に接触若しくは極接近させると共に、その間に酸性水溶液からなる反応処理液５を介在させ、光触媒薄膜１に光照射して生成した活性種を用いて被加工物３の表面１４を加工する光触媒反応型化学的加工方法において、反応処理液５のｐＨが４．８８以下となるような条件下で被加工物３の表面１４を加工する方法である。 （もっと読む）

【課題】高い発光強度を有する半導体ナノ結晶及びその半導体ナノ結晶を簡単に低コストで製造できる方法を提供すること。
【解決手段】複数の元素がイオン結合により結合している化合物半導体の構成元素を含む化合物を含有するイオン液体にマイクロ波を照射する。 （もっと読む）

【課題】 分離膜を用いることなく流体試料または気体試料から特定の流体又は特定の気体を分離させることができる流体分離装置、気体分離装置及びそれを用いた検出装置を提供すること。
【解決手段】 流体分離装置１２は、第１流体試料Ａを保持する保持部材１００と、保持部材に特定波長の光を照射する光源１１０と、を有する。第１流体試料Ａが特定物質を含むとき、特定物質が特定波長帯域の光を吸収する吸収率の最大値Ｌ１と、特定物質以外の第１流体試料中の他の物質が特定波長帯域の光を吸収する吸収率Ｌ２は、Ｌ１＞Ｌ２を満足し、かつ、保持部材が特定波長帯域の光を吸収する吸収率Ｌ３は、Ｌ３＜Ｌ１を満足する。 （もっと読む）

【課題】適切なパワーのマイクロ波を照射する方法、およびマイクロ波支援反応装置を提供する。
【解決手段】マイクロ波支援反応装置１０を、マイクロ波放射源１１、内部に複数の異なるタイプの反応容器１４を有するキャビティ１２、マイクロ波放射源およびキャビティをマイクロ波連通する導波路１３、センサ１５、インターフェース２０、コンピュータコントローラ２１から構成し、キャビティ内に位置決めされた反応容器の数および／またはタイプに応答して、マイクロ波放射源の出力を決定する。 （もっと読む）

【課題】稼働率を向上させる電子線照射システムを提供する。
【解決手段】電子線照射システム２００は、第１電子線照射装置１００ａと第１搬送ラインとを含んで構成される電子線照射ユニット２００ａと、第２電子線照射装置１００ｂと第２搬送ラインとを含んで構成される電子線照射ユニット２００ｂと、第１搬送ラインの第１搬出部３１２から第２搬送ラインの第２搬入部３５０に被照射物を送出するユニット間搬送部２１０と、第１照射領域Ｒ１を通過した被照射物の搬送先を、第１搬出口３１２ａおよびユニット間搬送部のいずれか一方に切り換える搬送先切換部２１４と、を備え、搬送先切換部が第１照射領域を通過した被照射物の搬送先をユニット間搬送部に切り換えたとき、第１照射領域を通過するときの被照射物における照射面と、第２照射領域を通過するときの被照射物における該照射面と、を異ならせる。 （もっと読む）

【課題】幅広の照射エリア内で良好な光量分布の照射光を得ることが可能な照射装置用光学ユニット及び照射装置を提供する。
【解決手段】照射装置用光学ユニットは、複数の光源から入射される光を多数のファイバ素線を束ねた複数のファイババンドルによってそれぞれ導光し出射する光照射装置用光学ユニットであって、各光源から入射される光を各ファイババンドルに導光する複数のカップリングレンズを備え、各ファイババンドルは、基端部においてファイバ素線が結束され各カップリングレンズからの光が入射される光入射面を形成し、先端部においてファイバ素線が矩形状に接合され導光した光を出射する光出射面を形成し、複数のファイババンドルの先端部は光出射面が連続するように一列に並べられて接合されており、各ファイババンドルのファイバ素線は、光出射面の少なくとも隣接する光出射面との接合部近傍において、二次元の正方稠密に配置されている。 （もっと読む）

【課題】ユーザに煩雑な作業を強いることなく、電子線の照射領域において、確実に被照射物同士を密接させて搬送する。
【解決手段】電子線照射システム１００は、被照射物Ｗに電子線を照射する電子線照射装置２００と、被照射物を搬送するとともに、電子線照射装置によって被照射物に電子線が照射される領域である照射領域Ｒに被照射物を通過させる第１搬送装置３１０と、第１搬送装置よりも被照射物の搬送方向上流側に設けられ、第１搬送装置の搬送速度Ｖ１よりも速い搬送速度Ｖ２で被照射物を搬送するとともに、第１搬送装置に被照射物を搬出する第２搬送装置３２０と、第２搬送装置に被照射物を送出する送出部３７０と、被照射物に応じて、搬送速度Ｖ１、搬送速度Ｖ２、および、送出間隔ＰＴを制御する制御装置３９０と、を備える。 （もっと読む）