【課題】酸・アルカリ触媒を用いず水だけで、さらに製造時間の短縮を図りながら、キチン単糖から誘導体を製造することができる方法および装置を提供する。
【解決手段】キチン単糖溶液を亜臨界水または超臨界水によって反応させることにより、キチン単糖の誘導体を製造する。亜臨界水または超臨界水中での前記キチン単糖の反応温度を１００〜４００［℃］の範囲に収まるように調節し、かつ、前記キチン単糖にかかる圧力を０．１〜４０［ＭＰａ］の範囲に収まるように調節する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、加熱時に消費されるエネルギーを低減することが可能な廃液処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】廃液処理装置１００Ａは、水及び有機物を含む廃液２１ａを処理し、水を亜臨界水、過熱水蒸気又は超臨界水に変化させると共に、有機物を酸化させる内管１１と、内管１１に廃液２１ａを供給する廃液供給部２０と、内管１１に空気を供給する空気供給部３０を有し、内管１１の外面には、コイル状の管に酸化カルシウムが充填されている熱交換型反応器１５が接合されている。 （もっと読む）

【課題】真空処理室において高温で処理された後に搬送されるウェハを微小異物や汚染が問題にならない温度に効率良く冷却できる真空処理装置を提供する。
【解決手段】試料を収納するカセットが設置されるカセット台と、大気搬送室と、該大気搬送室から搬送された試料を収納し大気圧雰囲気もしくは真空に切り替え可能なロードロック室と、該ロードロック室に連結された真空搬送室と、真空搬送された試料を処理する真空処理室と、を備える真空処理装置において、前記大気搬送室内に配置され、前記真空処理室で処理された後の高温の試料８を冷却する冷却部を備え、該冷却部は、試料８を載置し冷却液１７の流路が設けられた試料台１５と、試料８の搬入口側に配置され試料台１５に向かって冷却用ガス１０を吹き付けるガス吹き付け管１１と、試料台１５を境に前記搬入口の反対側に配置され、吹き付けられた冷却用ガス１０を排気する排気口１２と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】大型の基板を真空中で処理するための真空容器において、軽量化、材料コストの低減を図り、比較的容易に製造し、運搬時の取り扱いを容易にすることができる真空容器、及び、そのような真空容器を備えた真空処理装置を提供する。
【解決手段】金属板が折り曲げられて形成され互いに結合されて内部に閉空間を構成する２枚を一組とする板材と、一組の板材が形成する閉空間の内面に当接されて閉空間に配置される補強板と、一組の板材の結合部を結合する締結部材と、を備えることを特徴とする真空容器であり、それを備えた真空処理装置である。 （もっと読む）

【課題】非接触式のシール機構を用いることにより、リークを起こすことなく真空槽外の動力源が生成する回転動力を真空槽内に導入する技術を提供する。
【解決手段】
真空槽２１の開口２２に筒状部材１１を設け、筒状部材１１と開口２２に挿通した動力伝達軸１２の一端を真空槽２１内に挿入し、他端を真空槽２１の外部に配置された動力源１６に取り付ける。筒状部材１１内周面の噴出装置１７からベアリングガスを噴出し、筒状部材１１と動力伝達軸１２とを非接触にする。真空槽２１内を大気圧より低い圧力にすると、動力伝達軸１２に真空槽２１内に引き込む力がかかり、第二の板状部材３２が球状部材３３を介して第一の板状部材３１に押しつけられ、動力伝達軸１２は一定の向きに維持される。動力源１６を動作させて動力伝達軸１２を回転移動させると、動力伝達軸１２は一定の向きに維持されたまま筒状部材１１と接触せずに回転移動する。 （もっと読む）

【課題】極高真空領域まで真空排気される真空容器のシール材としてエラストマー素材のシール材を使用することができる真空容器を提供する。
【解決手段】２分割される真空容器１２の合せ面にシール材２０を有して気密に保持される真空容器１２であって、合せ面の真空容器の内側にラビリンス形成装置を備え、ラビリンス形成装置２２は、凹部２３が形成された凹部材２３と、凹部２３ａの内面と僅かな隙間を有して配置される凸部２５を有する凸部材２５ａと、凹部材２３ａに凸部材２５ａを近づける方向に動作させる上下動機構２８とを有する。 （もっと読む）

【課題】 化学反応を促進できるマイクロ波を加熱源として用いた高圧液相連続反応を、安全に実施するための装置を提供する。
【解決手段】 ガラス、プラスチックスあるいはセラミックス等のマイクロ波透過性材料で構成される耐圧反応管が、反応中に不測の事態によって破損して高温高圧の反応物が突出した場合に、これを安全に捕捉、回収できる耐圧性のシェルを反応管の外周に取り付けた多層耐圧構造型反応装置。このとき、シェルを単層とすることも勿論可能であるが、これを内殻および外殻の二層とすれば安全性は更に向上する。また、二層シェルの場合には、内殻シェル内の圧力を反応管内圧力と同程度に保持、制御することが可能で有り、この場合には反応管破損という不測の事態そのものの発生を抑制することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】ウェハやＦＰＤ用基板等の処理基板の処理装置を構成する真空容器に関するものであり、真空容器を構成する筐体に設けられた封止部材が接する部分を傷付けることなく、蓋板の開閉ができる真空容器を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係る真空容器は、開口部を有する筐体と、封止部材を備えた蓋体と、開閉可能な前記蓋体によって前記筐体の開口部を封止する真空容器において、前記蓋体の封止部材取付部より外側に傾斜部を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】超臨界又は亜臨界状態でのプラスチック成形品等の分解において、流量調整開閉弁の閉塞を防止し、分解槽から分解液を効率的に取り出して回収することのできる、新しい分解装置を提供する。
【解決手段】超臨界又は亜臨界の状態において被分解物を水熱分解する分解槽１と、この分解槽１内から取り出された高温高圧状態の分解液４０を冷却する冷却器２０と、分解槽１内から分解液４０を取り出す、分解槽１と冷却器２０とを接続する排出配管２と、を備え、排出配管２は、分解液４０の排出流量を調整する流量調整開閉弁３と、分解液４０中の固形分による流量調整開閉弁３の閉塞を防止する詰まり防止手段４とを有し、詰まり防止手段４は、分解液４０の排出流量を検出する流量検出手段２１と、この流量検出手段２１で検出した流量に応じて流量調整開閉弁３の開度を調整し分解液４０の排出流量を調整する流量制御手段６とで構成されている。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理空間からの排気を均一に行う。
【解決手段】プラズマ処理空間を囲う真空チャンバ２と、その壁を貫通する開口２ａに対して外側から吸引口５１ａが連通接続された真空ポンプ５０と、プラズマ処理空間に臨んで基板を乗載可能な基板支持体１２とを備えたプラズマ処理装置において、真空ポンプ５０を介して真空チャンバに基板支持体１２を固設する。また、その支持脚１２ａが、開口２ａの中央を通り、真空ポンプ５０の支軸５２を兼ねるようにする。さらに、その支軸５２を中空の杆体にする。これにより、プラズマ処理空間から開口に至る排気路が基板支持体の周りで同じになるうえ、その開口のところでも同一性が維持されて、排気が均一になる。コンパクトな装置にもなる。 （もっと読む）