【課題】フイルム密着性の高い容器用鋼板を提供する。
【解決手段】Ｚｒイオン、Ｆイオンを含む溶液中で、鋼板を浸漬又は電解処理して形成される、付着量が、金属Ｚｒ量で０．１〜１００ｍｇ／ｍ^２、Ｆ量で０．１ｍｇ／ｍ^２以下の化成皮膜と、該化成皮膜上に、付着量が、Ｃ量で０．０５〜５０ｍｇ／ｍ^２であるヒドロキシ酸処理層とを有する、容器用鋼板。 （もっと読む）

【課題】磁区細分化用の溝を形成した方向性電磁鋼板であって、局所的な絶縁コーティングの被膜剥離を低く抑えることができ、優れた耐食性および絶縁性を有する方向性電磁鋼板を提供する。
【解決手段】線状溝の底面部における絶縁コーティングの膜厚をａ₁(μm)、線状溝部以外の鋼板表面の絶縁コーティング膜厚をａ₂(μm)とするとき、これらａ₁およびａ₂が、以下の式(1)および(2)の関係を満足するように制御する。
0.3μm≦ａ₂≦3.5μm ・・・(1)
ａ₁／ａ₂≦2.5 ・・・(2) （もっと読む）

【課題】空気接触面に付着した金属、金属合金、金属化合物、又は金属間化合物層から成る耐傷性を有する保護層を提供する。
【解決手段】この保護層の厚さは、通常、１〜３ｎｍであり、酸化後、光学吸収を持つ。この層は、始めに主に未酸化又は未窒化状態で付着される。該金属、金属合金、金属化合物、又は金属間化合物層は、空気に曝された後、数日以内に完全に酸化する。この層を酸素又は窒素等の反応性ガスを含むプラズマ、放電、又はイオンビームに曝す場合は、この保護層の厚さは、２〜５ｎｍであってもよい。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、還元剤を共存させない場合でも、大気中にて従来よりも低い温度で還元し銀を生成し得る酸化銀を提供し、前記酸化銀を用いて従来よりも低い温度で導電性を発現し得る導電性組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 Ａｇ₂Ｏを含有する酸化銀組成物（１）と有機系保護剤とを含有する酸化銀組成物（２）であって、前記酸化銀組成物（２）の一次粒子径が１０〜１５０ｎｍであり、
大気中での熱分解試験による熱分解開始温度が１００℃以上１１５℃未満であり、１５０℃までに４重量％以上９重量％以下の無機物が重量減少し得る、酸化銀組成物（２）。 （もっと読む）

【課題】防錆性、密着性、耐熱性等の必要な諸性能を有し、打抜き加工後に酸化性を有する雰囲気で歪取り焼鈍を行ってもスティッキングを生じないクロム不含の絶縁皮膜を備えた電磁鋼板。
【解決手段】ＳｉＯ₂およびシリカと共働してガラス化可能な酸化物（例、ＣａＯ、Ａｌ₂Ｏ₃）よりなる群から選ばれる１種または２種以上の酸化物から構成された酸化物層のみからなるか、または酸化物層の上に水溶性多価金属塩を含む液の塗布と焼き付けにより形成された上層を備えた絶縁皮膜を形成する。酸化物層の付着量は該酸化物の合計付着量として０.３〜１.５ｇ／ｍ²、上層の付着量が１.５ｇ／ｍ²以下である。上層は合成有機樹脂を含んだ半有機皮膜でもよい。 （もっと読む）

【課題】面方向熱伝導性、及び耐食性に優れた樹脂塗装金属材を提供すること。
【解決手段】本発明の樹脂塗装金属材は、金属基材の少なくとも片側に、扁平状で平均粒子長が１０μｍ以下のＡｌ粒子を３５〜６５質量％含み、膜厚が３．０〜８．０μｍの樹脂皮膜を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基材、金属膜およびインク受容層からなるインクジェット記録媒体において、高い光沢感を落とすことなく、記録媒体を着色すること。
【解決手段】金属層の鑑賞側の面上に設けられた第一の層の屈折率がこの第一の層の鑑賞側の面上に設けられた第二の層と屈折率が異なっており、且つ第一の層（異屈折率層）の厚さが可視光線の波長範囲の１／４の整数倍の値であることを特徴とするインクジェット記録媒体。 （もっと読む）

【課題】クロメートフリーの水系金属表面処理剤を用いて防錆処理した、耐食性、塗膜密着性、スポット溶接性に優れたSn−Znめっき鋼板を提供する。
【解決手段】鋼板と、鋼板の一面または両面に形成されたSn−Znめっき層と、Sn−Znめっき層上に形成された複合皮膜とを具備してなり、複合皮膜は、所定の有機ケイ素化合物と、チタンフッ化水素酸またはジルコンフッ化水素酸から選ばれる少なくとも１種のフルオロ化合物と、りん酸と、ヘテロポリ酸化合物と、が含有されてなり、有機ケイ素化合物とフルオロ化合物とりん酸とが、所定の質量比からなることを特徴とする耐食性、塗膜密着性、スポット溶接性に優れたSn−Znめっき鋼板を採用する。 （もっと読む）

【課題】 実装性、視認性、パターニング性、ピール強度に優れかつ安価なフレキシブル金属張積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】 銅箔上に直接又は接着剤層を介して特定のポリアミドイミド樹脂フィルム（Ａ層）が積層され、さらにその上に特定のポリアミドイミド樹脂フィルム（Ｂ層）が積層されたフレキシブル金属張積層体の製造方法であって、方法が、（イ）Ａ層を構成する樹脂を溶媒に溶解させて調製された樹脂溶液を、銅箔上に直接又は接着剤層を介して塗工して塗膜を形成させる工程；（ロ）（イ）で形成された塗膜を乾燥する工程；（ハ）Ｂ層を構成する樹脂を溶媒に溶解させて調製された樹脂溶液を、（イ）で形成された塗膜の上に塗工して塗膜を形成させる工程；及び（ニ）（ハ）で形成された塗膜を乾燥する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】透過・反射バンドが広く、しかも導電性（電磁波遮蔽性）、可視光透過性、および近赤外線遮蔽性に優れた導電性積層体、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムおよびプラズマディスプレイ用保護板を提供する。
【解決手段】基体１１と、基体１１上に形成された導電膜１２とを有し、導電膜１２が、基体１１側から、酸化物層１２ａと金属層１２ｂとが交互に計（２ｎ＋１）層［ｎは１以上の整数］積層された多層構造体であり、酸化物層１２ａが、酸化亜鉛と酸化チタンとを主成分として含有し、酸化物層１２ａにおけるチタンと亜鉛の合計に対するチタンの割合が、１〜２０原子％であり、金属層１２ｂが、銀または銀合金を主成分として含有し、導電膜の抵抗値が、０．５〜１．５Ωであり、導電性積層体の視感透過率が、６７．７％以上である導電性積層体１０。 （もっと読む）