説明

国際特許分類[C02F1/66]の内容

化学;冶金 (1,075,549) | 水,廃水,下水または汚泥の処理 (35,433) | 水,廃水,下水または汚泥の処理 (35,433) | 水,廃水または下水の処理 (21,821) | 中和によるもの;pH調整 (198)

国際特許分類[C02F1/66]に分類される特許

51 - 60 / 198


【課題】有機溶剤回収装置から分離され、排出される排水を曝気槽で処理した際に有機溶剤ガスがほとんど大気に排出されない有機溶剤含有ガス処理システムを提供すること。
【解決手段】吸着材を充填した吸着塔を備えた有機溶剤回収装置に、有機溶剤を含有する被処理ガスを導入し、有機溶剤を該吸着塔で吸着処理して有機溶剤濃度が減少した処理済みガスを排出し、該吸着塔における吸着処理が完了した後に、前記有機溶剤回収装置へスチームを導入し、吸着材から有機溶剤を脱着し、それにより吸着材を再生し、再生の際に発生する溶剤含有水蒸気を凝縮、分離する溶剤分離装置に導入し、有機溶剤を分離して回収する有機溶剤回収処理装置と、
前記溶剤分離装置から排出された排水中の有機溶剤成分を揮発除去する曝気槽と、
前記曝気槽から揮発した有機溶剤ガスを燃焼処理する燃焼装置が備わっている有機溶剤含有ガス処理システム。 (もっと読む)


【課題】反応性ガス注入装置や余剰反応性ガス処理装置等を別に設置する必要がなく、かつ藻類だけではなく、有害な微生物や化学物質のような有機汚濁物または毒性物質を含む原水の毒性や臭気等を効果的に除去できるようにする。
【解決手段】密閉容器2内に反応性ガスを予め充満させ、この反応性ガス雰囲気中で、有機汚濁物または毒性物質を含む原水を高圧で噴射し、衝撃板4に衝突させることで原水を霧状化すると同時に、この霧状化原水を密閉容器2内に充満された反応性ガスと反応させる。密閉容器2内に、衝突した後の処理水を所定の水位L1〜L2で溜める水溜め部22を形成する。この水溜め部22に溜まった処理水の水位L1〜L2より上方の密閉容器2内に反応性ガスを予め充満させる。 (もっと読む)


【目的】特に建設工事などで排出される廃木材や伐採木材が含む炭素を小規模な装置で固定化でき、固定化した固形物は扱いやすく、さらにアルカリ廃水は中和水あるいは水と炭酸カルシウムなどの固形物に処理・分解されるので、汚染水を全く排水しない炭素を含む伐採木材あるいは廃木材とアルカリ廃水との同時処理方法を提供することを目的とする。
【構成】大気中の炭素を吸収固定してなる伐採木材あるいは廃木材であるバイオマスを燃焼させてガス化し、伐採木材あるいは廃木材の廃棄処理を行い、ガス化した気体中からは二酸化炭素を分離回収し、回収した二酸化炭素と建設工事により発生するアルカリ廃水とを気液接触させて中和処理し、水と固形物とに分離する、ことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】
電気集塵機の内部洗浄において、電気集塵機の内部洗浄において洗浄効果の向上を図るとともに、廃棄処理する必要がある洗浄排水の量を低減することができる電気集塵機の洗浄方法を提供する。
【解決手段】
電気集塵機10の内部を水で洗浄する第1の洗浄では、その排水を廃棄処理する。第1の洗浄工程後、電気集塵機20の内部を人の手により水で洗浄する第2の洗浄では、その排水を炭酸水素ナトリウム17により中和する。中和した洗浄排水は第2の洗浄で再利用する。 (もっと読む)


【課題】従来よりも直径の小さな気泡を含む液体を製造することのできる微小気泡生成装置、水素水製造装置及び水素水製造方法を提供する。
【解決手段】微小気泡生成装置40は、流体の流入口41a及び流出口41bを有する筒体41と、筒体41内における流体の通路の内壁をなす外周面42aを有するロータ42と、筒体41における流体の通路の外壁をなしロータの外周面42aと対向する内周面43aを有するステータ43と、ロータ42及びステータ43を相対的に回転させるモータ44と、ロータ42の外周面42a及びステータ43の内周面43aの少なくとも一方に、周方向に周期的に形成される凹凸部42b,43bと、を備え、筒体41の流入口41aから流入する気液混合流体を、微小気泡を含む液体として筒体41の流出口41bから流出させる。 (もっと読む)


【課題】 半導体基体、液晶基体、磁性基体または超伝導基体製造プロセスにおけるウェット洗浄の洗浄水においてより高い洗浄効果を得るために、気体添加を目的とした気体透過性の膜を介して、適量の気体成分を洗浄水に添加することにより洗浄水のpHと酸化還元電位(ORP)をより簡便かつ精密に制御できる水溶液のpH及び酸化還元電位の制御方法及びその装置を提供する。
【解決手段】 気体添加を目的とした気体透過性の膜を介して、気体成分を水溶液に添加することにより水溶液のpHと酸化還元電位を制御するものであって、半導体基体、液晶基体、磁性基体または超伝導基体製造プロセスにおけるウェット洗浄の洗浄水として水素添加水を用い、前記水素添加水に添加する前記気体成分としてアンモニアガスを使用する。 (もっと読む)


【課題】一定量の炭酸ガスを排水に注入してpH値を一定に保持することができ、且つ信頼性が高く安全な排水処理システムを提供する。
【解決手段】この排水処理システム100は、側溝2からの排水3を導入して内部を通過させてから地盤に排出する貯留槽1と、上流側貯留室内の下部と、隣接する下流側貯留室内の上部に夫々端部開口を臨ませた連通配管8、11と、下流側貯留室C内の処理済水13を最上流の貯留室A内に循環させる循環ポンプ15と、炭酸ガスを貯留するガスボンベ4と、循環ポンプ15により循環された処理済水に炭酸ガスを注入するスタティックミキサ24と、スタティックミキサ24に炭酸ガスの注入量を制御するガス弁23と、制御装置20と、下流側貯留室C内の処理済水13を排出する排出ポンプ16と、を備えて構成される。 (もっと読む)


【課題】簡単な構成でpH値を一定に保持することができ、且つ環境破壊を抑制することができる排水処理システムを提供する。
【解決手段】側溝2からの排水3を導入して内部を通過させてから地盤に排出する貯留槽1と、上流から下流に向けて配列され仕切板9、12により仕切られた複数の貯留室A、B、Cを有し、最上流の貯留室A内に配置されて側溝2からの排水3を通過させる際に排水中のpH値を低下させるピートモス層5を配置し、上流側貯留室A内の下部7と、隣接する下流側貯留室B内の上部に夫々端部開口を臨ませた連通配管8と、下流側貯留室B内の下部と、隣接する下流側貯留室C内の上部に夫々端部開口を臨ませた連通配管11と、下流側貯留室C内の処理済水13を最上流の貯留室A内に循環させる循環ポンプ15と、下流側貯留室C内の処理済水13を排出する排出ポンプ16と、を備えて構成される。 (もっと読む)


【課題】 次亜塩素酸、あるいは、二酸化塩素を主成分とする殺菌水は即効性があり、殺菌力が強力で、かつ、残留性の低い優れた殺菌水であることはよく知られている。しかし、この殺菌水は生成が難しく高価な装置が必要で設備投資費用がかさんでしまうという問題があり、初期投資費用を低く抑えたいと言う要望が強い。
【解決手段】 本発明は、炭酸ガスの干渉性を利用することにより、生成される殺菌水のpH値を安定的に調整する方法を用い、装置の構造を簡略化して価格を低く抑えられる方法と装置を提案している。また、原水のpH値だけを調整することにより、従来から利用されている殺菌剤の注入方法や注入装置をそのまま用いることができる方法と装置も提案している。さらに、水が掛かったり腐食性のある雰囲気中でも設置できる装置の構造も提案している。 (もっと読む)


【課題】ドレンの見かけ上の反応速度を上げ、中和装置を小型化できる中和装置及びそれを備えた空気調和装置を提供する。
【解決手段】エンジンの排気ガスから生成された凝縮水Dを中和して排出する中和装置60において、排気ガス及び凝縮水Dを導く導入口65、及び排気ガスを排出する排出口66を設けた分離室63と、分離室63にて分離した凝縮水Dを流入させる流入口68、流入した凝縮水Dを中和する中和剤N、及び中和した凝縮水Dを排出する流出口69を設けた中和室64とを備え、中和室64に、流入口68から流出口69に向けて凝縮水Dを重力方向に流下させながら中和剤Nに接触させる経路を形成した。 (もっと読む)


51 - 60 / 198