国際特許分類[C07C309/12]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機化学 (230,229) | 非環式化合物または炭素環式化合物 (64,036) | スルホン酸;そのハライド,エステルまたは無水物 (1,275) | スルホン酸 (891) | スルホン酸基が非環式炭素原子に結合しているもの (629) | 非環式飽和炭素骨格の (577) | 炭素骨格に結合している酸素原子を含有するもの (179) | 炭素骨格に結合しているエステル化された水素基を含有するもの (90)
国際特許分類[C07C309/12]に分類される特許
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フッ素系界面活性剤
本発明は、Yが、式I
(式中、Rfは、CF3−(CH2)r−、CF3−(CH2)r−O−、CF3−(CH2)r−S−、CF3CF2−S−、SF5−(CH2)r−、[CF3−(CH2)r]2N−、[CF3−(CH2)r]NH−または(CF3)2N−(CH2)r−を表し、Bは、単結合、O、NH、NR、CH2、C(O)−O、C(O)、S、CH2−O、O−C(O)、N−C(O)、C(O)−N、O−C(O)−N、N−C(O)−N、O−SO2またはSO2−Oを表し、Rは、1〜4個のC原子を有するアルキルを表し、bは、0または1を表し、cは、0または1を表し、qは、0または1を表し、ここでbおよびqからの少なくとも1つのラジカルは、1を表し、ならびにrは、0、1、2、3、4または5を表す)を表す末端基Yの、界面活性化合物における末端基としての使用、対応する新規な化合物、およびこれらの化合物の製造方法に関する。
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フッ素系界面活性剤
本発明は、少なくとも1つの基Yを含むポリオール類の脂肪酸エステル類またはスルホン化脂肪酸エステル類またはスルホン化脂肪酸アミド類であって、Yが、CF3−(CH2)a−O−、SF5−、CF3−(CH2)a−S−、CF3CF2S−、[CF3−(CH2)a]2N−もしくは[CF3−(CH2)a]NH−(式中、aは0〜5の範囲から選択される整数を表す)、または式(I)(式中、RfはCF3−(CH2)r−、CF3−(CH2)r−O−、CF3-(CH2)r−S−、CF3CF2−S−、SF5−(CH2)r−もしくは[CF3−(CH2)r]2N−、[CF3−(CH2)r]NH−もしくは(CF3)2N−(CH2)r−を表し、Bは単結合、O、NH、NR、CH2、C(O)−O、C(O)、S、CH2−O、O−C(O)、N−C(O)、C(O)−N、O−C(O)−N、N−C(O)−N、O−SO2もしくはSO2−Oを表し、Rは1〜4個のC原子を有するアルキルを表し、bは0もしくは1を表し、cは0もしくは1を表し、qは0もしくは1を表し、ここでbおよびqからの少なくとも1つのラジカルは1を表し、rは0、1、2、3、4もしくは5を表す)を表す化合物、これらの化合物の製造方法、ならびにこれらの界面活性化合物の使用に関する。
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モノグリセリドスルホネートを利用した化粧石鹸組成物
【課題】石鹸製造時の成形および打抜き作業性、石鹸使用時のやわらかさ、平滑度、気泡度および保湿力に優れた化粧石鹸組成物を提供すること。
【解決手段】以下の化学式1のモノグリセリドスルホネートと、脂肪酸系石鹸を1:0.3〜0.03:1の混合比で含む混合物50〜90重量部;
[化学式1]
(式中、Rは炭素数7〜21のアルキルであり、Mはナトリウム、カリウム、トリエタノールアミンまたはアンモニアである)
脂肪酸1〜12重量部;および結合剤(可塑剤)または賦形剤1〜25重量部を含み、
前記モノグリセリドスルホネートは、RCOO−部分がラウリン酸とミリスチン酸であるものの含量が60重量%以上である、化粧石鹸組成物。
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熱酸発生剤及びこれを含むレジスト下層膜材料、並びにこのレジスト下層膜材料を用いたパターン形成方法
【解決手段】式(1a)で示される100℃以上の加熱で酸を発生する熱酸発生剤。
CF3CH(OCOR)CF2SO3-(R1)4N+ (1a)
(式中、Rはアルキル基又はアリール基。R1は水素原子、アルキル基、アルケニル基、オキソアルキル基、アリール基、アラルキル基又はアリールオキソアルキル基を示すか、あるいはR1のいずれか2つ以上が相互に結合して式中のNと共に環を形成してもよい。)
【効果】本発明の熱酸発生剤から発生するスルホン酸は、分子内にエステル部位を有しているため、嵩の低いアシル基から嵩の高い基の導入が容易であり、分子設計の幅を大きく持つことができる。また、これら熱酸発生剤は、十分な酸強度を有し、高分子量で揮発性も低く、加熱により十分な膜形成ができる。デバイス作製後のレジスト廃液処理の際にはより低分子量の低蓄積性の化合物へと変換が可能で、燃焼性も高い。
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新規スルホン酸塩及びその誘導体、光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
【解決手段】式(1)で示されるスルホン酸塩。
CF3−CH(OCOR)−CF2SO3-M+ (1)
(Rは置換もしくは非置換の炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、又は置換もしくは非置換の炭素数6〜14のアリール基を示す。M+はリチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、アンモニウムイオン、又はテトラメチルアンモニウムイオン)
【効果】本発明のスルホン酸は、分子内にエステル部位を有しているため、嵩の低いアシル基から嵩高いアシル基、ベンゾイル基、ナフトイル基、アントライル基等の導入が容易であり、分子設計の幅を大きく持つことができる。
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モノマー中間体の製造方法
【課題】工業的に有用なパーフルオロビニルエーテルモノマーの合成中間体であるFOC(CF2)m−1SO2F(m=3〜6)を製造するための前駆体の新規製造方法を提供する。
【解決手段】
下記一般式(1)
RfCOO(CH2)mSO3−Y+ (1)
(式中、Rfは炭素原子数1〜20の一価のパーフルオロ炭化水素基であり、酸素原子及び/又はイオウ原子を含んでいてもよく、部分的に塩素原子あるいは水素原子が置換していてもよい。またmは3〜6の整数である。Y+は一価のカチオンを表す。)
で表される化合物を原料として下記一般式(2)
RfCOO(CH2)mSO2X (2)
(式中、Rfとmは上記一般式(1)と同じであり、X=F又はClである。)
で表される化合物を製造することを特徴とする上記一般式(2)で表される化合物の製造方法。
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トリヨードアリール基を有するカルボン酸エステル
【課題】 病巣選択的に造影するためのリポソーム含有ヨード造影剤に適したヨード化合物を提供する。
【解決手段】 下記一般式(I):
【化1】
(式中、 Arは少なくとも3個のヨウ素原子を有するアリール基を示し;Aは−O−又は−CH2−を示し;nは5〜15の整数を示し;R1は1〜6個の炭素原子から構成される飽和又は不飽和の基を示す)で表される化合物又はその塩。
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新規なアシルアルキルイセチオン酸エステルおよび消費者製品における応用
本発明は、消費者製品において有用なアシルアルキルイセチオン酸エステルを提供する。このアルキル置換ヒドロキシルアルキルスルホン酸塩は、1つ以上のカルボン酸と1つ以上のアルキル置換ヒドロキシアルキルイセチオン酸エステルとエステル化反応条件下で反応させることにより製造される。このエステルの製造において原材料として使用されるアルキル置換ヒドロキシアルキルイセチオン酸エステルは、重亜硫酸塩と1つ以上のアルキレンオキシドとを反応させることにより製造される。
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(E)−ヒドロインダン−4−イリデンエタノール誘導体の製造方法
スチレン誘導体の製造方法
【目的】 高密度集積回路プロセスに用いられるフォトレジスト材料の重合モノマーである各種の置換オキシスチレンを入手及び取扱いが容易な原料から操作簡易に高収量で製造することを目的とする。
【構成】 〔化1〕で示されるベンズアルデヒド誘導体とジブロムメタンとを亜鉛金属と活性な塩化物との存在下で有機溶媒中で反応し〔化2〕で示されるスチレン誘導体の製造方法。
【化1】
(式中Rは、アルキル基、アルコキシアルキル基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、酸素原子を含む5又は6原子複素環基もしくはアルキルシリル基を表す)
【化2】
(式中Rは前記と同一意義を有す)
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