【課題】 プラズマを用いた表面処理の生産性、効率性向上を図ることのできるイオン化率の計測方法及び装置を提供する。
【解決手段】 プラズマ６を用いて表面処理を行う真空チャンバ１内に、少なくとも一つのイオン化率計測用基材ホルダー８に複数個のイオン化率計測用基材４を配置し、該イオン化率計測用基材４に略プラズマ電位以下の電位を印加した場合とプラズマ電位より高い電位を印加した場合について、同一時間、成膜を実施し、その後それぞれのイオン化率計測用基材４の膜厚を測定して、その膜厚測定結果からイオン化率を算出する。 （もっと読む）

【課題】蒸発源の消耗に伴って変化する薄膜表面の平滑性や薄膜の残留応力の変化を低減でき、蒸発源の利用効率を向上させることができるアークイオンプレーティング装置および成膜方法を提供する。
【解決手段】中央磁石１５とリング状磁石１６とにより陰極２０の蒸発源５のバッキングプレート２１上に生じる陰極面磁場は、そのバッキングプレートの端面から内方に所定幅の端部領域を除く内側領域表面の磁束密度が７〜１５ｍＴであり、端部領域表面の磁束密度が内側領域表面の磁束密度よりも３ｍＴ以上大きく設定されており、陰極に蒸発源を載置した状態における蒸発源の表面に生じる磁場を、陰極面磁場と同じ大きさにするように、ソレノイドコイル１７に、蒸発源の消耗に伴ってソレノイドコイルに流す電流値を変化させ、蒸発源の表面に生じる磁場の大きさを保持するコイル電源１８、磁場測定器及び、コイル電流制御機構１９が設けられている。 （もっと読む）

【課題】蒸発源の消耗に伴って変化する薄膜表面の平滑性や薄膜の残留応力の変化を低減でき、蒸発源の利用効率を向上させることができるアークイオンプレーティング装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】リング状磁石およびソレノイドコイルの極性の向きは同一に設定され、中央磁石の極性の向きはリング状磁石およびソレノイドコイルの極性の向きと逆に設定され、中央磁石、リング状磁石およびソレノイドコイルとにより蒸発源の表面に生じる磁場の初期設定値は、蒸発源の端面から内方に所定幅の端部領域を除く内側領域表面の磁束密度が７〜１５ｍＴであり、端部領域表面の磁束密度が内側領域表面の磁束密度よりも３ｍＴ以上大きく設定されており、ソレノイドコイルに、蒸発源の消耗に伴ってソレノイドコイルに流す電流値を変化させ、初期設定値を保持するためのコイル電源、磁場測定器およびコイル電流制御機構が設けられている。 （もっと読む）

【課題】高品質な膜の形成を可能とできるプラズマ成膜方法を提供する。
【解決手段】プラズマ状態とし、重畳バイアス電圧をバイアス電圧印加部１１に印加し、マイナス電圧区間ではイオンがワーク１４に衝突して該ワーク表面に膜層を形成して行き、プラス電圧区間５３では前記膜層の弱い付着力のイオンは該膜層から離れ移動し、かつ、電子が前記膜層に衝突して弱い付着力のイオンおよび該膜層の一部を剥がし、強付着力の膜による第１回目強付着膜層を残し、マイナス電圧区間とプラス電圧区間を繰り返すことにより、前記第１回目強付着膜層〜前記第ｎ回目強付着膜層からなる多層膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】ピンチングにより高エネルギーのプラズマ・電子ビームを発生できるプラズマ・電子ビーム発生装置、薄膜製造装置及び薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】薄膜製造装置は、パルス生成器２でパルストリガーが付与される予備室１と、予備室１の下流域に取り付けられ、かつ高電圧が印加され、真空下及び減圧下でプラズマを発生させる中空カソード４と、中空カソードから延びるキャピラリー状放電管３と、前記電圧を印加する印加手段６と、前記放電管３を収容する真空チャンバー７と、真空手段８と、放電管３からのプラズマ・電子ビームが照射されるターゲット９と、ターゲットの構成元素を蒸着させるための基板１０とを備えている。さらに、前記放電管３をアノードと同電位に接地するためのアース手段１１を備え、前記放電管３は、比誘電率が３．５以上を越え、二次電子放電係数γが１以上であり、かつ沿面放電によりプラズマを発生可能な材料で形成されている。この装置は、基板に硬質炭素膜などを形成するのに有用である。 （もっと読む）

【課題】長時間連続して基材上に蒸着材料を蒸着させることができるとともに、品質の高い薄膜を基材上に形成することが可能な真空成膜装置を提供する。
【解決手段】真空成膜装置が、真空容器１０と、真空容器内に、被成膜面を下向きにして配設される基材１１と、真空容器内の基材の下方に配置され、上記被成膜面に略対向する位置に設けられる蒸着材料収納容器開口部１７２を上面に有する蒸着材料収納容器１８と、アノード電極３１を有し、真空容器内にプラズマを照射するプラズマガン３と、蒸着材料収納容器を加熱し、蒸着材料を蒸発させる加熱部４と、蒸着材料収納容器に正電位を印加する、電位印加部５と、を備える。 （もっと読む）

【課題】高い生産性で多段蒸着フィルムを製造する方法を提供する。さらに、多段蒸着フィルムの厚みの増加を小さい範囲に抑えつつ、水蒸気バリア性を大幅に高める技術を提供する。
【解決手段】アノード電極を有するプラズマガンを備えた真空成膜装置を用いて、該真空成膜装置内の蒸着材料収納容器に保持された蒸着材料を蒸発させ、基材の被成膜面に薄膜を形成する第一薄膜形成工程と、第一薄膜形成工程と同様にして、上記薄膜上にさらに薄膜を形成する第二薄膜形成工程と、を備える多段蒸着フィルムの製造方法を採用し、薄膜の形成を、蒸着材料収納容器を上記蒸着材料が蒸発する温度以上に加熱するとともに、蒸着材料収納容器に正電位を印加してプラズマガンから放出される電子を蒸着材料に照射しながら行なう。 （もっと読む）

【課題】簡便な工程でありながら、１バッチで粉体に対してクラスタを均一に堆積させることが可能な粉体に対するクラスタ堆積方法を提供すること。
【解決手段】ターゲット材料からクラスタＣを生成する工程と、
クラスタＣの中から質量フィルタによりクラスタサイズを基準として堆積用のクラスタを選別する工程と、
担体粒子Ｐからなる粉体と液体との混合物を真空中に噴出させる工程と、
真空中に噴出された前記混合物中の担体粒子Ｐに、前記堆積用のクラスタを接触させることにより、担体粒子Ｐの表面上にクラスタＣを堆積させる工程と、
を含むことを特徴とする粉体に対するクラスタ堆積方法。 （もっと読む）

【課題】成膜材料がカバーに付着した際のメンテナンス作業の簡素化を図ることが可能な成膜装置を提供すること。
【解決手段】主ハース２１とカバー２８との間に絶縁体２２を配置し、電源３３と主ハース２１とを接続する第１の配線３１に第１のスイッチ３４を設け、電源３３とカバー２８とを接続する第２の配線３２に第２のスイッチ３５を設ける。これにより、スイッチ３４，３５を開閉することで、主ハース２１とカバー２８との間に電位差を生じさせることができる。よって、プラズマ源７から生成されたプラズマビームを主ハース２１側へ誘導することが可能となり、プラズマビームをカバー２８側へ誘導することも可能となる。プラズマビームをカバー２８へ誘導することで、カバー２８に付着した成膜材料を加熱して、再昇華させることができる。 （もっと読む）

【課題】第１中間電極の損傷を防止でき、磁界強度を容易に変更できる圧力勾配型プラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】順に配置された、陰極と、第１および第２中間電極と、陽極とを有する圧力勾配型プラズマ発生装置であって、第１および第２中間電極は、所定の大きさのオリフィスを備える。第１中間電極２は、内部に電磁石が配置されている。この電磁石は、オリフィス２ａを取り囲むように周方向に沿って配置した複数のコイル５１〜５４を含む。これにより、環状の永久磁石を配置した場合と同様に、外側のループ状の磁力線５５と内側のループ状の磁力線５６とを形成することができ、オリフィス２ａ内に磁界を形成するとともに、陰極側の側面に平行な磁界５７，５８を広範囲に形成できる。 （もっと読む）