【課題】基板抵抗にかかわらずシリコンウェーハにおける酸素析出物の有無および面内分布を高精度に評価するための手段を提供すること。
【解決手段】評価対象シリコンウェーハに対して該シリコンウェーハ表面においてフォトルミネッセンス強度の面内分布を示す第一の面内分布情報を取得すること、上記第一の面内分布情報取得後の評価対象シリコンウェーハに対して熱酸化処理を施した後、該シリコンウェーハ表面においてフォトルミネッセンス強度の面内分布を示す第二の面内分布情報を取得すること、第一の面内分布情報と、第二の面内分布情報に１未満の補正係数による補正を加えて得られた第三の面内分布情報との差分情報を得ること、および、得られた差分情報に基づき、評価対象シリコンウェーハにおける酸素析出物の有無および酸素析出物の面内分布からなる群から選ばれる評価項目の評価を行うこと、を含むシリコンウェーハの評価方法。 （もっと読む）

【課題】装置を大型化すること無く選択波長の可変範囲を容易に広げること。
【解決手段】この分光装置は、光源からの光Ｌ２を、光Ｌ２の入射角に応じた波長範囲で選択的に透過させる４枚のバンドパスフィルタ１１ａ〜１１ｄと、バンドパスフィルタ１１ａ〜１１ｄが主面１０ａ上に立設され、主面１０ａに沿って回転中心Ｃ_１の周りを回転可能にされた平板状の回転テーブル１０とを備える分光装置であって、４枚のバンドパスフィルタ１１ａ〜１１ｄは、それぞれ、光入射面１２或いは光出射面１３が、回転テーブル１０の主面１０ａ上の回転中心Ｃ_１と主面１０ａ上の該バンドパスフィルタ１１ａ〜１１ｄの中心点１５ａ〜１５ｄとを結ぶ線に対して傾斜するように配置されている。 （もっと読む）

【課題】簡易・簡便に、しかも多結晶シリコン棒中の所望の位置における置換型炭素不純物の大凡の濃度が測定可能な方法を提供すること。
【解決手段】多結晶シリコンロッドから板状多結晶シリコンを切り出し、該板状多結晶シリコンの両面を鏡面研磨して２.１２±０．０１ｍｍの厚みとする。置換型炭素濃度が既知の厚み２．００±０．０１ｍｍの単結晶シリコン標準試料を用いて赤外吸収分光法により標準測定法に則って検量線を作成し、鏡面研磨後の板状多結晶シリコンの置換型炭素の吸収帯ピークを含む波数領域の赤外吸収スペクトルを検量線作成時と同一条件下で求め、厚み補正を行うことなく置換型炭素濃度を求める上記置換型炭素濃度が既知の単結晶シリコン標準試料は、ＪＥＩＤＡによるラウンドロビン等で用いられた標準試料に準じて作成されたものが好ましい。 （もっと読む）

【課題】基板に形成された凹部の深度を、非破壊、非接触で検査できるとともに、高速に検査できるようにする技術を提供する。
【解決手段】基板検査装置１００は、ポンプ光の照射に応じて、基板Ｗに向けてテラヘルツ波を照射する照射部１２と、プローブ光の照射に応じて、基板Ｗを透過したテラヘルツ波の電場強度を検出する検出部１３と、テラヘルツ波が検出部１３に到達する時間と、検出部１３における検出タイミングを遅延させる遅延部１４とを備える。また、基板検査装置１００は、基板Ｗの第１領域を透過した第１テラヘルツ波の時間波形を構築する時間波形構築部２１と、基板Ｗの第２領域を透過した第２テラヘルツ波について、特定の検出タイミングで検出される電場強度と、前記時間波形とを比較することにより、第１テラヘルツ波と第２テラヘルツ波の位相差を取得する位相差取得部２４とを備える。 （もっと読む）

【課題】ウエハの特性を決定するための方法とシステムを提供する。
【解決手段】検査システム１６を用い、ウエハからの光に対応する出力を生成することを含む。出力は、ウエハ上の欠陥に対応する第一出力と、欠陥に対応しない第二出力とを含む。また本方法は、第二出力を用い、ウエハの特性を決定することを含む。一つのシステム１６は、ウエハに光を当て、ウエハからの光に対応する出力を生成するように設定された検査サブシステムを備える。出力は、欠陥に対応する第一出力と、欠陥に対応しない第二出力を含む。また本システムは、第二出力を用い、ウエハの特性を決定するように設定されたプロセッサを備える。 （もっと読む）

【課題】ワイドバンドギャップ半導体などの光応答性の低い試料においても、精度の高いＣＰＭ測定が可能となる測定方法を提供する。
【解決手段】ＣＰＭ測定の際、ワイドバンドギャップ半導体などの光応答性の低い試料に光を照射することで生成される光励起キャリアを、試料に設けられた測定用の２電極に加えて設けられた第３の電極に正のバイアス電圧を印加することにより瞬時に追い出す。光励起キャリアが追い出されることにより、光電流値の制御性が高まり、光応答性の低い試料においても精度よくＣＰＭ測定を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】パルス光を照射するパルス光源として半導体レーザが用いられた光音響画像化装置において、高画質の光音響画像を能率良く取得可能にする。
【解決手段】生体組織にパルス光を照射するパルス光源としてレーザ光源１０２が用いられてなる光音響画像化装置において、レーザ光源１０２として、光音響画像化装置の稼働時に常時駆動可能なものを用いる。そしてこのレーザ光源１０２と生体組織との間のレーザ光の光路に、開閉動作して、該レーザ光の通過を制御するシャッタ手段１５０を介設する。 （もっと読む）

【課題】複数の光ファイバを用いてレーザ光を導光して実施する光音響イメージングにおいて、複数の分岐光と複数の光ファイバとの位置合わせを容易にすることを可能とする。
【解決手段】光音響撮像装置において、光学系の上流側から入射した１本のレーザ光Ｌｏを所定の分岐パターンに従って複数の分岐光Ｌｄとして分岐せしめる分岐回折光学素子４０を有する光分岐部１２と、コア１３ａ／クラッド１３ｂ構造を有する複数の光ファイバ１３を包含するバンドルファイバ１４であって、このバンドルファイバ１４の一方の端面１４ｅにおける複数の光ファイバ１３の一方の端面１３ｅが分岐パターンに対応して配列したバンドルファイバ１４とを備え、このバンドルファイバ１４を、複数の分岐光Ｌｄのそれぞれを複数の光ファイバ１３のコア１３ａのそれぞれに入射せしめるように配置する。 （もっと読む）

【課題】オーバーレイ測定、非対称性測定、およびインダイオーバーレイターゲットの再構築を可能にする。
【解決手段】四分くさび光デバイス（ＱＷ）は、基板から散乱した放射の回折次数を別々に再誘導し、第１方向および第２方向の各々に沿って照明から回折次数を分離する。例えば、０次（０、０’）および１次（−１、＋１’）を、各入射方向について分離する。マルチモードファイバ（ＭＦ）での捕捉の後、スペクトロメータ（Ｓ１−Ｓ４）を使用して波長（Ｉ_０’（λ）、Ｉ_０（λ）、Ｉ_＋１’（λ）、およびＩ_−１（λ））の関数としての空間的に再誘導された回折次数の強度を測定する。そして、これをオーバーレイエラーの計算、または単一格子の非対称パラメータの再構築に用いる。 （もっと読む）

【課題】複数の光ファイバを用いてレーザ光を導光して実施する光音響イメージングにおいて、複数の分岐光と複数の光ファイバとの位置合わせを容易にすることを可能とする。
【解決手段】光音響撮像装置において、異なる位置に入射した２本のレーザ光ＬｘおよびＬｙのうち一方および他方を分岐パターンに従ってそれぞれ第１の複数の分岐光Ｌｘｄおよび第２の複数の分岐光Ｌｙｄとして分岐せしめる１つの分岐ＤＯＥ４０を有する光分岐部１２と、一方の端面１３ｅが分岐パターンに対応して配列した第１の複数の光ファイバ１３ｘを包含する第１のバンドルファイバ１４ｘと、一方の端面１４ｅが分岐パターンに対応して配列した第２の複数の光ファイバ１３ｙを包含する第２のバンドルファイバ１４ｙとを備え、第１の複数の分岐光Ｌｘｄを第１の複数の光ファイバ１３ｘにより導光し、第２の複数の分岐光Ｌｙｄを第２の複数の光ファイバ１３ｙにより導光する。 （もっと読む）