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国際特許分類[G03F7/004]の内容

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【課題】モノエタノールアミンの吸着量の少ない硬化膜を形成可能な感光性樹脂組成物を提供すること。また、前記感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の形成方法、前記形成方法により形成された硬化膜、並びに、前記硬化膜を含む有機EL表示装置及び液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】(成分A)式(a1)〜式(a4)で表される構成単位を少なくとも有する共重合体、(成分B)式(B)で表されるオキシムスルホネート化合物、及び、(成分C)溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物、前記感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の形成方法、前記形成方法により形成された硬化膜、並びに、前記硬化膜を含む有機EL表示装置及び液晶表示装置。
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【課題】リソグラフィ工程において、解像度に優れ、DOFが広く、LERが小さく、さらには感度が高く優れたパターン形状を形成できるレジスト組成物を調製するのに適した、レジスト溶剤に溶解性の高い光酸発生剤を提供する。
【解決手段】ベース樹脂、光酸発生剤及び溶剤を少なくとも含有してなるレジスト組成物において、光酸発生剤が、下記一般式(4)で表される含フッ素スルホン酸塩であるレジスト組成物。


(式中、Xは水素原子またはフッ素原子を表す。nは1〜6の整数を表す。Rは水素原子、アルキル基、アルケニル基、オキソアルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。また、Rに含まれる炭素上の水素原子は、置換基によって置換されていてもよい。Rは、RO、RNのいずれかを表す。Aは、二価の基を表す。) (もっと読む)


【課題】レジスト溶剤への溶解性が高い、スルホニウム塩含有高分子化合物を提供する。
【解決手段】一般式(1a)、(2)及び(3)で示される繰り返し単位を含有する高分子化合物。


(R1はH、F、CH3又はCF3を示す。R2〜R4は、いずれか1つ以上は4−フルオロフェニル基である特定の置換基。R8はH、又はアルキル基を示す。pは0又は1、Bは単結合又は2価の有機基を示す。aは0〜3の整数、bは1〜3の整数、Xは酸不安定基を示す。) (もっと読む)


【課題】 感光性樹脂組成物層のタック性に優れ、また硬化後に、難燃性に優れた硬化膜を形成でき、高解像でアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性エレメントを提供する。
【解決手段】 (A)重量平均分子量が、10,000〜150,000であるポリイミド前駆体と、(B)ポリウレタン樹脂と、(C)リン含有化合物と、(D)分子内に少なくとも一つのエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物と、(E)光重合開始剤と、を含有する感光性樹脂組成物であって、前記(A)ポリイミド前駆体が、一般式(1)で表される特定のポリイミド前駆体、前記(B)ポリウレタン樹脂が、エチレン性不飽和基及び2つ以上の水酸基を有するエポキシアクリレート化合物と、ジイソシアネート化合物と、カルボキシル基を有するジオール化合物との反応生成物であって、一般式(2)で表される特定のポリウレタン樹脂を含有する感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】優れたフォーカスマージンで、レジストパターンを製造できるレジスト組成物、及びレジストパターンの製造方法を提供する。
【解決手段】〔1〕(a)で表される構造単位を有する樹脂


[式(a)中、Rは炭素数1〜6、Rは、炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基を表す。Aは、炭素数1〜6のアルカンジイル基などを表す。]及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。〔2〕前記〔1〕のレジスト組成物を用いるレジストパターンの製造方法。 (もっと読む)


【課題】得られるパターンのフォーカスマージン(DOF)及びマスクエラーファクター(MEF)が良好な塩及び該塩を含有するレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式(I)で表される塩及びこの塩を含有するレジスト組成物。


[式中、R及びRは、それぞれ、ヒドロキシ基又はアルキル基、該アルキル基中のメチレン基はオキシ基等で置き換わっていてもよい;Rはアルキル基;l、m及びnは、それぞれ0〜3の整数;pは1〜3の整数;スルホニウムカチオンを含む複素環のメチレン基はオキシ基、カルボニル基で置き換わっていてもよい;R及びRはそれぞれフッ素原子又はペルフルオロアルキル基;Lは2価の飽和炭化水素基、該基中のメチレン基はオキシ基、カルボニル基で置き換わっていてもよい;Yは脂肪族炭化水素基又は飽和環状炭化水素基等、これらの基中のメチレン基はオキシ基等で置き換わっていてもよい。] (もっと読む)


【課題】黒色顔料の含有量が高い場合であっても、低露光量でのパターン寸法の安定性、高精細でのガラス基板とのパターン密着性、パターンのエッジ形状のシャープ性に優れた遮光性アルカリ現像型感光性組成物と、それを用いてなるカラーフィルタと、該カラーフィルタを具備するカラー液晶表示装置を提供することにある。
【解決手段】(A)エポキシ基を2個以上有する化合物と、(メタ)アクリル酸との反応物を更に多塩基酸カルボン酸又はその無水物と反応させて得られる不飽和基含有樹脂、(B)エチレン性不飽和結合を有する化合物、(C)光重合開始剤、(D)黒色顔料、(E)溶剤からなる遮光性アルカリ現像型感光性組成物であって、(B)エチレン性不飽和結合を有する化合物が不飽和結合を1分子中に平均9〜16個有する多分岐ポリエステル(メタ)アクリレート化合物であることを特徴とする遮光性アルカリ現像型感光性組成物である。 (もっと読む)


【課題】赤外遮光能に優れた遮光膜を形成でき、該遮光膜の形成の際、該遮光膜の形成領域外における残渣物を低減できるチタンブラック分散物を提供する。
【解決手段】(A)チタンブラック粒子、(B)分散剤、及び(C)有機溶媒を含有し、
前記(A)チタンブラック粒子からなる被分散体の90%以上が30nm以下の粒径を有し、一方の面に撮像素子部を有するシリコン基板の他方の面に設けられ赤外光を遮光する遮光膜の形成に用いられるチタンブラック分散物である。 (もっと読む)


【課題】親水処理の為の専用装置無しにフォトリソグラフィーにより容易に親水被膜を形成する方法及びそれより得られる親水被膜を提供すること。
【解決手段】1)主鎖に酸により分解可能な結合を含むカチオン重合性樹脂と紫外線を含む活性エネルギー線を照射することによりアンチモン酸又はアンチモン酸よりも酸強度が弱い酸を発生する光酸発生剤とを含む被覆樹脂層を基材上に形成する工程と2)該エネルギー線を照射することによりアンチモン酸よりも酸強度が強い酸を発生する光酸発生剤とこの光酸発生剤を保持し工程3で除去可能な保持体とを含む光酸発生剤保持層を該樹脂層に積層する工程と3)該保持層及び該樹脂層に該エネルギー線を露光し現像して該保持層を除去し該樹脂層を硬化させる工程と4)この樹脂層を熱処理することで表面を親水化して親水被膜を形成する工程とを含む親水被膜の形成方法及び親水被膜。 (もっと読む)


【課題】 解像性、ラミネート温度裕度に優れ、且つめっき耐性、銅との密着性、塗膜性に優れた感光性樹脂組成物、及びそれを用いた感光性エレメントを提供する。
【解決手段】 (a)成分:エチレン性不飽和基とカルボキシル基を有する樹脂と、(b)成分:エチレン性不飽和基とトリシクロデカン構造とを有する光重合性モノマーと、(c)成分:光重合開始剤と、(d)成分:エポキシ樹脂と、(e)成分:下記一般式(1)で表されるグアナミン誘導体と、(f)成分:メラミンと、(g)成分:ジシアンジアミドと、を含有する感光性樹脂組成物であって、前記(f)成分のメラミンを(a)成分及び(b)成分の合計を100質量部とした際に、0.1質量部以上、10質量部未満である、感光性樹脂組成物。
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