国際特許分類[G03F7/004]の内容
物理学 (1,541,580) | 写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ (245,998) | フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置 (42,984) | フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化またはパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置 (38,375) | 感光材料 (22,284)
国際特許分類[G03F7/004]の下位に属する分類
アジド (15)
ジアゾニウム塩または化合物 (20)
キノンジアジド (829)
炭素―炭素三重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.アセチレン化合物 (3)
炭素―炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物 (5,469)
不溶性または特異的に親水性になる高分子化合物 (1,733)
光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト (3,188)
クロム酸塩
銀塩 (43)
シリコン含有化合物 (806)
接着促進非高分子添加剤に特徴のある感光組成物 (35)
構造の細部,例.支持体,補助層,に特徴のあるもの (2,371)
国際特許分類[G03F7/004]に分類される特許
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着色感光性樹脂組成物、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及びそれを備えた表示装置
【課題】硬化感度が高く、現像性が良好で、優れた耐熱性と所望の色相とを有する着色硬化膜を形成しうる着色感光性樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法及びカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び、該カラーフィルタを備えた表示素子を提供する。
【解決手段】少なくとも、(A)着色剤、(B)バインダー樹脂、(C)重合性化合物、(D)下記一般式(I)で表される光重合開始剤、(E)多官能チオール化合物、及び(F)溶剤を含有する着色感光性樹脂組成物。一般式(I)中、R1は芳香環又はヘテロ芳香環を含む1価の置換基を表し、X1、X2、X3及びX4は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又はアルキル基を表し、Yは単結合又はカルボニル基を表し、Zはメチル基又はフェニル基を表す。
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塩基反応性成分を含む組成物およびフォトリソグラフィーのための方法
【課題】液浸リソグラフィに有用な新規フォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】1種以上の塩基反応性基、および(i)前記塩基反応性基とは異なる1種以上の極性基を含み、および/または(ii)前記塩基反応性基の少なくとも1種は過フッ素化されていない塩基反応性基である。本発明の特に好ましいフォトレジストは液浸リソグラフィーの際にレジスト層に接触する液浸流体へのレジスト材料の漏出の低減を示すことができる。
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感光性樹脂組成物、硬化膜の形成方法、硬化膜、有機EL表示装置、及び、液晶表示装置
【課題】動画性能を向上させられる層間絶縁膜を形成可能な感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】(成分A)式(a1)〜式(a4)で表される構成単位を少なくとも有する共重合体、(成分B)Nの隣のCに−CN基を有するオキシムスルホネート化合物、及び、(成分C)溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
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レジスト組成物
【課題】優れたパターン倒れ耐性(PCM)を有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される化合物と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物。[式(I)中、R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素数1〜6のアルキル基を表すか、R1及びR2は互いに結合して、これらが結合する炭素原子とともに炭素数5〜20の環を形成する。R3は、置換基を有していてもよい炭素数1〜36の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−で置き換わっていてもよい。T1は、2価の炭素数1〜17の炭化水素基を表し、該2価の炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−で置き換わっていてもよい。mは0又は1の整数を表す。]
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高分子化合物、ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
【課題】微細パターンの形状を矩形にすると共に、パターン倒れ耐性を向上させる高分子化合物、これを含むポジ型レジスト材料、これを用いるパターン形成方法の提供。
【解決手段】紫外線等の高エネルギー線に感応して酸を発生する一般式(1a)及び/又は(1b)で示される構造の繰り返し単位と、特定の構造のラクトン環を有する繰り返し単位及び特定の構造の酸不安定単位を有する繰り返し単位とを含み、いずれの繰り返し単位も水酸基を含まない高分子化合物。
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カラーフィルタ用青色着色組成物、およびカラーフィルタ
【課題】本発明の目的は、色特性及び耐熱性、耐光性、耐溶剤性に優れ、塗膜への異物発生もない、安定なカラーフィルタ用青色着色組成物、並びにそれを用いた色特性が良く、耐熱性、耐光性、耐溶剤性に優れるカラーフィルタを提供することである。
【解決手段】 少なくとも着色剤と樹脂とからなるカラーフィルタ用青色着色組成物において、該着色剤が、トリアリールメタン系塩基性染料と芳香族スルホン酸塩化合物とからなるトリアリールメタン造塩化合物(A)および青色顔料を含むことを特徴とするカラーフィルタ用青色着色組成物によって解決される。
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化合物及びレジスト組成物
【課題】優れたマスクエラーファクター(MEF)を有するパターンを得ることができるレジスト組成物用に含まれる化合物を提供する。
【解決手段】式(a)で表される化合物。[式(a)中、R1及びR2は、互いに独立に、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数5〜8のシクロアルキル基を表す。R3及びR4は、互いに独立に、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。R5は、炭素数1〜8のフッ化アルキル基を表す。]
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ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
【解決手段】紫外線、遠紫外線、電子線、X線、エキシマレーザー、γ線、又はシンクロトロン放射線照射の高エネルギー線に感応して酸を発生する特定の構造の繰り返し単位と酸不安定単位を有し、酸によってアルカリ溶解性が向上する高分子化合物(A)、特定の構造のスルホニウム塩(B)を共に含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。
【効果】本発明は、酸拡散の抑制と溶解コントラスト向上を両立し、かつケミカルフレア耐性を高めることにより、微細パターン、特にトレンチ(溝)パターンやホール(穴)パターンのリソグラフィー性能(形状、DOF、エッジラフネス)を改善させることができる。
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補強板一体型フレキシブルプリント基板及び補強板一体型フレキシブルプリント基板の製造方法
【課題】 本願発明の課題は、リフロー実装後の歪みや反りを低減可能な感光性樹脂組成物を使用した補強板一体型フレキシブルプリント基板及び感光性樹脂組成物を使用した補強板一体型フレキシブルプリント基板の製造方法を提供することである。
【解決手段】 少なくとも(A)ポリイミドフィルムからなる補強板、(B)感光性樹脂組成物、(C)フレキシブルプリント基板の順で構成されていることを特徴とする補強板一体型フレキシブルプリント基板の構成をとることにより、上記課題を解決できる。
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半導体装置用実装品の製法
【課題】プロセスタイムの増大や装置コストの増大を招かずに、低コストで迅速に製造できる、半導体装置用実装品の製法を提供する。
【解決手段】半導体装置に用いる実装用の2部品を準備する工程と、そのいずれかの部品の接着用面に感光性接着剤組成物を付与する工程と、その付与面を露光し現像して所定のパターンに形成する工程と、このパターン形成された接着剤付与面を用いて実装用の2部品を接着して実装品をつくる工程とを備えた半導体装置用実装品の製法において、特殊な感光性接着剤組成物と、特殊な現像液を用いるようにした。
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