国際特許分類[G03F7/004]の内容
物理学 (1,541,580) | 写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ (245,998) | フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置 (42,984) | フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化またはパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置 (38,375) | 感光材料 (22,284)
国際特許分類[G03F7/004]の下位に属する分類
アジド (15)
ジアゾニウム塩または化合物 (20)
キノンジアジド (829)
炭素―炭素三重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.アセチレン化合物 (3)
炭素―炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物 (5,469)
不溶性または特異的に親水性になる高分子化合物 (1,733)
光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト (3,188)
クロム酸塩
銀塩 (43)
シリコン含有化合物 (806)
接着促進非高分子添加剤に特徴のある感光組成物 (35)
構造の細部,例.支持体,補助層,に特徴のあるもの (2,371)
国際特許分類[G03F7/004]に分類される特許
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レジスト組成物、レジストパターン形成方法、および新規な化合物
【課題】レジスト組成物用クエンチャーとして好適な化合物、該クエンチャーを含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、下記一般式(c1)で表される化合物(C1)を含む含窒素有機化合物成分(C)、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)(ただし、前記化合物(C1)を除く)を含有することを特徴とするレジスト組成物[式中、RNは置換基を有していてもよい含窒素複素環式基であり;X0は炭素数1〜10の直鎖状若しくは分岐鎖状の2価の脂肪族炭化水素基、炭素数3〜20の環状若しくは環状の部分構造を有する2価の脂肪族炭化水素基、又はこれらの水素原子の一部若しくは全てがフッ素原子で置換された基であり;M+は有機カチオンである。]。
[化1]
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化合物及びその互変異性体、金属錯体化合物、感光性着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法
【課題】青色、緑色、赤色に配置された原色カラーフィルタ用に有用であって、色純度に優れ、薄層化可能な高いモル吸光係数を有し、且つ堅牢性に優れた感光性着色硬化性組成物を提供する。
【解決手段】着色剤として、置換基を有しても良い特定の一般構造式で表されるジピロメテン系化合物と、金属又は金属化合物と、から得られるジピロメテン系金属錯体化合物を含有する感光性着色硬化性組成物。
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重合性組成物
【課題】本発明の目的は、赤外領域における遮光性が高く、可視光領域における透光性が高く、かつ、アルカリ現像によって、所望の形状を有するとともに、耐久性(高温、高湿に対する耐久性や、基板に対する密着性など)に優れたパターンを形成可能な重合性組成物を提供する。
【解決手段】重合開始剤、重合性化合物、タングステン化合物、及び、アルカリ可溶性バインダーを含有する重合性組成物。
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感光性エレメント
【課題】薄膜の感光性樹脂組成物からなる層を備える感光性エレメントにおいて、レジストの微小な欠損を十分に低減したレジストパターンを形成可能である感光性エレメントを提供すること。
【解決手段】支持フィルム10と、該支持フィルム10上に形成された感光性樹脂組成物からなる層(感光層)20とを備える感光性エレメント1であって、支持フィルム10のヘーズが0.01〜2.0%であり、かつ該支持フィルム10中に含まれる直径5μm以上の粒子及び凝集物の総数が5個/mm2以下であり、感光層20が、(A)バインダーポリマー、(B)エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物及び(C)光重合開始剤を含有し、かつ、感光層20の厚さが3〜30μmである感光性エレメント1。
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新規化合物
【課題】リソグラフィー特性及びレジストパターン形状の向上や、パターン倒れの抑制を達成できるレジスト組成物の、クエンチャーとして有用である新規な化合物の提供。
【解決手段】一般式(c1)で表される化合物[R1は置換基を有していてもよい炭素数5以上の脂環式基であり、Xは2価の連結基であり、Yは直鎖状、分岐鎖状、若しくは環状のアルキレン基、又はアリーレン基であり、Rfはフッ素原子を含む炭化水素基であり、M+は有機カチオン又は金属カチオンである]。
[化1]
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レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】優れたCD均一性のレジストパターンを製造できるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】(A)式(a)で表される構造単位を有する樹脂と(B)酸発生剤とを含有するレジスト組成物。
[式中、R2は、置換基を有していてもよい炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。]
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レジスト組成物、レジストパターン形成方法
【課題】パターン倒れを抑制でき、且つ、パターン形状やLWR、ELマージン等のリソグラフィー特性にも優れたレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、下記一般式(c1)で表される化合物(C1)を含む含窒素有機化合物成分(C)、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)(ただし、前記化合物(C1)を除く)を含有することを特徴とするレジスト組成物[R1は置換基を有していてもよい炭素数5以上の脂環式基であり、Xは2価の連結基であり、Yは直鎖状、分岐鎖状、若しくは環状のアルキレン基、又はアリーレン基であり、Rfはフッ素原子を含む炭化水素基であり、M+は有機カチオンである。]。
[化1]
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光硬化性・熱硬化性樹脂組成物及びその硬化物並びにそれを用いて得られるプリント配線板
【課題】ソルダーレジスト用途として、又、400〜410nmのレーザー光による直接描画に用いるに好適な光硬化性・熱硬化性樹脂組成物、及び硬化物並びにそれを用いてパターン形成されたプリント配線板を提供する。
【解決手段】(A)エチレン性不飽和基含有カルボン酸含有樹脂、(B)最大吸収波長が360〜410nmにある下記式(I)で表されるクマリン骨格を有する増感剤、(C)光重合開始剤、(D)分子中に2個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、(E)フィラー、及び(F)熱硬化性成分を含有することを特徴とするアルカリ現像可能な光硬化性・熱硬化性樹脂組成物。
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遮光性組成物及びカラーフィルター
【課題】遮光性が高く、絶縁性や分散安定性に優れた遮光性組成物及びこれを用いて形成される現像残渣のないブラックマトリクスを有するカラーフィルターを提供することを目的とする。
【解決手段】着色材を固形分中40重量%以上含有する遮光性組成物において、着色材の必須成分としてピグメント・バイオレット23及びピグメント・イエロー139をそれぞれ固形分中25重量%以上及び10重量%以上含有し、これら以外の着色材を固形分中5重量%以下で含有する。
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レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法
【課題】通常露光(ドライ露光)のみならず液浸露光に於いても、プロファイルの劣化が少なく、パターン倒れが改良され、スカムの発生が抑制された、レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)疎水性樹脂及び
(D)溶剤を含有し、樹脂(A)の重量平均分子量と疎水性樹脂(C)の重量平均分子量との差が、下記式を満たすレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法。
樹脂(A)の重量平均分子量 − 疎水性樹脂(C)の重量平均分子量 ≧3000
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