国際特許分類[G03F7/004]の内容
物理学 (1,541,580) | 写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ (245,998) | フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置 (42,984) | フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化またはパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置 (38,375) | 感光材料 (22,284)
国際特許分類[G03F7/004]の下位に属する分類
アジド (15)
ジアゾニウム塩または化合物 (20)
キノンジアジド (829)
炭素―炭素三重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.アセチレン化合物 (3)
炭素―炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物 (5,469)
不溶性または特異的に親水性になる高分子化合物 (1,733)
光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト (3,188)
クロム酸塩
銀塩 (43)
シリコン含有化合物 (806)
接着促進非高分子添加剤に特徴のある感光組成物 (35)
構造の細部,例.支持体,補助層,に特徴のあるもの (2,371)
国際特許分類[G03F7/004]に分類される特許
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化学増幅型ポジ型レジスト組成物
【課題】解像性に優れ、レジストパターンの波型の形状不良発生が少なくパターン変動を低減できる化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂と感放射線性酸発生剤とを含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物であって、該樹脂が、ヒドロキシスチレンから導かれる重合単位と、酸に不安定な基を持つ特定の一般構造式で表される重合単位と、式(III)の重合単位とを含有する。
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カラーフィルタ用顔料分散液、カラーフィルタ用樹脂組成物、カラーフィルタ、及び液晶表示装置
【課題】アゾ化合物の金属錯体顔料の分散性、分散安定性に優れ、かつ、コントラストが優れた着色層が得られるカラーフィルタ用顔料分散液、カラーフィルタ用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】顔料と、顔料分散剤と、溶媒とを含有する顔料分散液であって、顔料が、アゾ化合物の金属錯体顔料を含み、かつ、顔料分散剤が下記式(1)で表わされる顔料分散剤を含むカラーフィルタ用顔料分散液。
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光塩基発生剤、感光性ポリイミド樹脂組成物、レリーフパターンの製造方法並びに物品
【課題】露光後ベーク時の加熱条件を従来より緩和しても、露光部のポリイミド前駆体のイミド化を十分に促進する塩基を発生する塩基発生剤、及び、現像時間を短縮でき、アルコール等を添加しない塩基性水溶液を現像液として用いることが可能で、露光部と未露光部の溶解性コントラストが高くなる感光性ポリイミド樹脂組成物を提供する。
【解決手段】発生する塩基が共有結合を用いて潜在化されていて、電磁波の照射により塩基を発生する塩基発生剤であって、水酸基を有する塩基を発生する光塩基発生剤、並びに、ポリイミド前駆体と、前記本発明に係る光塩基発生剤とを含有する、ネガ型感光性ポリイミド樹脂組成物である。
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感光性樹脂組成物およびタッチパネル用絶縁膜
【課題】本発明の目的は、基材や下地などとの密着性が良好であり、膜硬度、耐熱性および耐酸性が高く、かつ透過率が高く、特に波長400nm付近の透過率が高い感光性樹脂組成物と、それを用いたタッチパネル用絶縁膜を提供することを目的とする。
【解決手段】一般式(1)で表される化合物(a1)と、化合物(a1)と共重合可能な他の化合物(a2)とを共重合してなる樹脂(A1)を含む樹脂(A)、光ラジカル重合開始剤(B)、光カチオン重合開始剤(C)、エチレン性不飽和単量体(D)、エポキシ化合物(E)、及びオキセタン化合物(F)を含み、エチレン性不飽和単量体(D)の重量をMet、エポキシ化合物(E)の重量をMce、オキセタン化合物(F)の重量をMcoとしたとき、(Mce+Mco)/(Met+Mce+Mco)が、0.4以上0.9以下であることを特徴とする感光性樹脂組成物により解決される。
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感光性樹脂組成物、硬化膜の形成方法、硬化膜、有機EL表示装置、及び、液晶表示装置
【課題】高感度とPED特性とを両立することができる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】(成分A)式(a1)〜式(a3)で表される構成単位を少なくとも有する共重合体、(成分B)式(B)で表されるオキシムスルホネート化合物、及び、(成分C)溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。R1は水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数4〜7のシクロアルキル基を表し、R3は水素原子又はメチル基を表し、RB1及びRB2はそれぞれ独立に、一価の有機基を表し、RB1及びRB2は連結して環を形成していてもよく、RB3は炭素数1〜8のアルキル基、p−トルイル基、フェニル基、カンホリル基、トリフルオロメチル基又はノナフルオロブチル基を表す。
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塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】従来の酸発生剤を含むレジスト組成物を電子線用レジスト組成物として用いても、得られるレジストパターンの解像度が必ずしも十分に満足できない場合があった。
【解決手段】式(I)で表される塩。
[式(I)中、Q1及びQ2は、互いに独立に、フッ素原子等を表す。L1は、炭素数1〜17の2価の飽和炭化水素基等を表す。環Wは、炭素数3〜36の脂肪族環を表す。sは、0〜3の整数を表す。tは、0〜2の整数を表す。R1は、炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基等を表す。R2は、水素原子等を表す。Z+は、有機対イオンを表す。]
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感放射線性樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法、重合体及び化合物
【課題】PEB温度が低温であっても、感度等に優れ、LWR、DOF等のリソグラフィー性能が高度にバランスし、エッチング耐性をも十分に満足する化学増幅型レジスト用の感放射線性樹脂組成物、そのパターン形成方法、その重合体、及び化合物を提供する。
【解決手段】[A]下記式(1)で表される構造単位(I)を有する重合体、及び[B]感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。
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重合性組成物、並びに、これを用いた感光層、永久パターン、ウエハレベルレンズ、固体撮像素子、及び、パターン形成方法
【課題】赤外領域における遮光性が高く、可視光領域における透光性が高く、かつ、アルカリ現像による解像性に優れたパターンを形成可能である重合性組成物、並びに、これを用いた感光層、永久パターン、ウエハレベルレンズ、固体撮像素子、及び、パターン形成方法を提供する。
更に、感光層が設けられる基板が凹凸形状を有する場合、基板の該凹凸形状に良好に追従した形状を有する感光層を形成可能な重合性組成物、並びに、これを用いた感光層、永久パターン、ウエハレベルレンズ、固体撮像素子、及び、パターン形成方法を提供する。
【解決手段】重合開始剤、重合性化合物、タングステン化合物、アルカリ可溶性バインダー、及び無機フィラーを含有する重合性組成物。
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フォトレジスト組成物
【課題】 塗布時の染みを減らし、塗布均一性を向上させ、真空乾燥時に逆テーパ状とならないように特定構造の共溶媒を含んで、パターン形状を著しく改善するだけでなく、パターン幅の不均一問題を発生しないフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】 本発明によるフォトレジスト組成物は、(a)ノボラック樹脂5〜30重量%、(b)ジアジド系感光性化合物2〜10重量%、(c)ジアルキルエーテル系共溶媒1〜70重量%、及び(d)有機溶媒残量を含む。
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感光性樹脂組成物、硬化膜の形成方法、硬化膜、有機EL表示装置、及び、液晶表示装置
【課題】体積抵抗の温度依存性の少ない硬化膜を形成可能な感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】(成分A)式(a1)〜式(a4)で表される構成単位を少なくとも有する共重合体、(成分B)Nの隣のCに−CN基を有するオキシムスルホネート化合物、及び、(成分C)溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
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