【課題】新規の光酸発生剤化合物およびこの化合物を含むフォトレジスト組成物であり、特に、塩基開裂性基をふくむ光酸発生剤化合物を提供する。
【解決手段】例えば下記反応で得られる化合物で示される光酸発生剤化合物を含むフォトレジスト組成物が例示される。
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【課題】変色劣化に起因した反射率の低下を防止し、かつ、高反射率で高解像度のソルダーレジスト組成物、及びそれを用いてソルダーレジストを形成して得られるプリント配線板を提供する。
【解決手段】（Ａ）芳香環を有さないカルボキシル基含有樹脂、（Ｂ）ビスアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤、（Ｃ）モノアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤、（Ｄ）光重合性モノマー、（Ｅ）ルチル型酸化チタン、（Ｆ）エポキシ化合物、（Ｇ）有機溶剤および（Ｈ）酸化防止剤を含み、前記酸化防止剤（Ｈ）は、前記芳香環を有さないカルボキシル基含有樹脂（Ａ）１００質量部に対して０．４〜２５質量部含むソルダーレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】一辺が約１μｍの白色フィルタ画素を含むカラーフィルタがイメージセンサに搭載された場合に、イメージセンサにおける撮像を高品質かつ高感度で行うことのできる上記カラーフィルタを製造可能な、固体撮像素子のカラーフィルタ用感光性透明組成物、並びに、これを用いた固体撮像素子のカラーフィルタの製造方法、固体撮像素子のカラーフィルタ、及び、固体撮像素子を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合開始剤、（Ｂ）重合性化合物、及び（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂を含有する、固体撮像素子のカラーフィルタ用感光性透明組成物であって、前記感光性透明組成物から得られる硬化膜の波長６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．６０〜１．９０である固体撮像素子のカラーフィルタ用感光性透明組成物、並びに、これを用いた固体撮像素子のカラーフィルタの製造方法、固体撮像素子のカラーフィルタ、及び、固体撮像素子。 （もっと読む）

【課題】優れたラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）を有するパターンを得ることができる
レジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。［Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は水素原子又は炭素数１〜１２の炭化水素を表すか、Ｒ^２及びＲ^３は互いに結合して炭素原子とともに炭素数３〜２０の環を形成する。Ｒ^４及びＲ^５は水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｘ^１は２価の炭素数１〜１７の炭化水素基を表し、前記２価の炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。また、前記２価の炭化水素基に含まれる水素原子は、−ＯＨで置き換わっていてもよい。Ｒ^６は水素原子又は炭素数１〜１２の炭化水素を表す。Ａ^＋は有機カチオンを表す。］
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【課題】優れた解像度を有するレジストパターンを製造できるレジスト組成物の提供。
【解決手段】酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤と、式（Ｉ）で表される化合物とを含有し、樹脂が式（ａ２−０）で表されるモノマーに由来する構造単位を有する樹脂であるレジスト組成物。［Ｒ^１〜Ｒ^４は置換基を有していてもよいアルキル基、飽和環状炭化水素基又はアルケニル基を表す。Ａ^１はハロゲン化アルキル基を表す。］
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【課題】経時での凝集異物の発生及びコントラスト比の低下を抑制し得る着色組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）バインダー樹脂、（Ｃ）架橋剤、及び（Ｄ）下記（ｄ−１）〜（ｄ−８）よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含有することを特徴とする着色組成物。
（ｄ−１）特定の置換基を有する脂肪族カルボン酸又はその塩
（ｄ−２）特定の置換基を有する脂肪族スルホン酸又はその塩
（ｄ−３）特定の置換基を有する脂環式カルボン酸又はその塩
（ｄ−４）特定の置換基を有する脂環式スルホン酸又はその塩
（ｄ−５）特定の置換基を有する芳香族炭化水素又はその塩
（ｄ−６）特定の置換基とスルホ基を有する芳香族炭化水素又はその塩
（ｄ−７）カルボキシル基と複素環基を有し、特定原子数で構成される化合物又はその塩
（ｄ−８）スルホ基と複素環基を有し、特定原子数で構成される化合物又はその塩 （もっと読む）

【解決手段】ベースポリマーと、式（１）で示される塩基性化合物と、酸発生剤とを含有する化学増幅レジスト材料。


（Ｒ¹は水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基又は複素環含有基、これらの基が複合してもよく、これらの基がヒドロキシ基等を有していてもよく、又はＲ¹が酸不安定基であってもよい。Ｒは水素原子、メルカプト基、ヒドロキシ基又はアルキル基であり、あるいは式（１）中の窒素原子と結合して環を形成していてもよい。Ｒ²は酸不安定基であり、Ｒ³、Ｒ⁴は水素原子又はアルキル基、ｍは２〜４の整数。）
【効果】本発明のレジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状が良好で、ラフネスが小さく、フォーカスマージン（ＤＯＦ）が広い特徴を示す。 （もっと読む）

【課題】赤外線アブレーション層のひび割れやシワの発生を抑えるとともに、その耐傷性を向上させたフレキソ印刷版原版を提供すること。
【解決手段】支持体１２と、感光性樹脂層１８と、赤外線アブレーション層２０とがこの順で積層されており、赤外線アブレーション層２０のバインダーポリマーは、（Ａ）感光性樹脂層１８のバインダーポリマーと同じ構造を有するポリマーと、（Ｂ）アクリル樹脂と、を含有し、かつ、（Ｂ）成分に対する（Ａ）成分の質量比（Ａ／Ｂ）が１／３〜３／１の範囲内にあり、さらに、感光性樹脂層１８の上に積層されている状態における赤外線アブレーション層２０の塑性硬さ（Ｈａ）と、感光性樹脂層１８の塑性硬さ（Ｈｂ）との差が３０ｍＮ／ｍｍ^２以下に設定されている。 （もっと読む）

【課題】 光酸発生剤の液浸水への溶出の抑制と優れた液浸液追随性との両立を可能とし、さらにラフネス特性にも優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）活性光線または放射線の照射により下記一般式（Ｉ）で表される酸を発生する化合物、及び（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。（一般式（Ｉ）中、ｎは２以上の整数を表し、Ｘは炭化水素基を表す。）
【化１】
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【課題】活性化放射線に露光される場合に、特に、改良されたリソグラフィのための放射線に露光されるフォトレジスト組成物に使用される場合に、低いガス放出特性を有する光酸発生剤化合物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）を有する光酸発生剤化合物：


式中、Ｇは式（ＩＩ）を有し：


式（ＩＩ）において、ＸはＳもしくはＩであり、各Ｒ^０は等しくＸに結合されており、かつ独立してＣ_１−３０アルキル基；多環式もしくは単環式Ｃ_３−３０シクロアルキル基；多環式もしくは単環式Ｃ_６−３０アリール基；または前述の少なくとも１種を含む組み合わせである；ａは２もしくは３である；並びに式（Ｉ）におけるＺはスルホン酸、スルホンイミドもしくはスルホンアミドのアニオンを含む。 （もっと読む）