【課題】焦点深度幅（ＤＯＦ）特性及びマスクエラーファクタ（ＭＥＦ）のいずれも優れたレジスト組成物、並びにレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、第四級窒素原子を有するカチオン部と式（ｄ１−ａｎ１）又は式（ｄ１−ａｎ２）で表されるアニオン部とからなる化合物（Ｄ１）とを含有するレジスト組成物。式中、Ｘは置換基を有していてもよい炭素数３〜３０の環状の脂肪族炭化水素基である。Ｙ^１は置換基を有していてもよい炭素数１〜４のフッ素化アルキレン基である。
［化１］
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【課題】孔径４５ｎｍ以下のホールパターンなどの微細パターンの形成において、露光ラチチュード（ＥＬ）、局所的なパターン寸法の均一性、断面形状の矩形性及び真円性に優れるパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、電子デバイスの製造方法、及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】（ア）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位（ａ）を有する樹脂（Ｐ）、活性光線又は放射線の照射により有機酸を発生する化合物（Ｂ）、及び酸の作用により脱離する基を有する含窒素有機化合物（ＮＡ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程を含む、パターン形成方法。
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【課題】直線性が良好な着色パターンを形成でき、且つ、着色パターン形成領域外における残渣の発生が抑制された着色感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）下記式（Ｉ）で表される部分構造を有するアクリル樹脂、（Ｃ）重合性化合物、及び（Ｄ）紫外線吸収剤を含み、該（Ｄ）紫外線吸収剤の含有量が着色感放射線性組成物の固形分に対して、０．１質量％〜１０質量％である着色感放射線組成物。
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【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な新規重合体、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化し、かつ、露光により酸を発生する基材成分（Ａ）を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有し、かつ、質量平均分子量が２００００以下である重合体を含有することを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】超微細の孔径（例えば、６０ｎｍ以下）を有し、かつ、真円性に優れるホールパターンを、良好な現像時間依存性を以って形成可能な、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスの提供。
【解決手段】（Ｐ）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位（ａ）を有する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により有機酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、前記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の全固形分に対する前記化合物（Ｂ）の含有量が８．０質量％以上である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス。


上記一般式（Ｉ）中、Ｒ_０は、水素原子又はメチル基を表す。 （もっと読む）

【課題】高解像力で、パターン倒れが抑制され、低ラインエッジラフネスの微細なパターンを形成可能なレリーフパターンの製造方法を提供する。
【解決手段】（ｉ）フェノール性水酸基を１分子中に２個以上有し、フェノール性水酸基のオルト位にヒドロキシメチル基、及びアルコキシメチル基よりなる群から選択される１種以上の置換基を１分子中に１個以上有する分子量４００〜２５００のフェノール性化合物（Ａ）を、当該ネガ型レジスト組成物の全固形分中に７０重量％以上含有するネガ型レジスト組成物を基板上に塗布した後、加熱処理し、露光前レジスト膜を形成する工程、（ｉｉ）前記露光前レジスト膜を電子線、イオンビーム、ＥＵＶ、又はＸ線でパターン状に露光し、露光後レジスト膜を形成する工程、及び（ｉｉｉ）前記露光後レジスト膜を、有機溶剤を用いて現像する工程を含み、当該有機溶剤は、前記露光前レジスト膜の２３℃の溶解速度が０．５ｎｍ／ｓｅｃ以上であって、水酸基以外にヘテロ原子を含まないアルコール溶剤である、レリーフパターンの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】耐熱性・耐薬品性・平滑性・光学特性を満足する膜あるいは微細パターンの形成が可能な、有機溶剤に可溶であるβ−ヒドロキシアルキルアミドを含む感光性組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】特定の構造を有するβ−ヒドロキシアルキルアミド（Ａ）と、カルボキシル基を含有するポリマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、を含有する感光性組成物であって、当該組成物中に光重合性官能基を必須として含むことを特徴とする感光性組成物。
さらには、β−ヒドロキシアルキルアミド（Ａ）が有機溶剤に可溶である上記感光性組成物。そして、上記感光性組成物を用いてなるタッチパネル層間絶縁膜用コーティング剤、カラーフィルタ用感光性組成物、感光性ソルダーレジストインキ。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と露光により塩基を発生する光塩基発生剤成分（Ｃ）と酸性化合物成分（Ｇ）とを含有するレジスト組成物を塗布してレジスト膜を形成する工程（１）と、を露光する工程（２）と、ベークを行い、露光部において光塩基発生剤成分（Ｃ）から発生した塩基と酸性化合物成分（Ｇ）とを中和させ、未露光部において酸性化合物成分（Ｇ）の作用により基材成分（Ａ）のアルカリ現像液に対する溶解性を増大させる工程（３）と、アルカリ現像し、未露光部が溶解除去されたネガ型パターンを形成する工程（４）とを含むレジストパターン形成方法の工程（１）で用いられるレジスト組成物であって、酸性化合物成分（Ｇ）が、ｐＫａが７以下の含窒素カチオンと対アニオンとからなる化合物（Ｇ１）を含有する。 （もっと読む）

【課題】低温硬化による高信頼のカラーフィルタを提供し、液晶表示素子を提供する。
【解決手段】染料等を含む着色パターン６と、エポキシ基を有する化合物を含む感放射線性樹脂組成物から形成される保護膜８と、アルカリ可溶性樹脂を含有する感放射線性樹脂組成物から形成されるスペーサ９と、下式（ＣＡ）のテトラカルボン酸二無水物成分を用いて得られるポリアミック酸もしくはポリイミドを含む液晶配向剤から形成される配向膜１２とを用いてカラーフィルタ１０を製造し、それを用いて液晶表示素子１を構成する。
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【課題】レーザ光以外の活性光線を直接描画法に適用して、優れた形状のレジストパターンを形成可能なレジストパターンの形成方法の提供。
【解決手段】基板上に、バインダーポリマー、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、及び一般式（１）で表される光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物層を形成する工程と、層の少なくとも一部の領域に、各種光源とする光のうち、波長３５０ｎｍ以下の光の少なくとも一部が除去された活性光線を、パターン状に直接描画して光硬化部を形成する露光工程と、光硬化部以外の領域を除去する現像工程とを備えるレジストパターンの形成方法。
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