【課題】基板を吸着する吸引力を急速に発生させることにより吸着時間を短縮し、塗布装置全体としてのタクトタイムを向上させることができる塗布装置を提供する。
【解決手段】ステージの表面に形成された吸引孔に吸引力を発生させて基板をステージの表面に吸着させて保持させる基板保持手段と、基板に対して相対的に移動しつつ塗布液を吐出する塗布ユニットと、を備える塗布装置において、基板保持手段の吸引孔には、吸引力を発生させる吸引力発生装置と接続されるメイン配管及びサブ配管が連通して接続されており、メイン配管には、メイン配管経路を開閉するメインバルブが設けられ、サブ配管には、サブ配管経路を開閉するサブバルブが設けられるとともに、このサブバルブよりも吸引力発生装置側に所定容量を有する貯留部を備える貯留タンクが設けられ、貯留部は、一定区間におけるサブ配管の容量と比べて大きい容量を有して構成とする。 （もっと読む）

【課題】塗布に起因する面状劣化を抑制し、且つ、欠陥の少ない着色膜を形成し得る着色硬化性組成物を提供すること。また、該着色硬化性組成物を用いてなる、面状が良好で、且つ、欠陥の少ない着色パターン、この着色パターンを有するカラーフィルタ、該カラーフィルタの製造方法、及びこのカラーフィルタを備える液晶表示素子を提供すること。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）光重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含む共重合体を含有する着色硬化性組成物（一般式（１）中、Ｒ^１は、水素原子、又はメチル基を表し、Ｘ^１は、酸素原子、硫黄原子、又は−Ｎ（Ｒ）−を表し、ｍ１は０〜１８の整数を表し、ｎ１は１〜１８の整数を表す。ここで、Ｒは、水素原子、又は置換基を有してもよい炭素数１〜８のアルキル基を表す。）。
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【課題】搬送時間を軽減することによって、基板処理のスループットを向上させることを目的とする。
【解決手段】（＋Ｘ）方向に直線状に伸びる第１の基板処理セクション１０１および第３の基板処理セクション１０３の両側に搬送ユニット１３ａ，１３ｂ、搬送ユニット１９ａ，１９ｂをそれぞれ配置する。また、搬送ユニット１３ａ，１３ｂの走行路である搬送用路１３１ａ，１３１ｂの端部に、一対の塗布処理ユニット１４ａ，１４ｂが設けられる。そして搬送ユニット１３ａ，１３ｂは、基板９０を塗布処理ユニット１４ａ，１４ｂにそれぞれ搬入する。当該搬入された基板９０は、搬送ユニット１５によって搬出される。また、搬送ユニット１３ｂは、搬送ユニット１３ａに対して、所定の動作数分遅れて、相同の搬送動作を行う。 （もっと読む）

【課題】マニホールド内のエアを十分に排出可能なダイヘッド及びこれを備えたダイコーターを提供する。
【解決手段】レジスト液Ｒを第１及び第２スリット２４、２５に供給するマニホールド２３が長手方向に延びて形成され、マニホールド２３の上端にはレジスト液Ｒを導入する導入口１５が設けられ、マニホールド２３の下端と連結される第１及び第２スリット２４、２５からレジスト液Ｒが吐出されるダイヘッド３において、マニホールド２３を形成する上壁面２２ｅが、導入口１５を下端として長手方向に勾配を有し、その上端にはエアを排出するエア排出口１６ａ、１６ｂが設けられている。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、基板が剥離ローラから離間する際の衝撃を可及的に阻止し、支持層を前記基板から良好且つ高精度に剥離させることを可能にする。
【解決手段】ベース自動剥離装置１００は、ベースフイルム２６をガラス基板２４から連続的に剥離する剥離ローラ１０４と、前記ガラス基板２４側に前記剥離ローラ１０４の軸方向に沿って配置され、前記ベースフイルム２６を剥離する際に前記ガラス基板２４を保持可能な複数のガイドローラ１０６とを備える。剥離ローラ１０４の軸方向両端側に配置されるガイドローラ１０６は、前記剥離ローラ１０４の軸方向中央側に配置されるガイドローラ１０６よりも高い位置に配置される。 （もっと読む）

【課題】生産性を高めることができるフォトスピナー装置を提供する。
【解決手段】スピンコータ１１０は複数のウェハー上にフォトレジストを塗布する。ベーク装置１２０は、スピンコータ１１０によって塗布された前記フォトレジストを硬化させる。現像器は、ベーク装置１２０によって硬化されたフォトレジストを現像する。トランスファー１４０は、現像器、ベーク装置１２０、およびスピンコータ１１０の間で前記複数のウェハーを移送する。トランスファー１４０によって移送される複数のウェハーは複数のウェハーキャリア１７０に収納される。インデクサー１５０は、トランスファー１４０によって移送されるウェハーキャリア１７０を垂直方向に積層して配置させることができるウェハーキャリアローダー１６０を有する。 （もっと読む）

【課題】この発明はヘッドに形成されたノズルから溶液を、溶液に含まれる気泡の影響を受けずに吐出させることができるようにした溶液の塗布装置を提供することにある。
【解決手段】基板に溶液を噴射塗布する塗布装置であって、
上記溶液をインクジェット方式によって噴射するノズルを有するヘッド７と、溶液を貯える第２の溶液タンク３２と、第２の溶液タンクに溶液を供給するとともに、第２の溶液タンクの溶液をヘッドに供給する溶液供給管２１，３４と、溶液供給管に設けられノズルに供給される溶液に遠心力を付与しその溶液に含まれる気泡をナノバブルに微細化するナノバブル生成器５１を具備する。 （もっと読む）

【課題】基板に行う処理の工程を基板ごとに変更して、２以上の異なる工程の処理を並行して進めることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗに処理を行う基板処理装置１０において、基板Ｗを略水平方向に搬送しつつ基板Ｗに複数種類の処理を行うことが可能な基板処理列Ｌｕ、Ｌｄを上下方向に複数設けるとともに、基板Ｗに行う処理の工程を基板処理列Ｌｕ、Ｌｄごとに変更する制御部を備えている。基板Ｗに行う処理の工程を基板処理列Ｌｕ、Ｌｄごとに変更することで、基板Ｗに行う処理の工程を基板Ｗごとに好適に変更することができる。よって、基板Ｗごとに、基板処理列Ｌｕ、Ｌｄの数に相当する複数の異なる工程の処理を並行して進めることができる。 （もっと読む）

【課題】１００ｃｍ×１００ｃｍ以上の大型基板にスリットコーターで塗布するのに好適なレジストとなるポジ型感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）フェノール性水酸基を有する重合体を１００重量部と、（Ｂ）キノンジアジド基含有化合物を１０〜５０重量部と、（Ｃ）溶剤を、前記フェノール性水酸基を有する重合体（Ａ）および前記キノンジアジド基含有化合物（Ｂ）の合計１００重量部に対して１００〜９９００重量部と、（Ｄ）界面活性剤を０．０１〜５重量部とを含有するポジ型感放射線性樹脂組成物であって、前記キノンジアジド基含有化合物（Ｂ）として特定の化合物を含有し、前記界面活性剤（Ｄ）としてポリエーテル変性ポリシロキサン化合物を含有し、スリットコーター塗布に用いられることを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】非常に微細な段差を有する下地においても、アライメントのずれが起こらず、かつ、確実に既存パターンの間にパターニングすることが可能なようにレジストを塗布できるレジスト塗布装置を提供する。
【解決手段】レジスト塗布装置は、レジストに溶剤を供給する手段を備えて、レジストの粘度を変化させることができる。このレジスト塗布装置を半導体装置の製造方法に用いることにより、段差のある下地に塗布するレジストの膜厚を幅広く制御することができる。 （もっと読む）