【課題】スリットノズルを用い、ガラス基板を真空吸着によってバキュームテーブル上に密着させた状態でフォトレジストを塗布しても、バキュームテーブルの開口部に起因した膜厚のムラのないフォトレジストの塗布装置を提供する。
【解決手段】ガラス基板の温度を測定する手段５０を有し、バキュームテーブル３１の温度とガラス基板２２の温度との温度差が、予め設定した範囲内になった時に、フォトレジストの塗布を開始すること。ガラス基板の温度を測定する手段の手前に、ガラス基板の温度を所定の温度にする手段を設けたこと。温調バッファ装置６４を設けたこと。制御システムを有すること。 （もっと読む）

【課題】塗布に起因する面状劣化を抑制し、欠陥の少ない着色パターンを形成し得るカラーフィルタ用着色硬化性組成物、カラーフィルタ、その製造方法、及び液晶表示素子を提供する。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）光重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）溶剤、（Ｅ）バインダーポリマー、及び、（Ｆ）一般式（Ｉ）で表される構造単位と一般式（ＩＩ）で表される構造単位を共重合成分として含む界面活性剤を、０．０２〜１０質量％含有するカラーフィルタ用着色硬化性組成物。式中、Ｒ⁰¹は水素原子またはアルキル基を示し、Ｒ¹は単結合、又は、酸素原子、窒素原子及びイオウ原子から選択される原子を含む連結基を示す。ｎは１〜１０、ｍは２〜１４、ｌは０〜１０の整数を示し、ｐは０〜２０、ｑは０〜２０、ｒは０〜２０の整数を示し、ｐ，ｑ，ｒは同時に０となることはない。 （もっと読む）

【課題】コーティング斑の発生を防止すると共に、保持台と基板の帯電を抑制する基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板Ｇを略水平に保持するスピンチャック５０と、スピンチャックに基板を吸着保持させる吸着手段と、スピンチャック５０に保持された基板を収容する下カップ６０と、下カップを閉塞する蓋体６１と、を具備してなり、スピンチャックを、導電性樹脂材料にて形成すると共に、該導電性樹脂材料の表面抵抗率を、１×１０^１〜１×１０^１２（Ω／ｓｑ．）にする。下カップは、カップ本体８５と、このカップ本体の底面に止着され、基板の下方及び側方を包囲する導電性樹脂製のプレート８７と、カップ本体の底面にねじ部材８９によって止着される導電性樹脂製のカバー８８により形成される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、大型のガラス基板に対しても、均一な塗膜を安定して付与することのできる基板処理装置を提案することを目的とする。
【解決手段】基板の表面に塗液を塗布するための基板処理装置であって、基板を水平に浮上させる浮上ステージと基板を保持し移動させる基板移動手段と基板表面に所定量の塗液を供給する塗工ノズルとを有し、浮上ステージ上に浮上された基板を基板移動手段によって保持移動させながら、塗工ノズルから塗液を供給して、基板表面に塗液を塗布することを特徴とする基板処理装置。 （もっと読む）

【課題】基板面内において塗布液を均一に塗布しつつ、塗布液の供給量を低減する。
【解決手段】ウェハＷの中心部に純水Ｐを供給する（図６（ａ））。その後、純水Ｐの中心部に、純水Ｐよりも表面張力が低い溶剤Ｑを供給する。溶剤Ｑは、純水Ｐよりも拡散方向後方でウェハＷの同心円状に拡散する（図６（ｂ））。その後、ウェハＷを回転させながら、溶剤Ｑの中心部にレジスト液Ｒを供給する（図６（ｃ））。レジスト液Ｒは、純水Ｐと溶剤Ｑに先導されてウェハＷの同心円状に拡がり（図６（ｄ））、ウェハＷ上の全面に拡散する（図６（ｅ））。 （もっと読む）

【課題】塗布液をスピンコーティング法によって基板へ塗布するにあたって、基板裏面側へのパーティクルの付着を減らし、このパーティクルを洗浄するための溶剤の使用量を抑えることである。
【解決手段】カップ１０内のスピンチャック１１に保持されたウエハＷの周縁部裏面と対向するように、縦断面が山形の塗布液の跳ね返り防止用のガイド部２を設け、このガイド部２の内側に連続してカップ１０の下方側外部空間と区画する水平面２２を形成する。この水平面２２とウエハＷとの間の裏側空間２３はウエハＷの回転により雰囲気が負圧となる空間であり、前記水平面２２に開口部２５を形成する。そして、ウエハＷの回転数に基づいてシャッター６により開口部２５の開口量を調整し、またカップ１０の底部に接続された排気路中のダンパの開度を制御する。 （もっと読む）

【課題】基板に塗布液を供給して塗布膜を形成する塗布装置において、基板の裏面を洗浄するための溶剤の使用量を抑えること。
【解決手段】回転する基板の周縁部の上下のぶれを抑えるために、基板の裏面において前記液膜が形成される周縁部よりも内側の領域にガスを吐出する吐出孔が当該基板の回転方向に沿って設けられた、前記基板保持部を囲む姿勢制御部と、前記基板の裏面側に当該基板の周縁部に対向するように形成された対向面部と、その対向面部に処理液を供給し、その表面と回転する基板の裏面の周縁部とに前記処理液をその表面張力により吸着させる液膜形成部とを備えるように塗布装置を構成し、基板に展伸された前記塗布液から飛散したミストが前記基板の裏面の周縁部に付着することを防ぐための液膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】大型基板の塗布処理において低コストで適切なダウンフローを形成する技術を提供する。
【解決手段】ＦＦＵ６１の外側周囲に第１板状部材６２を設置する。また、ステージ３の周囲に排気容器７１を配置するとともに、当該排気容器７１の外側周囲に第２板状部材を配置する。また、大型基板９０を搬送するハンド９０１の基板搬送経路と干渉しないように、搬送側（−Ｙ側）に設けられる第１板状部材６２の下端の位置を搬送経路よりも上方となるように設定する。このような基板処理装置１において、大型基板９０の塗布処理を行う際には、ＦＦＵ６１から供給するエアの気流（ダウンフローＤＦ）の勢いが載置面でほぼ消失するように、エアの供給量を調整する。この勢いが消失したエアは、下方に設置された排気容器７１に導かれて排気される。 （もっと読む）

【課題】ＣＡＰコーターを用いて基板表面にレジスト膜を形成する場合、基板面内での塗布膜厚のばらつきが小さく、塗布膜厚の均一性が良好なマスクブランクの製造方法を提供する。
【解決手段】転写パターンを形成するための薄膜を有する基板の被塗布面に、液状のレジスト剤を収容した液槽から毛細管現象により塗布ノズルを通過してノズル先端開口部に到達したレジスト剤を接液させながら、基板と塗布ノズルとを相対的に移動させることによって、前記被塗布面にレジスト剤を塗布してレジスト膜を形成する工程を含むマスクブランクの製造方法である。前記レジスト膜形成工程において、前記相対移動によって塗布ノズルが基板の塗布終了位置近傍まで到達した際に、前記被塗布面への塗布量が減少するように塗布条件を変更する。 （もっと読む）

【課題】ＭＥＭＳや貫通電極を有する基板の作製などに好適な塗布装置と塗布方法を提供する。
【解決手段】ノズルに縦方向（Ｙ軸方向）に往復動させつつＸ軸方向に徐々に移動する。そして縦方向の塗布が終了したら横方向（Ｘ軸方向）に往復動させつつＹ軸方向に徐々に移動する。このように１回の塗布でノズルが基板Ｗの表面を２回スキャニングしつつ塗布し、１回目のスキャニングと２回目のスキャニングの方向を９０°異ならせることで塗り残しをなくすことができる。 （もっと読む）