【課題】中性子線源におけるホットスポットの発生を抑制することができる中性子線発生装置及び中性子線発生方法を提供する。
【解決手段】
中性子線発生装置１は、固体重金属ターゲットに陽子ビームを照射することで、核破砕反応を起こし、中性子線を発生させる中性子線発生装置であり、陽子ビームを加速する陽子ビーム加速器１０と、陽子ビームが照射されることで中性子線を発生する固体重金属ターゲット１１と、固体重金属ターゲット１１の被照射面に対して陽子ビームを走査照射する陽子ビーム走査部１２とを備えている。 （もっと読む）

【課題】スポットの集合の照射中における異常発生時のビーム出射処理（中断、再開）を適切に行うことにより、照射精度を上げて、安全かつ効率的に照射する。
【解決手段】シンクロトロン１２と、走査電磁石５Ａ，５Ｂを有し、シンクロトロン１２から出射されたイオンビームを走査するスキャニング照射装置１５と、シンクロトロン１２からのイオンビームの出射をビーム出射停止指令に基づいて停止させ、この状態で走査電磁石５Ａ，５Ｂを制御することによりイオンビームの照射位置（スポット）を変更させ、この変更後にシンクロトロン１２からのイオンビームの出射を開始させる。ある照射スポットへのビームの照射中に、照射継続可能な比較的軽度な異常が発生した場合に、直ちにビーム出射を停止せず、その照射スポットを含む予め定義されたスポットの集合に属する全スポットについての照射を完了させた時点でビーム出射を停止する。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で容器の口部内周面への電子線照射を確実に行うことのできる電子線殺菌装置を提供することを目的とする。
【解決手段】殺菌装置１０Ａ、１０Ｂのそれぞれにおいて、容器１００の口部１００ａの近傍に反射板が設けられ、容器１００の側方の電子線照射装置２０から照射される電子線が反射板で反射して、容器１００の口部１００ａから内部に向けて照射される。容器１００を保持するグリッパ１２のグリッパ爪７２、７２に永久磁石７３Ｎ、７３Ｓが設けられ、永久磁石７３Ｎから永久磁石７３Ｓへと向かう磁力線により、電子線は、電子線の流れ方向および磁力線の方向に直交する方向に偏向される。さらに、電子線は、反射板で反射することによって、その速度が低減し、これによって、電子線の偏向を効率良く行う。 （もっと読む）

【課題】稼働率を向上させる電子線照射システムを提供する。
【解決手段】電子線照射システム２００は、第１電子線照射装置１００ａと第１搬送ラインとを含んで構成される電子線照射ユニット２００ａと、第２電子線照射装置１００ｂと第２搬送ラインとを含んで構成される電子線照射ユニット２００ｂと、第１搬送ラインの第１搬出部３１２から第２搬送ラインの第２搬入部３５０に被照射物を送出するユニット間搬送部２１０と、第１照射領域Ｒ１を通過した被照射物の搬送先を、第１搬出口３１２ａおよびユニット間搬送部のいずれか一方に切り換える搬送先切換部２１４と、を備え、搬送先切換部が第１照射領域を通過した被照射物の搬送先をユニット間搬送部に切り換えたとき、第１照射領域を通過するときの被照射物における照射面と、第２照射領域を通過するときの被照射物における該照射面と、を異ならせる。 （もっと読む）

【課題】電子線に基づいて発生する放射線を確実に遮蔽することができ、かつ、電子線照射装置を遮蔽する搬送構造の設置面積を低減する。
【解決手段】搬送構造２００は、電子線照射装置１００と、壁面で区画される搬送通路３５０上に設けられた照射領域Ｒと、搬送通路の一部を構成する第１通路３５２と、第１通路と鉛直方向の高さを異にするとともに、照射領域からの距離が当該第１通路よりも遠い距離に位置する第２通路３５４と、第１通路と第２通路とを接続する第１昇降通路３７０と、第１通路を区画する壁面および第１昇降通路を区画する壁面の少なくともいずれか一方に設けられ、第１通路から第２通路への放射線の直進入射を遮蔽する遮蔽部３３０とを備える。 （もっと読む）

【課題】架台を大型化せず架台の回転角度や揺動角度による照射精度の低下を抑制し、スキャニング方式における照射精度の低下を抑制できる荷電粒子線照射装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子線Ｒを被照射体へ照射する荷電粒子線照射装置１であって、荷電粒子線Ｒを走査する走査磁石を有し、走査された荷電粒子線Ｒを被照射体へ照射する照射ノズル６と、サイクロトロン２より送られてきた荷電粒子線Ｒを照射ノズル６へ向けて偏向させる偏向磁石５Ａと、照射ノズル６と偏向磁石５Ａとが配置され、回転軸Ｐを中心に回転可能な回転ガントリ−３と、回転軸Ｐと照射ノズル６から照射される荷電粒子線Ｒの照射位置との位置関係を検出する位置検出部８と、回転ガントリ−３の回転角度に対応する位置検出部８の検出結果を利用して、照射ノズル６から照射される荷電粒子線の照射位置を調整する制御装置Ｔとを備える。 （もっと読む）

【課題】エネルギーが低い方の荷電粒子線の透過率の低下を緩和することが可能なエネルギーデグレーダ及びそれを備えた荷電粒子線照射システムを提供すること。
【解決手段】エネルギーの減衰量が異なる複数の減衰部材１１Ａ〜１１Ｇを備え、エネルギー減衰量が大きい方の低エネルギー側減衰部材１１Ｇを、エネルギー減衰量が小さい方の高エネルギー側減衰部材１１Ａよりも透過率が高い材質から形成する。 （もっと読む）

【課題】カソード電極、高周波増幅器および加速器を自動でエージングする。
【解決手段】エージング装置２００は、設定値テーブル２３０を記憶するパラメータ記憶部２１６と、設定値テーブルに基づいて初期値から定格値まで段階的に設定値を変更するパラメータ設定部２５０と、パラメータ設定部が変更した設定値に基づいて、電力供給部による電力供給処理を制御する電力制御部２５２と、各ユニットのうちの少なくとも１つのユニットにおいて、予め設定されたエラー判定条件を満たしたか否かを判定するエラー判定部２５４と、エラー判定条件を満たしたと判定されると、電力供給部による電力供給処理を停止させる停止処理を実行する停止制御部２５６と、を備え、パラメータ設定部は、停止処理が実行された場合に、パラメータの設定値を、停止処理の実行時における設定値よりも前段階のいずれかの設定値に変更する。 （もっと読む）

【課題】ユーザに煩雑な作業を強いることなく、電子線の照射領域において、確実に被照射物同士を密接させて搬送する。
【解決手段】電子線照射システム１００は、被照射物Ｗに電子線を照射する電子線照射装置２００と、被照射物を搬送するとともに、電子線照射装置によって被照射物に電子線が照射される領域である照射領域Ｒに被照射物を通過させる第１搬送装置３１０と、第１搬送装置よりも被照射物の搬送方向上流側に設けられ、第１搬送装置の搬送速度Ｖ１よりも速い搬送速度Ｖ２で被照射物を搬送するとともに、第１搬送装置に被照射物を搬出する第２搬送装置３２０と、第２搬送装置に被照射物を送出する送出部３７０と、被照射物に応じて、搬送速度Ｖ１、搬送速度Ｖ２、および、送出間隔ＰＴを制御する制御装置３９０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】電子線の照射領域において、電子線に対する被照射物の移動方向を工夫することで、被照射物における電子線の照射面を増加させる。
【解決手段】電子線照射装置２００は、被照射物Ｗに電子線を照射する電子線照射部（電子銃２１０、プリバンチャ２１６、加速器２１８、スキャンホーン２２０）と、電子線照射部によって被照射物Ｗに電子線が照射される領域である照射領域Ｒにおいて、電子線の照射方向に対して９０度未満の角度で回転軸を交差させて被照射物Ｗを回転させる回転装置２５０とを備える。 （もっと読む）