説明

国際特許分類[H01J37/252]の内容

電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | 電子管または放電ランプ (32,215) | 放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの (7,637) | 電子またはイオンによるスポット分析のための管;マイクロアナライザー (90)

国際特許分類[H01J37/252]の下位に属する分類

国際特許分類[H01J37/252]に分類される特許

41 - 50 / 85


【課題】コンタミネーションによる分析誤差を回避し、観察データや分析データの信頼性を向上させることができる電子顕微鏡を提供することにある。
【解決手段】
荷電粒子線装置は、荷電粒子線を集束させて試料に照射する対物レンズを有する照射系と、荷電粒子線を偏向走査する偏向走査系と、荷電粒子線の照射により試料から発生する信号を検出して走査像を生成する走査像生成系と、を有する。試料の分析を開始する前に得た第1の画像と試料の分析を開始した後に得た第2の画像を比較する。それによって、試料の像の変化が観測されたら、試料の表面にコンタミネーション被膜を生成するコンタミネーション被膜の生成処理を行う。 (もっと読む)


【課題】二次電子放出量を正確に測定できる表面分析装置を提供する。
【解決手段】赤外線ランプ30によって裏面から加熱した試料21に、グラウンド電極に電流が流れないように径を絞ったイオンビーム5を照射する。グラウンド電極15とコレクタ電極18の間に配置した制御電極に負電圧を印加し、試料21から放出した二次電子だけをコレクタ電極18で捕集するようにする。試料21がチャージアップした場合、サプレッサ電極12の電圧を調節し、試料21に電子を照射し、正電荷を中和する。二次電子放出比を正確に求めることが可能になる。 (もっと読む)


【課題】厚さが厚い試料の分析に好適でかつ凹部の形状が鮮明な画像を得ることができる試料分析装置を提供する。
【解決手段】本発明の試料分析装置は、表面に部分的に凹部が存在するウエハ18に合焦位置を変更可能にして荷電粒子を照射する照射系と、荷電粒子の照射に基づきウエハ18の表面側から得られたルミネッセンスを集光する回転楕円反射鏡17と、回転楕円反射鏡17に導かれたルミネッセンスを検出する光検出器33と、ウエハ18の表面から反射された反射荷電粒子を検出する荷電粒子検出器25と、荷電粒子検出器25の検出信号に基づき凹部の位置を求める信号処理部24とを備え、照射系により荷電粒子を凹部に照射するときに、信号処理部24は光検出器33の検出信号に基づいて荷電粒子の合焦位置を調整する。 (もっと読む)


【課題】簡単な構成でありながら電子顕微鏡による高分解能観察及びカソードルミネッセンスの高分解能観察を可能としたカソードルミネッセンス測定装置を提供することである。
【解決手段】試料Wに電子線EBを照射して生じるカソードルミネッセンスCLを測定するカソードルミネッセンス測定装置1であって、前記電子線EBを収束して前記試料Wに照射する電磁型対物レンズ75と、前記電子線EBが照射された試料Wから生じるカソードルミネッセンスCLを集光する集光ミラー部411と、を備え、前記集光ミラー部411が、前記電磁型対物レンズ75の試料W側の端部よりも上方に設けられており、前記電磁型対物レンズ75の漏洩磁場が前記試料Wに印加されることを特徴とする。 (もっと読む)


インターフェース、走査型電子顕微鏡、および非真空環境内に配置される物体を観察する方法が提供される。本方法は、真空環境内で発生される少なくとも1つの電子ビームに、アパーチャ・アレイの中から少なくとも1つのアパーチャ、および少なくとも1つのアパーチャを密閉する少なくとも1つの超薄膜を通過させる段階であって、少なくとも1つの電子ビームが物体の方に向けられ、少なくとも1つの超薄膜が真空環境と非真空環境との間の圧力差に耐える段階と、少なくとも1つの電子ビームと物体との間の相互作用に応答して発生した粒子を検出する段階と、を含む。 (もっと読む)


【課題】本発明はX線分光器に関し、遮蔽板の調整を確実かつ正確に行なうことができるX線分光器を提供することを目的としている。
【解決手段】電子顕微鏡に搭載されたX線分光器であって、試料から発生した特性X線を回折格子7に導き、該回折格子7で分光したX線の強さを検出してX線分析を行なうX線分光器3において、X線分光器3内に入射される分光X線の内、0次光X線12を遮蔽する0次光遮蔽板13と、該0次光遮蔽板13をX線検出器5のX線分光方向に移動する移動機構と、該移動機構にX線分光器内の真空状態を保持するための保持手段を設けて構成される。 (もっと読む)


【課題】ラインスキャン方式において、電子ビームの位置ずれを補正して正確な二次元マッピング画像を得る。
【解決手段】ビーム走査部により電子ビームで試料表面の所定の領域を走査して得られた二次元画像の1つを参照画像として記憶しておき、予め設定された本数のラインスキャンごとにビーム走査部を駆動させて二次元画像を得、参照画像記憶部に記憶されている参照画像と比較して電子ビームのズレ量を算出する。その算出されたズレ量に基づいて偏向レンズにより電子ビームの位置を補正する。 (もっと読む)


【課題】振動による像障害の評価、管理や影響を低減するための調整を容易に行えるようにするのに好適な走査型荷電粒子線装置、その像表示方法、および走査型顕微鏡を提供する。
【解決手段】1画像を取得する期間に相当する垂直走査信号の周期を、正弦波状の振動において1周期の中の前半の半周期(第1の期間)と後半の半周期(第2の期間)であるようにした。それぞれの画像の差異を比較できるように、画像をインターレース走査表示の奇数フィールドと偶数フィールドに表示できるようにした。これにより、同じ視野に対して、第1の期間および第2の期間に取得した画像同士を比較することで、振動によって像が揺れる方向と大きさを同時に表示することができる。 (もっと読む)


【課題】イオンビームの先端及び/もしくは後端にかける電位を変化させることで,イオンビームを圧縮或いは伸張させることのできる飛行イオンビーム制御装置及び方法或いは,上記イオンビームの長さ△tを電子的制御により短くすることで,エネルギー分解能を高めることのできる散乱イオン分析装置を提供すること。
【解決手段】分析対象物に向けて飛行するイオンビームの飛行経路に,上記イオンビームが通過するパルス圧縮電極と,該パルス圧縮電極との間に所定の間隔をあけて上記イオンビームが通過する接地電極を設け,上記パルス圧縮電極に与える電位を,そこを通過するイオンビームの位置に応じて変化させるようにしたことを特徴とするイオンビームの飛行制御装置。 (もっと読む)


【課題】分析点の位置合わせを精度よく行うための浅い焦点深度及び高倍率観察と、薄片試料の分析点探しを透過光学像によって行うときの広い視野及び低倍率観察という両方の要求を満たす光学観察系を備える電子プローブマイクロアナライザの提供。
【解決手段】 分析点の位置合わせを精度よく行うための反射光学像の観察は、落射照明装置S3と観察装置K2と有孔反射対物レンズ10とこれらを結ぶ光路に配置された光学機構を用いる。広い視野及び低倍率を要求される透過光学像を観察する場合は、観察装置K3とOMが備えている落射照明装置S3と有孔反射対物レンズ10とこれらを結ぶ光路に配置された光学機構を利用する。 (もっと読む)


41 - 50 / 85