【課題】１台の装置で二次電子放出像及び透過電子像の双方の像の取得を行うことができる荷電粒子ビーム装置を提供する。
【解決手段】試料保持手段５に保持された試料６の表面に集束レンズ２を介して荷電粒子ビーム８が照射され、これにより試料６の裏面側から発生した二次電子９が加速電極７によって下流側に加速され、該加速された二次電子９が対物レンズ３及び結像レンズ４を介して検出手段１０に到達し、これにより検出手段１０上で結像された二次電子放出像の検出を行うことができるとともに、対物レンズ３及び結像レンズ４の励磁条件を切り替えることによって、試料６からの透過電子を検出手段１０上に結像させ、これによる試料６の透過電子像の検出を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】直流超高圧電源、直流加速管及び多数の超高圧用電磁レンズを使用しなくても、超高圧に加速された電子線による試料観察が可能な対物レンズ系及び電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】電磁レンズからなる１対の対物レンズ（対物前方電磁レンズ２ａ，対物後方電磁レンズ２ｂ）の入射側に、マイクロ波空洞からなるマイクロ波加速器３を配設すると共に、出射側にマイクロ波空洞からなるマイクロ波減速器４を配設する。そして、これらマイクロ波加速器３及びマイクロ波減速器４の空洞に、高周波電力源５から導波管６を介して、相互に位相が異なるマイクロ波を供給する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、試料を透過した電子を用いて観察するＴＥＭやＳＴＥＭ、或いはＳＥＭにおいて、画像のサブミクロンから数１０μｍの微小寸法を高い精度で測定可能にする荷電粒子線用標準試料及びそれを用いる荷電粒子線装置を提供することにある。
【解決手段】本発明では、上記目的を達成するために、倍率、或いは寸法校正のための異なる２つの試料が含まれている荷電粒子線用標準試料及びそれを用いる荷電粒子線装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 印加電圧当たりの電子線の偏向角が大きな電子線バイプリズムを提供する。
【解決手段】 光軸方向に電子線バイプリズムのフィラメント電極を多段に重ねることにより、それぞれのフィラメント電極がもつ偏向の効果を重ね合わせ、全体として電子線に大きな偏向角を与える。 （もっと読む）

【課題】純粋な透過情報を得ながら、観察領域に自由度を与え、さらに最適化した照射条件により、精度の高い干渉像を高い倍率で得ることを目的とする。
【解決手段】電子源１から発せられた電子線は収束レンズ3の下に配備されたバイプリズム１１によって分離され、試料を透過する電子線６、真空を通過する電子線７として対物レンズ４に入る。電子線は、対物レンズ４の前磁場で曲げられ、試料位置と真空をそれぞれ適当な距離はなれた状態で、平行ビームにて照射する。 （もっと読む）

【課題】機械的強度を維持しつつ微細孔を形成することができ、ＴＥＭの制限視野電子回折像観察に好適な制限視野絞りプレート及びその製造方法等を提供する。
【解決手段】機械的強度を確保した電子線を遮蔽する数10 μm以上の厚さのタンタル、モリブデンなどの単一材料で構成された絞りプレート11に、FIB加工により予備加工領域16(2μm以下)を形成し、次に1μm以下の微細孔15を形成する。この微細孔15の側壁部をシャープかつ非テーパー状に形成することで、200keVないし300keVの高エネルギー電子線でも透過しないようにした。 （もっと読む）

【課題】磁場界浸型Cold-FE電子銃において、長時間の観察においても電子銃や電子光学系の再調整の必要が無く、効率のよい観察を可能とする。
【解決手段】永久磁石を備えた磁路を持ち収束作用を有する磁石レンズ１２０と電子源１０１を備える電子銃１の周辺または内部にゲッターポンプ１６aを備えることで電源を必要とする真空ポンプの設置を不要とし、電子銃１内部の真空度を高く維持する事により、電子源１０１を清浄化しプローブ電流の回復機能を持たせ、電子光学系の再調整を不要とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、サンプルの中を通り抜けた電子を検出する複数の検出器を提供する。
【解決手段】 検出器は、望ましくは、電子のエネルギーに従って電子を分離するプリズムの中をそれらの電子が通り抜けた後に、それらを検出する。異なるエネルギー範囲における電子は、次に、異なる検出器によって検出され、望ましくは、それらの検出器の少なくとも1つは、電子がサンプルの中を通り抜けるときにそれらによって失われるエネルギーを測定する。本発明の一実施形態は、コア・ロス電子においてEELSを提供する一方、ロー・ロス電子からの明視野STEM信号を同時に供給する。 （もっと読む）

【課題】透過電子顕微鏡において、試料の透過像をディスプレイにリアルタイムに表示するとともに、試料ドリフトによる視野ずれの自動補正を行う。
【解決手段】透過電子顕微鏡を制御するコンピュータが、試料の透過像をディスプレイへ表示させるための表示用画像メモリの他に、透過像の位置の移動を算出するための画像処理用メモリを少なくとも２個備え、画像処理用メモリに保持された画像から透過像の位置の移動を算出し、試料の位置を変えて視野ずれを補正するための視野補正装置へ補正信号を送信する演算ユニットを備える。 （もっと読む）

【課題】集束イオンビームで形成した観察面に荷電粒子ビームを照射し、観察像を取得し、観察面を保持したまま、さらに透過可能になるように薄片化加工を行うことで、同一観察位置のＴＥＭ観察と二次粒子像観察を図ること。
【解決手段】集束イオンビーム３を試料５に照射し観察面を形成し、電子ビーム４を観察面に照射し、観察像を形成し、試料５の観察面と反対側の面を除去し、観察面を含む薄片部５ｔを形成し、薄片部５ｔの透過電子像を取得する試料加工観察方法を提供する。 （もっと読む）