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国際特許分類[H01L21/67]の内容

電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | 半導体装置,他に属さない電気的固体装置 (445,984) | 半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置 (183,847) | 製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置 (11,346)

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【課題】チップをピックアップする際に加えられる応力負荷を低減でき、チップの破壊を防止できるピックアップ方法及びピックアップ装置を提供する。
【解決手段】粘着シートに貼り付けられているチップに第1の吸着部を近づけて接触させるとともに、粘着シートに接触する接触面に凹部が形成されている第2の吸着部を粘着シートに近づけ、第1の吸着部と対向するように粘着シートに第2の吸着部を接触させる第1のステップS11〜S13と、粘着シートに接触している第2の吸着部により粘着シートを吸引するとともに、粘着シートとチップとの間に注入部により流体を注入することによって、チップの凹部に対向する部分から粘着シートを剥離する第2のステップS14〜S17と、第1の吸着部によりチップを吸着している状態で、粘着シートから第1の吸着部を遠ざけることによって、チップをピックアップする第3のステップS18とを有する。 (もっと読む)


【課題】FOUP内にウェーハを出し入れする際に、設置時における水平バランスの不的確さに起因するFOUP又はウェーハとの不意な干渉を防止することが可能なロードポートを提供する。
【解決手段】マッピング装置Mを、高さ方向に移動可能な昇降部6と、昇降部6に接続され且つ先端部にセンサ部8を設けた進退部7とを用いて構成し、進退部7をFOUPx内にセンサ部8を進入させてウェーハWを検知可能とするマッピング位置(P2)と先端部をFOUPx外に退避させた状態とする退避位置(P1)との間で移動可能とするとともに、進退部7をマッピング位置(P2)よりも先端部をFOUPx内に進入させてウェーハWを載置可能とする載置位置(P3)に移動可能とし、この進退部7及び昇降部6を用いてウェーハWをFOUPx内とウェーハ搬送室B内との間で移送する移送装置Hを構成したロードポート1とした。 (もっと読む)


【課題】 より確実なピックアップが可能な半導体装置の製造装置、半導体装置のピックアップ方法、半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 一方の面に複数のチップ2が貼着され、複数のチップ2を囲むようにウェハリング4が形成されているウェハシート3を他方の面側から複数のチップ2を囲むように支持するウェハ支持部材5と、ウェハリング4を保持しながらウェハ支持部材5との間で相対的に昇降可能に設けられたシート張設機構6と、シート張設機構6により張設されたウェハシート3上のチップ2をピックアップするピックアップ機構7とを含んで備える半導体装置の製造装置1であって、シート張設機構6は、ウェハリング4を保持する保持部材12と、保持部材12を支持する保持部材支持具13とを有し、シート張設機構6とウェハ支持部材5との相対的な昇降動作は、トルク制御可能な駆動材構を制御することにより行われていることを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】半導体ウェーハの支持構造を効率的に検討し、検討に要する時間を短縮できる半導体ウェーハの支持構造検討装置を提供する。
【解決手段】半導体ウェーハよりも大きいベース板10に、半導体ウェーハの周縁部に干渉するサポート具20を設けた支持構造検討装置であり、ベース板10に、半導体ウェーハの周縁前部に対して進退動可能なスライダ12を配置する。また、サポート具20を、半導体ウェーハの周縁後部を挟持する第一のサポート具21と、半導体ウェーハの周縁両側部を支持する第二のサポート具30と、半導体ウェーハの周縁前部を挟持する第三のサポート具32とから構成し、ベース板10とスライダ12のいずれか一方には、スライダ12の進退動量を検出する変位検出器40を設置し、スライダ12に、第一、第三のサポート具21・32に挟持された半導体ウェーハ用の荷重検出器41を設置する。 (もっと読む)


【課題】光透過性の高い基板を使用する場合であっても、基板の配設状態を検知可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板を処理する反応室と、前記基板が載置された基板ホルダを保持すると共に基板処理中前記反応室内に配置される基板保持具12と、前記基板が前記基板ホルダに載置された状態で該基板ホルダの搬送を行う基板移載機11とを具備し、基板移載機11は前記基板ホルダを保持するアーム13と、光を投光する第1の投光部と該第1の投光部から投光された光を受光する第1の受光部を有する第1のファイバセンサとを有し、該第1のファイバセンサはアーム13が正常に前記基板ホルダを保持している場合に、前記第1の投光部と前記第1の受光部との間に前記基板ホルダが位置する様に配置される。 (もっと読む)


【課題】半導体集積回路装置の製造工程のうちの組立工程におけるダイシング後のチップのピックアップ工程では、急速なチップの薄膜化によって、ピックアップ不良の低減が重要な課題となっている。特に、剥離動作によるチップ周辺部の湾曲がチップの割れ、欠けを惹起する可能性が高い。
【解決手段】これらの課題を解決するための本願発明は、ダイシング・テープ(粘着テープ)等からチップを吸引コレットで真空吸着して剥離する場合において、吸引コレットの真空吸着系の流量をモニタすることで、チップが粘着テープから完全に剥離する以前のチップの湾曲状態を監視するものである。 (もっと読む)


【課題】外寸が同じ基板保持具に観察試料として異なるサイズの基板が搭載される場合であっても、搭載される基板の違いにかかわらず、基板の未搭載や異常搭載を正確にセンサに検出させる。
【解決手段】ホールダ50上の、ウェーハ2Sが正常に置かれる規定領域部分P以外の規定外領域部分Qに、異常搭載されたウェーハ2Sが乗り上げる傾き検出用ピン51を立設配置し、異常搭載されたウェーハ2Sの姿勢状態を、ホールダ50へのウェーハ2の異常搭載を検出するウェーハ傾きセンサ47が検出可能な姿勢状態にする。 (もっと読む)


【課題】装置がX方向に大きくなってしまうことを抑制することが可能な実装機を提供する。
【解決手段】この実装機100は、基台1と、ベアチップを保持可能に構成されているとともに、基台1に対してY方向に移動可能なウエハ保持テーブル5と、ウエハ保持テーブル5に保持されたベアチップを下方から突き上げる機構を有し、基台1に対して少なくともX方向に移動可能な突上げ装置7と、突上げ装置7により突き上げられたベアチップを吸着する機構を有し、基台1に対して少なくともX方向に移動可能である取出装置6と、取出装置6からベアチップを受け取るとともに、ベアチップをプリント基板Pに実装するヘッドユニットとを備えている。 (もっと読む)


【課題】ポッドオープナでのウエハの位置ずれを検出可能とする。
【解決手段】ポッドのドアを開閉するポッドオープナ20のウエハ出し入れ口50にロータリーアクチュエータ60を設置し、ロータリーアクチュエータ60のアーム61にブラケット62によってマッピング装置とウエハ位置ずれ検出装置とを設置する。ウエハ位置ずれ検出装置は複数個の限定反射形センサにより構成し、各限定反射形センサは投光部と受光部とを略同じ方向を向いてウエハに非接触に配置し、投光部からの検出光がウエハの外周面で反射し、反射光が受光部によって受光されたか否かで、ウエハの位置ずれの有無を判断するように構成する。ウエハの位置ずれを検出することで、ウエハ移載装置のツィーザがウエハに衝突する事故を未然に防止できる。 (もっと読む)


【課題】ベアチップを取出すためのヘッド等の位置決め精度を高度に保つ。
【解決手段】Y軸方向にのみ移動可能なウエハステージ20に支持されたベアチップを移動カメラ50により画像認識した後、X軸方向にのみ移動可能な突上げヘッド30により突上げ、このベアチップをウエハヘッド42a,42bにより保持して搬送する。この動作の前に、ウエハステージ20に設けられるマークを移動カメラ50により撮像する工程と、移動カメラ50を移動させるときのX軸方向の基準座標をその撮像結果に基づいて定める工程と、突上げヘッド30に設けられるマークを移動カメラ50により撮像する工程と、移動カメラ50を移動させるときのY軸方向の基準座標、及び突上げヘッド30を移動させるときの基準座標をその撮像結果に基づき定める工程と、ウエハステージ20を移動させるときの基準座標を前記両撮像結果に基づいて定める工程とを実行する。 (もっと読む)


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