【課題】複数枚の絶縁層被覆単結晶半導体基板に対して効率よくイオン注入を行い、大面積の単結晶半導体層を備えた半導体基板の作製方法を提供することを課題の一とする。
【解決手段】半導体基板の作製工程において、表面のファンデルワールス力を調整した保持用トレイに表面に絶縁層が形成された複数枚の単結晶半導体基板を貼り合わせ、複数枚の単結晶半導体基板にイオン照射工程を行うことで複数枚の単結晶半導体基板の所定の深さに脆化層を形成し、複数枚の単結晶半導体基板にファンデルワールス力を調整したベース基板を貼り合わせることでファンデルワールス力の差を利用して保持用トレイを選択的に分離し、剥離加熱処理を行い劈開面を形成して単結晶半導体基板をベース基板から分離することにより、絶縁層を介して単結晶半導体基板をベース基板に転載する。 （もっと読む）

【課題】スタッカクレーン走行時においても側方へ押し退けられる塵埃を含んだ空気流がポートエリア内に流れ込まないようにしてカセットを汚染することなく高速で搬送できるようにしたカセットストッカを提供すること。
【解決手段】スタッカクレーンエリアＳａを走行するスタッカクレーンＫの走行台車側部位置で、かつポートエリアＳｂ下方位置にスタッカクレーンエリアＳａ下部と互いに導通するようにして、スタッカクレーンＫの走行時に発生した塵埃をダウンフローと一緒に吸収するようにしたエアーチャンバＣを、スタッカクレーンＫの走行方向に沿って設置する。 （もっと読む）

【課題】隣接基板またはキャリア内壁との間に支持材を入れることにより、基板の貼り付きを容易かつ確実に防止して基板表面の清浄度を保つ。
【解決手段】基板搬送用キャリア１において、複数枚の基板３のうちの隣接基板間およびキャリア内壁面と基板３間に、基板貼り付き防止用の球状の支持部材６が配設されている。この球状の支持部材６は、互いに対向するキャリア側板５の隣接溝部５１間にそれぞれ接続されて、基板３の高さ方向中心部とその上部に対応する上下位置にそれぞれ設けられている。このため、洗浄処理時や乾燥処理時に、キャリア溝ピッチ以上に基板３が反っても、基板３同士の貼り付きやキャリア内壁と基板３との貼り付きが防止される。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板包装用ボックスを発泡性材質で構成することによる利点が得られると共に、有機物とその他異物の転写による基板の汚れ及び微細なスクラッチを防止でき、ボックスの再使用のための洗浄を簡便、かつ、完壁に行うことができる。
【解決手段】表示装置ガラス基板包装用ボックスは、ボックス本体１０とスロットプレート２０とを含んでいる。スロットプレート２０は、ボックス本体１０と分離構成された板状部材からなる。前記板状部材の両側高さ方向の隅部は、スロットプレート挿入溝１２ａ〜１２ｄに乗って上昇、下降し、ボックス本体１０に着脱式で結合される。ボックス本体１０は、発泡性樹脂材質で発泡形成され、スロットプレート２０は、ＰＥＴ、非晶質ＰＥＴ（Ａ−ＰＥＴ）又はＰＥＴ−Ｇ樹脂で形成されている。 （もっと読む）

【課題】ウェハーを横方向で収容した状態で確実に保持できるウェハーキャリヤを提供する。
【解決手段】容器とドアとを有するウェハー容器はウェハーの横方向の最小接触での支持を与え、また、前縁支持と後縁支持との間の一つの面的な支持を伴うことなく縦方向の支持を与える。ウェハーキャリヤは各ウェハーに対して互いに軸方向にずれた２つの異なる支持レベルを有している。第１の支持レベルは各ウェハーの左側及び右側において底面と接触するウェハー棚によって得られる。第２の支持レベルはウェハーを左側及び右側の縁部における一つの面的な支持を伴うことなく前縁及び後縁においてウェハーを保持するクッションによって与えられる。 （もっと読む）

【課題】サポートプレートの洗浄後に廃溶液を発生させること無く、且つ安価に処理することが可能なサポートプレートの洗浄方法を実現する。
【解決手段】サポートプレート７にドライアイス粒子４を接触させて、サポートプレート７に付着した有機物および金属を除去する二酸化炭素ブラスト処理工程を含み、サポートプレート７は、基板が剥離された後のサポートプレートである。 （もっと読む）

【課題】 輸送中の発塵が極めて少なく、収納したペリクルが清浄に保たれる大型のペリクルを収納するペリクル収納容器を提供する。
【解決手段】 少なくともひとつの辺長が１０００ｍｍを超えるペリクルを収納する大型のペリクル収納容器であって、ペリクル収納容器本体は金属製であるとともに、周縁で載置・固定する蓋体が接触する該ペリクル収納容器の表面に、保護部材が設けられ、ペリクル収納容器本体と蓋体とは該保護部材を介して載置・固定することを特徴とする。前記保護部材は、少なくとも２層からなっており、その蓋体と接する層（上層）は樹脂であり、ペリクル収納容器本体と接する層（下層）はシリコーン粘着剤であることが好ましく、中間層として弾性体層を有することがさらに好ましい。 （もっと読む）

【課題】ボトムプレートをシェルに取り付けたとき、あるいは、ボトムプレートをシェルから取り外したときに、確実な稼働を達成でき、途中で止まることのないリテーナ機構を備えた基板収納容器を提供する。
【解決手段】ボトムプレートと、ボトムプレートに載置され基板を並設配置させるカセットと、カセットを被ってボトムプレートに係合されるシェルと、シェルの内壁に取り付けられるリテーナ機構とを備えて構成される。リテーナ機構は、互いに傾斜面で当接して配置されたスライドパーツとリテーナとを備えて構成される。スライドパーツがボトムプレートから離れる方向へ移動でき、この際に、リテーナは前記傾斜面から力を受けカセットに近接する方向へ移動できるように構成されている。リテーナには、カセットに配置された各基板に接触し各基板を保持する基板保持部を備える。 （もっと読む）

【課題】ウエーハなどの保管対象物をより良い条件で保管可能なシステムおよび方法を提供すること。不活性ガスの消費量を削減可能なシステムおよび方法を提供すること。
【解決手段】保管対象物２を密閉状に収納可能で、内部から外部への気体の移動と外部から内部への気体の移動とを許す制御ポート４ａ，４ｂを備えた保管容器４と、保管容器４を収納する真空チャンバーＣｎと、真空チャンバーＣｎと真空減圧装置Ｐ，５とを接続する排気経路Ｒｄｎと、真空チャンバーＣｎと不活性ガス供給手段７とを接続する不活性ガス供給経路Ｒｐｎとを備え、真空チャンバーＣｎ内を真空に保持する真空保管モードと、保管容器の出庫に際して、真空チャンバーＣｎと保管容器４とを不活性ガスで満たすべく対応する不活性ガス供給経路Ｒｐｎを開放状態にする出庫準備モードとを有する保管システム。 （もっと読む）

【課題】パターン倒れや汚染の発生を抑えつつ被処理基板を乾燥することの可能な基板処理装置等を提供する。
【解決手段】載置部４２には、パターンの形成された面を上面として、当該上面が液体により濡れた状態で被処理基板Ｗが横向きに載置され、基板搬送機構４１は、載置台４２からこの被処理基板Ｗを受け取って、液槽３２内の液体中に浸漬するにあたり、前記パターンの形成領域の上端が当該液体に接触した時点において、このパターン形成領域の上端の板面に液体が残るように当該被処理基板Ｗを縦向きの状態に変換してから液体に浸漬する。処理容器３１では、この液槽３２を内部に格納した状態で、当該液槽３２内の液体を超臨界状態の流体に置換することにより、被処理基板Ｗを乾燥する処理が行われる。 （もっと読む）