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国際特許分類[H01L31/04]の内容

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【課題】環境負荷を増大させず、かつZnS系バッファ層にダメージを与えずに、ZnO系電極を形成した受光素子を提供する。
【解決手段】下部電極4上に、光吸収層3、ZnS系バッファ層、ZnO系電極層1が形成されている。ここで、ZnO系電極層1は、Ar成分が含まれていないことを特徴とする。また、ZnO系電極層1は、ラマン分光法によるラマン散乱強度のピークがラマンシフト400/cm−1〜500/cm−1の間に存在するように形成されている。 (もっと読む)


【課題】固体型の色素増感型太陽電池において、太陽電池特性をより高める。
【解決手段】色素増感型太陽電池40は、光が透過する透明基板11の表面に透明導電膜12が形成されている透明導電性基板14と、透明導電性基板14の透明導電膜12に直接形成されている電子輸送層としての多孔質半導体層24と、多孔質半導体層24に隣接して設けられた固体の正孔輸送層としての固体p型半導体層26と、固体p型半導体層26及びセパレータ29を介して設けられた対極30と、を備えている。光電極20は、透明導電膜12が形成された透明導電性基板14と、透明導電膜12に配設され受光に伴い電子を放出する多孔質半導体層24と、多孔質半導体層24の上に形成された酸化チタン膜50と、酸化チタン膜50の上に形成された色素層52と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】上層に形成される光電変換層の欠陥発生を抑制するとともに薄膜光電変換装置の光電変換効率を向上可能な薄膜光電変換装置用基板の製造方法を得ること。
【解決手段】基板2上に電極膜3を形成する第1工程と、前記電極膜3の表面に第1の凹凸4を形成する第2工程と、前記第1の凹凸4の表面にエネルギービーム6を照射することにより前記第1の凹凸4の斜面に前記第1の凹凸4よりも凹凸周期が短い第2の凹凸5を形成する第3工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】不純物量が少なく、かつ、不純物量のばらつきが小さいシリコンインゴットを製造することができるシリコンインゴット製造装置を提供する。
【解決手段】坩堝20の上に載置される蓋50を有し、蓋50の平面中心近傍に不活性ガス手段が接続されており、蓋50は、坩堝20の側壁22上端面に載置される載置部51と、坩堝20の側壁22外縁から外側に突出した庇部52と、厚さ方向に貫通した開口部53と、を有し、庇部52は、坩堝20の側壁22上端外周縁の10%以上の領域の外周側に配置され、かつ、側壁22上端外縁からの突出長さが50mm以上とされており、開口部53は、坩堝20の側壁22上端内縁から100mm以内の領域に形成されており、開口部53による坩堝20の上端内側領域の露出面積の合計が、坩堝20の上端内側領域全体の面積の1.5%以上10%以下とされている。 (もっと読む)


【課題】表面保護層の機械的強度、衝撃強度が高く、かつ軽量であり、しかも低コストに製造することができる薄膜太陽電池モジュールの製造方法を提供する。
【解決手段】太陽電池モジュールの製造方法は、太陽電池サブモジュールの表面側に接着充填材、水蒸気バリアフィルム、第1の接着充填層および表面保護層となるプラスチックシートを積層して配置するとともに、太陽電池サブモジュールの裏面側に第2の接着充填層および裏面保護層を積層して配置する工程と、複数層、積層配置された状態で真空ラミネートする工程とを有する。表面保護層となるプラスチックシートを配置する前に予め熱処理する工程と、プラスチックシートの第1の接着充填層と接する側の面をコロナ処理する工程と、プラスチックシートのコロナ処理された面にプライマーを塗布する工程とを備え、このプラスチックシートはプライマーが塗布された面を第1の接着充填層に向けて配置される。 (もっと読む)


【課題】光照射によって発生した電力を外部に取り出す際の抵抗損失が少なく、さらに、入射面の開口率が高く、入射する光を有効に利用でき、しかも優れた光電変換特性を得ることができる色素増感太陽電池などの光電変換素子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板1の一主面に透明電極2が設けられ、この透明電極2が設けられている透明基板1の面上には集電配線保護層9を備えた集電配線8が所定間隔を置いて設けられており、透明基板1の集電配線8が設けられた側の面には多孔質電極3が設けられている構造を有する色素増感光電変換素子において、透明基板1の集電配線8が設けられている面とは逆側の面である光入射側の面には、凸型立体形状を有する光導波構造11を設ける。 (もっと読む)


【課題】高いエネルギー変換効率を有する光起電力素子及び当該光起電力素子の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板、裏面電極層、カルコパイライト構造を有する化合物からなるp型半導体光吸収層、前記p型半導体光吸収層とpn接合を形成可能な透明n型バッファ層、及びIn及びZnO、並びにAl、Ga、B、Zr、Hf及びTiからなる群から選択される1以上の元素の酸化物を含む酸化物薄膜であって、特定の原子比を満たす酸化物膜である透明電極層をこの順に備え、前記p型半導体光吸収層及び透明n型バッファ層を貫通し、前記裏面電極層の一部を露出させる溝を有し、前記透明電極層が前記溝を充填して裏面電極層と接する光起電力素子。 (もっと読む)


【課題】基板に塗布液を塗布して所定のパターンを形成するパターン形成技術において、異形基板に効率よくパターン形成を行うことのできる技術を提供する。
【解決手段】基板に対する走査移動方向に直交する方向(Y方向)に沿って、塗布液を吐出する吐出ノズル523を列状に並べた第1ノズル体52と、ボールねじ機構740によりY方向位置を変更可能な1対の吐出ノズル723を有する第2ノズル体72とを有する。第1ノズル体52からの塗布液の吐出により互いに平行で同一長さの複数のパターンを形成する一方、これとは長さの異なるパターンについては、第1ノズル体52とは独立したタイミングで塗布制御される第2ノズル体72により行う。 (もっと読む)


【課題】バリア性が向上したバリア層を提供する。
【解決手段】水分、酸素、他のガス、溶媒及び揮発性有機化合物の透過性を防ぐことができるバリア層102であって、バリア層102は、全ての方向に波状表面プロファイルを含み、非波状表面、直線及び鋭いエッジが存在しない。さらに、表面プロファイルは、熱応力、メカニカル応力、及び隣接した基板又は層の変形によって生じる負荷の少なくとも1つに応答して屈曲する。これにより、バリア層102がバリア層102の表面に沿った面プロファイルでの全ての方向で伸縮し、バリア層の割れを防止することを可能にする。 (もっと読む)


【課題】光電変換装置における光電変換(発電)に寄与する半導体層の面積を増加させ得る光電変換装置を提供する。
【解決手段】光電変換装置は、(A)第1基材21及び第2基材22、(B)第1基材21と第2基材22との間に、第1基材側から、順次、設けられた、半導体層31、第1基材と対向する第1面51a及び第2基材と対向する第2面51bを有する第1集電体51、電解質層41、触媒層32、並びに、第2集電体61を備え、第1基材21と第2基材22とは外縁部において封止されており、第1集電体51は、多数の貫通孔が設けられた導電材料から成り、第1集電体51の第1面51a上に形成された半導体層の厚さ方向の一部は、第1集電体51に設けられた貫通孔に侵入している。 (もっと読む)


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